JPH0198110A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPH0198110A JPH0198110A JP25462787A JP25462787A JPH0198110A JP H0198110 A JPH0198110 A JP H0198110A JP 25462787 A JP25462787 A JP 25462787A JP 25462787 A JP25462787 A JP 25462787A JP H0198110 A JPH0198110 A JP H0198110A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- magnetic head
- axis
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3113—Details for improving the magnetic domain structure or avoiding the formation or displacement of undesirable magnetic domains
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、高密度記録を実現するための狭トラツクを
備え、高出力を得ることができる高性能な薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法に関するものである。
備え、高出力を得ることができる高性能な薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法に関するものである。
ことが要求されることから、Ｎｉ−Ｆｅ系の高透磁率合
金であるパーマロイがよく知られておシ、従来は、例え
ば、特開昭５５−８２７９３号公報に示された電気メツ
キ法によシ、高透磁率を得るために一定の方向で一定の
大きさの磁場を印加した状態で電気メツキを行い、−輪
具方向を誘起して薄膜を形成していた。第３図はかかる
電気メツキ法によって形成したパーマロイ薄膜のＢ−Ｈ
ループ（印加磁界は５ ｏｅ）であり、同図（ａ）はメ
ツキ時の外部磁場方向（′ｔＩｉ化容易軸方向）のＢ−
Ｈループ、同図（ｂ）はメツキ時の外部磁場に対して垂
直な方向（磁化困難軸方向）のＢ−Ｈループである。
金であるパーマロイがよく知られておシ、従来は、例え
ば、特開昭５５−８２７９３号公報に示された電気メツ
キ法によシ、高透磁率を得るために一定の方向で一定の
大きさの磁場を印加した状態で電気メツキを行い、−輪
具方向を誘起して薄膜を形成していた。第３図はかかる
電気メツキ法によって形成したパーマロイ薄膜のＢ−Ｈ
ループ（印加磁界は５ ｏｅ）であり、同図（ａ）はメ
ツキ時の外部磁場方向（′ｔＩｉ化容易軸方向）のＢ−
Ｈループ、同図（ｂ）はメツキ時の外部磁場に対して垂
直な方向（磁化困難軸方向）のＢ−Ｈループである。
また、第４図は、ナショナル テクニカル レポート（
Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｒｅｐｏｒｔ
）第３１巻、第２号（１９８５年４月）１５２〜ｌｅ
ｔページに記載された方法によって得られたパーマロイ
薄膜を用いて形成した薄膜磁気ヘッドの磁極パターンに
おいて観察される磁区パターンであり、磁化容易軸方向
（１）、磁壁（２）、環流磁区（３）およびトラック幅
（４）からなっている。
Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｒｅｐｏｒｔ
）第３１巻、第２号（１９８５年４月）１５２〜ｌｅ
ｔページに記載された方法によって得られたパーマロイ
薄膜を用いて形成した薄膜磁気ヘッドの磁極パターンに
おいて観察される磁区パターンであり、磁化容易軸方向
（１）、磁壁（２）、環流磁区（３）およびトラック幅
（４）からなっている。
さて、近年の磁気ディスク装置の高密度化にともない、
高密度記録を実現するための狭トラツク磁気ヘツド（ト
ラック幅（４）が狭いヘッド）、すなわち、狭トラツク
領域において高出力を実現できる高性能薄膜磁気ヘッド
の必要性が高まってきている。従来の薄膜磁気ヘッドで
は、磁極を形成しているパーマロイのメツキ膜に一軸異
方性が誘起されているため、磁極には、磁壁（２）およ
び環流磁区（３）が発生する。還流磁区（３）はヘッド
の使用周波数域（＞ Ｉ ＭＨｚ ）では透磁率が極め
て低く、磁路としてほとんど機能しないので、ヘッドと
して機能するトラック幅は第４図に示したトラック幅（
４）よシも小さくなる。従って、情報を書き込む際、媒
体における記録領域が狭くなり（媒体の直径方向の記録
領域が短くなる）、十分な書き込み特性が得られないば
かりでなく、情報を読み出す前のヘッドの有効なトラッ
ク幅が、加工寸法（トラック幅（４））よシも小さくな
り、ヘッドの出力がトラック幅に比例することから、結
果的に、十分な再生特性が得られない。
高密度記録を実現するための狭トラツク磁気ヘツド（ト
ラック幅（４）が狭いヘッド）、すなわち、狭トラツク
領域において高出力を実現できる高性能薄膜磁気ヘッド
の必要性が高まってきている。従来の薄膜磁気ヘッドで
は、磁極を形成しているパーマロイのメツキ膜に一軸異
方性が誘起されているため、磁極には、磁壁（２）およ
び環流磁区（３）が発生する。還流磁区（３）はヘッド
の使用周波数域（＞ Ｉ ＭＨｚ ）では透磁率が極め
て低く、磁路としてほとんど機能しないので、ヘッドと
して機能するトラック幅は第４図に示したトラック幅（
４）よシも小さくなる。従って、情報を書き込む際、媒
体における記録領域が狭くなり（媒体の直径方向の記録
領域が短くなる）、十分な書き込み特性が得られないば
かりでなく、情報を読み出す前のヘッドの有効なトラッ
ク幅が、加工寸法（トラック幅（４））よシも小さくな
り、ヘッドの出力がトラック幅に比例することから、結
果的に、十分な再生特性が得られない。
以上のような従来の薄膜の気ヘッドの製造方法では、磁
極が以上のようにメツキ成膜され、−軸十分な記録再生
特性が得られないという問題点があった。
極が以上のようにメツキ成膜され、−軸十分な記録再生
特性が得られないという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、高記録密度領域の狭トラツク幅ヘッドにおい
ても十分な記録再生特性を実現できる薄膜磁気ヘッドの
製造方法を得ることを目的とする。
たもので、高記録密度領域の狭トラツク幅ヘッドにおい
ても十分な記録再生特性を実現できる薄膜磁気ヘッドの
製造方法を得ることを目的とする。
この発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法は、磁化容易
軸方向の透磁率が磁化困難軸方向の透磁率の少なくとも
ｌ／２の大きさを有し、磁気的に等方的な磁性薄膜によ
って磁極を形成する。
軸方向の透磁率が磁化困難軸方向の透磁率の少なくとも
ｌ／２の大きさを有し、磁気的に等方的な磁性薄膜によ
って磁極を形成する。
この発明による薄膜磁気ヘッドは、ａ極が磁気的に等方
的な磁性薄膜によって形成されるので、環流磁区が発生
せず、高記録密度領域の狭トラツク幅においても、良好
な記録再生特性を示す。
的な磁性薄膜によって形成されるので、環流磁区が発生
せず、高記録密度領域の狭トラツク幅においても、良好
な記録再生特性を示す。
以下、この発明の一実施例について説明する。
この発明は、絶縁体膜を表面に被着した基板上に、上、
下磁極、ギャップ、層間絶縁体膜、コイル、保護層等を
形成するもので、特に、磁化容易軸方向の透磁率が、磁
化困難軸方向の透磁率の少なくとも１／２の大きさを有
し、磁気的に等方的な薄膜によって磁極をスパッタによ
シ形成する。
下磁極、ギャップ、層間絶縁体膜、コイル、保護層等を
形成するもので、特に、磁化容易軸方向の透磁率が、磁
化困難軸方向の透磁率の少なくとも１／２の大きさを有
し、磁気的に等方的な薄膜によって磁極をスパッタによ
シ形成する。
薄膜の材質としては１例えば、鉄−ニッケル合金でなる
パーマロイが好適であシ、さらに具体的には、重量比で
ニッケル（Ｎｉ ） ａ ｕ、０％〜８３．０％、鉄（
Ｆｅ） ｌ ７．ｏ％〜２０．０％でなるパーマロイが
適している。
パーマロイが好適であシ、さらに具体的には、重量比で
ニッケル（Ｎｉ ） ａ ｕ、０％〜８３．０％、鉄（
Ｆｅ） ｌ ７．ｏ％〜２０．０％でなるパーマロイが
適している。
第１図はこの発明の一実施例によるパーマロイ・スパッ
タ膜の磁気特性を示すＢ−Ｈループ、第２図は、狭トラ
ツク領域における従来ヘッドとこの発明の一実施例によ
るヘッドとの出力特性の比較図である。
タ膜の磁気特性を示すＢ−Ｈループ、第２図は、狭トラ
ツク領域における従来ヘッドとこの発明の一実施例によ
るヘッドとの出力特性の比較図である。
次に、作用について説明する。上記実施例によるパーマ
ロイ・スパッタ膜は、磁気的に等方的であり、その磁気
特性を示すＢ−Ｈループは、磁場印加方向に関係なく同
じである。従って、従来のもので見られる磁区パターン
（第４図）も、この発明による薄膜では観察されなかっ
た。
ロイ・スパッタ膜は、磁気的に等方的であり、その磁気
特性を示すＢ−Ｈループは、磁場印加方向に関係なく同
じである。従って、従来のもので見られる磁区パターン
（第４図）も、この発明による薄膜では観察されなかっ
た。
また、第２図には、ヘッドのトラック幅−出力特性をそ
れぞれ従来のパーマロイ・メツキ膜によって磁極を形成
したものと５上記実施例によるパーマロイ・スパッタ膜
によって磁極を形成したものとを示しているが、同一ト
ラック幅で比較すると、この実施例によるヘッドの方が
高出力であることがわかる。これは、本実施例で示した
ヘッドの磁極が、還流磁区の発生しない磁気的に等方的
な磁性膜によって構成されているので、ヘッドとして機
能するトラック幅は第４図に示したトラック幅（４）と
等しくなり、書き込み特性として、媒体における記録領
域が従来のヘッドよりも広くなり、媒体の直径方向の記
録領域が長くなる。また、読み込み特性としてヘッドの
出力がトラック幅に比例することから、出力が従来のも
のよりも太きくなっていると考えられる。従って、この
発明によるヘッドは、高記録密度領域の狭トラツク幅に
おいて、良好な記録再生特性を示すことがわかる。
れぞれ従来のパーマロイ・メツキ膜によって磁極を形成
したものと５上記実施例によるパーマロイ・スパッタ膜
によって磁極を形成したものとを示しているが、同一ト
ラック幅で比較すると、この実施例によるヘッドの方が
高出力であることがわかる。これは、本実施例で示した
ヘッドの磁極が、還流磁区の発生しない磁気的に等方的
な磁性膜によって構成されているので、ヘッドとして機
能するトラック幅は第４図に示したトラック幅（４）と
等しくなり、書き込み特性として、媒体における記録領
域が従来のヘッドよりも広くなり、媒体の直径方向の記
録領域が長くなる。また、読み込み特性としてヘッドの
出力がトラック幅に比例することから、出力が従来のも
のよりも太きくなっていると考えられる。従って、この
発明によるヘッドは、高記録密度領域の狭トラツク幅に
おいて、良好な記録再生特性を示すことがわかる。
例えば、ヘッドに要求される出力レベルを０．５ｍＶと
すると、従来のヘッドではトランク幅が１２μｍが限界
であるのに対して、この発明によるヘッドでは１０μｍ
まで可能となシ、トラック幅を２μｍ小さくすることが
できる。
すると、従来のヘッドではトランク幅が１２μｍが限界
であるのに対して、この発明によるヘッドでは１０μｍ
まで可能となシ、トラック幅を２μｍ小さくすることが
できる。
また、磁化容易軸方向と磁化困難軸方向の透磁率比に関
しては、磁極のトランク幅の加工寸法精度（±０，５μ
ｍ）を考慮すると、その比が１以上のとき、この発明が
有効であることがわかる。すなわち、従来のものでは、
トラック幅１２μｍ、加工寸法精度を考慮すると、でき
あがり寸法１２±０．６μｍに対し、この発明では、上
記の透磁率比が、１および１／２でトラック幅が１０μ
ｍおよび１１μｍとすると、加工寸法精度を考慮した最
終のトランク幅はそれぞれｌｏ±０．６μ乳および１１
±０．５μｍとなる。
しては、磁極のトランク幅の加工寸法精度（±０，５μ
ｍ）を考慮すると、その比が１以上のとき、この発明が
有効であることがわかる。すなわち、従来のものでは、
トラック幅１２μｍ、加工寸法精度を考慮すると、でき
あがり寸法１２±０．６μｍに対し、この発明では、上
記の透磁率比が、１および１／２でトラック幅が１０μ
ｍおよび１１μｍとすると、加工寸法精度を考慮した最
終のトランク幅はそれぞれｌｏ±０．６μ乳および１１
±０．５μｍとなる。
以上のように、この発明によれば、薄膜磁気ヘッドの磁
極を磁気的に等方向に磁性薄膜によって形成し、還流磁
区の発生を防止したので、高記録密度領域の狭トラツク
幅においても、良好な記録再生特性を示す性能の高いも
のを歩留りよく製造することができる効果がある。
極を磁気的に等方向に磁性薄膜によって形成し、還流磁
区の発生を防止したので、高記録密度領域の狭トラツク
幅においても、良好な記録再生特性を示す性能の高いも
のを歩留りよく製造することができる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例によるパーマロイ・スパッ
タ膜の磁気特性を示すＢ−Ｈループ曲線図、第２図は狭
トラツク領域における従来ヘッドと当該実施例によるヘ
ッドとの出力特性の比較線図、第３図は従来のパーマロ
イ・メツキ膜の磁気特性を示すＢ−Ｈループ曲線図、第
４図は従来のパーマロイ・メツキ膜を用いて形成した薄
膜磁気ヘッドの磁極パターンにおいて発生する還流磁区
の模式図である。 ＠ １ 図 第２図 トラ７７幅≠ｍ） 第３図 （ａ） （ｂ） 第 ４ 図 手続補正書 昭和６３年１月６日
タ膜の磁気特性を示すＢ−Ｈループ曲線図、第２図は狭
トラツク領域における従来ヘッドと当該実施例によるヘ
ッドとの出力特性の比較線図、第３図は従来のパーマロ
イ・メツキ膜の磁気特性を示すＢ−Ｈループ曲線図、第
４図は従来のパーマロイ・メツキ膜を用いて形成した薄
膜磁気ヘッドの磁極パターンにおいて発生する還流磁区
の模式図である。 ＠ １ 図 第２図 トラ７７幅≠ｍ） 第３図 （ａ） （ｂ） 第 ４ 図 手続補正書 昭和６３年１月６日
Claims (3)
- （１）絶縁体膜を表面に被着した基板上に、上、下磁極
、ギャップ、層間絶縁体膜、コイル、保護層をそれぞれ
形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、 磁化容易軸方向の透磁率が磁化困難軸方向の透磁率の少
なくとも１／２の大きさを有し、磁気的に等方的な薄膜
によつて前記磁極を形成することを特徴とする薄膜磁気
ヘッドの製造方法。 - （２）鉄−ニッケル合金のパーマロイ薄膜によつて磁極
を形成する特許請求の範囲第１項記載の薄膜磁気ヘッド
の製造方法。 - （３）重量比で、ニッケル８０．０％〜８３．０％、鉄
１７．０％〜２０．０％でなるパーマロイを用いる特許
請求の範囲第２項記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25462787A JPH0198110A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25462787A JPH0198110A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0198110A true JPH0198110A (ja) | 1989-04-17 |
Family
ID=17267651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25462787A Pending JPH0198110A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0198110A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0324118U (ja) * | 1989-07-17 | 1991-03-13 | ||
| US5170303A (en) * | 1990-04-30 | 1992-12-08 | Seagate Technology Inc. | Inductive thin film head having improved readback characteristics |
| JPH05266423A (ja) * | 1990-10-12 | 1993-10-15 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
-
1987
- 1987-10-12 JP JP25462787A patent/JPH0198110A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0324118U (ja) * | 1989-07-17 | 1991-03-13 | ||
| US5170303A (en) * | 1990-04-30 | 1992-12-08 | Seagate Technology Inc. | Inductive thin film head having improved readback characteristics |
| USRE35228E (en) * | 1990-04-30 | 1996-05-07 | Seagate Technology, Inc. | Inductive thin film head having improved readback characteristics |
| JPH05266423A (ja) * | 1990-10-12 | 1993-10-15 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
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