JPH0197665A - 通電転写ヘツド - Google Patents

通電転写ヘツド

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Publication number
JPH0197665A
JPH0197665A JP25356087A JP25356087A JPH0197665A JP H0197665 A JPH0197665 A JP H0197665A JP 25356087 A JP25356087 A JP 25356087A JP 25356087 A JP25356087 A JP 25356087A JP H0197665 A JPH0197665 A JP H0197665A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transfer head
polyimide film
copper foil
electrode
silicone rubber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25356087A
Other languages
English (en)
Inventor
Yukihiro Ueishi
上石 幸拓
Kunio Ikeda
邦夫 池田
Takashi Ogaki
傑 大垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP25356087A priority Critical patent/JPH0197665A/ja
Publication of JPH0197665A publication Critical patent/JPH0197665A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/05Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing of the conductive pattern

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、通電転写方式による画像形成装置に使用され
る印刷ヘッドに関し、より詳細には、小型ファクシミリ
、携帯用画像形成装置に適用し得る通電転写式印刷ヘッ
ド(通電転写ヘッド)に関するものである。
〔従来技術〕
従来、通電転写方式による画像形成装置に用いられる印
刷ヘッドは、複数の電極ピンを平面的に且つ平行に形成
した多針電極であり、特公昭59−18226号公報、
特公昭60−56317号公報、特公昭60−7877
1号公報、特公昭60−85971号公報、特公昭60
−162661号公報等に、その構成、製造方法が開示
されているが、何れの発明もコスト的に有利な具体的構
成、製造方法を示すものではない。
【目的〕
本発明は、この様な前景に基づいてなされたものであり
、コストダウンと同時に画質向上が図れる通電転写ヘッ
ドを提供することを目的とする。
(構成〕 そのために本発明は、銅箔付ポリイミドフィルム上のw
4箔をエツチング加工し、この上にニッケルを電析して
平行電極を形成し、ポリイミドフィルムをシリコンゴム
又はアルミ金属粉を混合したシリコンゴムからなる弾性
体で支持基板に接合し、さらに電極先端に画素に対応し
た面取りを形成したことを特徴とするものである。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明の一実施例に係る通電転写ヘッドの先端
要部拡大斜視図、第2図は銅箔付ポリイミドフィルムの
側面図、第3図は銅箔にエツチングを施した状態のフィ
ルムの側面図、第4図は同、エツチング後ニッケルを電
析して平行電極を形成した状態のフィルムの側面図、第
5図は紙・\の印字状態を示す側面図である。
第1図において、1は支持基板、2はシリコンゴム又は
アルミ金属粉を混合したシリコンゴムよりなる弾性体、
3は銅箔付きポリイミドフィルムであり、4はフィルム
3上に形成された平行電極である。この電極先端には画
素に対応した面取り4aが施され、画像信号に対応した
ドツト形成に最適な面積が確保される。
次にこの電極4の形成方法について説明する。
曲げ弾性率が800〜2100 b/m”のガラスエポ
キシ両面銅張積層板よりなる基材の一面に残留させた銅
箔5(第2図)に、フォトリソグラフィにより第3図に
示すように、平行パターンでエツチングし、5aの如き
凸起部を形成する。これに第4図に示すように、ニッケ
ル6の電析を行い、電極4を形成する。
即ち、電極4はポリイミドフィルム3の上に、銅パター
ン5aとニッケル6によって構成される構造となってい
る。このニッケルはHV400以上の硬さにする。
ポリイミドフィルム3は、例えば東し・デュポン−〇商
品名“カプトンH′″フィルムが用いられる。これは一
般にフレキシブルプリント配線基板に用いられているポ
リイミドフィルムの一種である。また銅箔5は25μm
の厚さとして良い結果が得られた。これは例えば、8 
dots/ Mの印字密度を得ようとするとき、電極ピ
ッチは125μmとなり、第3図の凸起巾胃の値が50
μm〜90μmの範囲で適当に決定されるからである。
市販では25μmの上は50μmであり、この場合、W
が大きく得られない。
またシリコンゴムには、0〜50%の金属アルミニウム
粉末が添加出来る。
第5図において、ヘッド先端の支持部材1には印字圧(
ベクトルC)を発生させるための回転中心9があり、例
えば、図示したスプリング10の如き弾性体により、紙
8などの間に、相対的印字圧Cを発生できる構造となっ
ている。7は通電転写用のリボンである。a、bはそれ
ぞれの動きの方向を示している。
本構造によれば、通電転写プロセスで発生する熱の放散
が改良され、また、薄いポリイミドフィルム3上の電極
4は、バックアップの弾性体(シリコンゴム層)2の可
撓性に支えられ、紙の凹凸によく馴染むので、画質は従
来のヘッドよりも著しく向上できた。ちなみに支持体1
は、アルミニウム合金、例えばA3056PあるいはA
3052Pなどを用いることにより、安くかつ熱放散性
の良い構造とすることが出来た。
〔効果〕
以上本発明によれば、 (1)和紙など、表面凹凸が10μm以上もあるラフ紙
でも、美しい印字が可能なヘッドが提供できる。
(2)熱の放散が良くなり、印字の初期より一定の均質
な画質が得られ易(なる。
等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係る通電転写ヘッドの先端
要部拡大斜視図、第2図は銅箔付ポリイミドフィルムの
側面図、第3図は銅箔にエツチングを施した状態のフィ
ルムの側面図、第4図は同、エツチング後ニッケルを電
析して平行電極を形成した状態のフィルムの側面図、第
5図は紙への印字状態を示す側面図である。 1・・・支持基板、2・・・弾性体、3・・・ポリイミ
ドフィルム、4・・・電極、4a・・・面取り。 第1図 第3図 第4図 第5図 手続補正書(自発)     ( l 事件の表示                  
      f特願昭62−253560号     
          t2 発明の名称 通電転写ヘッド 3 補正をする者 事件との関係  出願人 (674)株式会社 リ コ − 4 代理人 〒105東京都港区西新橋1丁目6番13号7 補正の
対象 明a書の発明の詳細な説明の欄 8 補正の内容 l)明細書4ペ一ジ4行「曲げ弾性率」を「従来り方法
では、曲げ弾性率」に゛補正します。 2)明細書4ペ一ジ11行の「即ち、」を下記のkうに
補正します。 r本発明の方法では、上述のガラスエポキシ両面1層板
にパターンをつける方法と全く同様にしてテわれる。 即ち、」 以上

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)銅箔付ポリイミドフィルム上の銅箔をエッチング
    加工し、この上にニッケルを電析して平行電極を形成し
    、ポリイミドフィルムをシリコンゴム又はアルミ金属粉
    を混合したシリコンゴムからなる弾性体で支持基板に接
    合し、さらに電極先端に画素に対応した面取りを形成し
    たことを特徴とする通電転写ヘッド。
  2. (2)前記ニッケルを、ビッカース硬さ(HV)で40
    0以上の硬さとしたことを特徴とする特許請求の範囲第
    (1)項記載の通電転写ヘッド。
  3. (3)前記支持基板をアルミニウム合金板で構成するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の通電転
    写ヘッド。
JP25356087A 1987-10-09 1987-10-09 通電転写ヘツド Pending JPH0197665A (ja)

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JP25356087A JPH0197665A (ja) 1987-10-09 1987-10-09 通電転写ヘツド

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JPH0197665A true JPH0197665A (ja) 1989-04-17

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