JPH05242433A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH05242433A JPH05242433A JP4439092A JP4439092A JPH05242433A JP H05242433 A JPH05242433 A JP H05242433A JP 4439092 A JP4439092 A JP 4439092A JP 4439092 A JP4439092 A JP 4439092A JP H05242433 A JPH05242433 A JP H05242433A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic head
- film
- magnetoresistive
- magnetoresistive effect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】再生用磁気抵抗効果型磁気ヘッドのトラック幅
方向に磁気シールド膜12を形成した。また、再生用磁
気ヘッドと記録用の誘導型磁気ヘッドを組み合わせた複
合型磁気ヘッドを作製した。再生用磁気抵抗効果型磁気
ヘッドにおける磁気抵抗効果材料として、磁性層と非磁
性層を積層した多層膜を用いることもできる。また、本
発明の磁気ヘッドを磁気ディスク装置に用いた。 【効果】トラック幅方向の磁界の影響の少ない磁気抵抗
効果型磁気ヘッドを得ることができた。また、磁気ヘッ
ドを用いることにより、高密度記録に適した磁気ディス
ク装置が得られた。
方向に磁気シールド膜12を形成した。また、再生用磁
気ヘッドと記録用の誘導型磁気ヘッドを組み合わせた複
合型磁気ヘッドを作製した。再生用磁気抵抗効果型磁気
ヘッドにおける磁気抵抗効果材料として、磁性層と非磁
性層を積層した多層膜を用いることもできる。また、本
発明の磁気ヘッドを磁気ディスク装置に用いた。 【効果】トラック幅方向の磁界の影響の少ない磁気抵抗
効果型磁気ヘッドを得ることができた。また、磁気ヘッ
ドを用いることにより、高密度記録に適した磁気ディス
ク装置が得られた。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体からの信
号磁界を磁気抵抗効果素子で検出する磁気抵抗効果型ヘ
ッドに係り、特に、狭トラック幅を有する磁気ディスク
用の磁気ヘッドに関する。
号磁界を磁気抵抗効果素子で検出する磁気抵抗効果型ヘ
ッドに係り、特に、狭トラック幅を有する磁気ディスク
用の磁気ヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】磁気ヘッドに用いる一般的な磁気抵抗効
果素子では、磁気記録媒体からの信号磁界の再生感度を
高くするために、磁気ヘッドの進行方向に磁気シールド
を伴う場合が多い。
果素子では、磁気記録媒体からの信号磁界の再生感度を
高くするために、磁気ヘッドの進行方向に磁気シールド
を伴う場合が多い。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、近年の磁気記
録密度の増加に伴い、トラック幅が狭くなり、トラック
幅方向の磁界の影響を受けることによる感度低下が問題
になっている。
録密度の増加に伴い、トラック幅が狭くなり、トラック
幅方向の磁界の影響を受けることによる感度低下が問題
になっている。
【0004】本発明の目的は、トラック幅方向の磁気シ
ールド効果の高い磁気シールド膜およびこれを用いた磁
気抵抗効果型磁気ヘッドを提供することにある。
ールド効果の高い磁気シールド膜およびこれを用いた磁
気抵抗効果型磁気ヘッドを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、種々の構
造を有する磁気シールド膜を用いた磁気ヘッドについて
鋭意研究を重ねた結果、トラック幅方向に磁気シールド
膜を形成することにより、トラック幅方向の磁界の影響
の少ない磁気抵抗効果型磁気ヘッドを得ることができる
ことを明らかにした。
造を有する磁気シールド膜を用いた磁気ヘッドについて
鋭意研究を重ねた結果、トラック幅方向に磁気シールド
膜を形成することにより、トラック幅方向の磁界の影響
の少ない磁気抵抗効果型磁気ヘッドを得ることができる
ことを明らかにした。
【0006】また、本発明の磁気ヘッドを用いることに
より、高記録密度用の磁気記録再生装置が得られる。
より、高記録密度用の磁気記録再生装置が得られる。
【0007】
【作用】上述のように、トラック幅方向に磁気シールド
膜を形成することにより、トラック幅方向の磁界の影響
の少ない磁気抵抗効果型磁気ヘッドを得ることができ
る。また、上述の磁気ヘッドを用いることにより、高記
録密度用の磁気ディスク装置が得られる。
膜を形成することにより、トラック幅方向の磁界の影響
の少ない磁気抵抗効果型磁気ヘッドを得ることができ
る。また、上述の磁気ヘッドを用いることにより、高記
録密度用の磁気ディスク装置が得られる。
【0008】
〈実施例1〉本発明のトラック幅方向に磁気シールドを
もつ磁気ヘッドの作製工程を述べる。
もつ磁気ヘッドの作製工程を述べる。
【0009】図1(a)のように、Al2O3・TiCを
主成分とする焼結体からなる非磁性基板11の上に、磁
気シールド層12を形成した。磁気シールド層12には
スパッタリング法で形成した膜厚1μmのNi−Fe系
合金(パーマロイ)を用いた。また、磁気シールド層1
2の上に、スパッタリング法で、膜厚0.2μm のAl
2O3からなる絶縁層13を形成した。さらに、図1
(b)のように、2枚のNi−Znフェライト板14,
ガラス15からなるギャップ16を有するヨーク板17
を用意し、ヨーク板17の厚さをトラック幅まで研磨す
る。図1(c)のように、ヨーク板17の上に、厚さ3
0nmのNi−Fe系合金からなる磁気抵抗効果膜18
および、膜厚30nmのTi膜からなるシャント膜19
をスパッタリング法で形成し、Cr/Cu/Crという
多層構造のリード線20を形成した。なお、シャント膜
19は、Nbを用いると、磁気ヘッド形成プロセスにお
ける耐熱性が向上してさらに好ましい。
主成分とする焼結体からなる非磁性基板11の上に、磁
気シールド層12を形成した。磁気シールド層12には
スパッタリング法で形成した膜厚1μmのNi−Fe系
合金(パーマロイ)を用いた。また、磁気シールド層1
2の上に、スパッタリング法で、膜厚0.2μm のAl
2O3からなる絶縁層13を形成した。さらに、図1
(b)のように、2枚のNi−Znフェライト板14,
ガラス15からなるギャップ16を有するヨーク板17
を用意し、ヨーク板17の厚さをトラック幅まで研磨す
る。図1(c)のように、ヨーク板17の上に、厚さ3
0nmのNi−Fe系合金からなる磁気抵抗効果膜18
および、膜厚30nmのTi膜からなるシャント膜19
をスパッタリング法で形成し、Cr/Cu/Crという
多層構造のリード線20を形成した。なお、シャント膜
19は、Nbを用いると、磁気ヘッド形成プロセスにお
ける耐熱性が向上してさらに好ましい。
【0010】このようにして得られた磁気抵抗効果素子
21を、図1(d)のように、絶縁層13の上に重ね
る。そして、さらに、図1(e)のように、Al2O3か
らなる絶縁層22を形成し、平坦化を行った後、膜厚1
μmのNi−Fe系合金からなる磁気シールド層23を
形成し、磁気抵抗効果素子24を得た。
21を、図1(d)のように、絶縁層13の上に重ね
る。そして、さらに、図1(e)のように、Al2O3か
らなる絶縁層22を形成し、平坦化を行った後、膜厚1
μmのNi−Fe系合金からなる磁気シールド層23を
形成し、磁気抵抗効果素子24を得た。
【0011】磁気抵抗効果素子24は、トラック幅方向
25にもシールド層を有する。磁気抵抗効果素子24
と、磁気シールド層12および23を持たない他は同様
の構造を有する磁気抵抗効果素子の再生特性を測定した
ところ、本発明の磁気抵抗効果素子24の方が、3dB
高いS/N比を得た。これは、従来のトラック幅方向に
磁気シールドを持たない磁気ヘッドでは、隣接するトラ
ックからの情報等を検出してしまうのに対し、本発明の
トラック幅方向に磁気シールドを持つ磁気ヘッドでは、
隣接トラックからの信号磁界の影響を受けにくいためと
考えられる。
25にもシールド層を有する。磁気抵抗効果素子24
と、磁気シールド層12および23を持たない他は同様
の構造を有する磁気抵抗効果素子の再生特性を測定した
ところ、本発明の磁気抵抗効果素子24の方が、3dB
高いS/N比を得た。これは、従来のトラック幅方向に
磁気シールドを持たない磁気ヘッドでは、隣接するトラ
ックからの情報等を検出してしまうのに対し、本発明の
トラック幅方向に磁気シールドを持つ磁気ヘッドでは、
隣接トラックからの信号磁界の影響を受けにくいためと
考えられる。
【0012】本実施例では、磁気抵抗効果膜に対するバ
イアス方式としてシャントバイアス方式を示したが、永
久磁石方式、ソフトバイアス方式などの他のバイアス方
式を用いることもできる。
イアス方式としてシャントバイアス方式を示したが、永
久磁石方式、ソフトバイアス方式などの他のバイアス方
式を用いることもできる。
【0013】また、上記の磁気抵抗効果素子と記録用の
誘導型磁気ヘッドとを組み合わせることにより、高性能
の複合型磁気ヘッドを得ることができる。
誘導型磁気ヘッドとを組み合わせることにより、高性能
の複合型磁気ヘッドを得ることができる。
【0014】また、磁気抵抗効果膜18として、高い磁
気抵抗効果を有する多層膜材料を用いると、さらに高い
出力の磁気ヘッドを得ることができる。例えば、厚さ
1.5nmのNi−20at%Fe合金層と、厚さ2n
mのCu層を10周期積層した多層膜は、Ni−Fe系
合金単層膜よりも2倍以上高い、6.5% の磁気抵抗変
化率を示すため、2倍程度の再生出力を示す磁気ヘッド
を得ることができる。
気抵抗効果を有する多層膜材料を用いると、さらに高い
出力の磁気ヘッドを得ることができる。例えば、厚さ
1.5nmのNi−20at%Fe合金層と、厚さ2n
mのCu層を10周期積層した多層膜は、Ni−Fe系
合金単層膜よりも2倍以上高い、6.5% の磁気抵抗変
化率を示すため、2倍程度の再生出力を示す磁気ヘッド
を得ることができる。
【0015】また、本発明の磁気ヘッドは、狭トラック
幅の記録・再生において高い性能を発揮するため、本発
明の磁気ヘッドを磁気ディスク装置に用いることによ
り、高い記録密度を有する高性能磁気ディスク装置を得
ることができる。
幅の記録・再生において高い性能を発揮するため、本発
明の磁気ヘッドを磁気ディスク装置に用いることによ
り、高い記録密度を有する高性能磁気ディスク装置を得
ることができる。
【0016】〈実施例2〉本発明の磁気抵抗効果膜の周
囲を連続的に磁気シールドで囲んだ磁気ヘッドの作製工
程を以下に述べる。
囲を連続的に磁気シールドで囲んだ磁気ヘッドの作製工
程を以下に述べる。
【0017】図2(a)のように、Al2O3・TiCを
主成分とする焼結体からなる非磁性基板31の上に、磁
気シールド層32を形成した。磁気シールド層32には
スパッタリング法で形成した膜厚1μmのNi−Fe系
合金(パーマロイ)を用いた。また、磁気シールド層3
2の上に、部分的にNi−Fe系合金からなる磁気シー
ルド層33を形成した。これらの上に、Al2O3からな
る絶縁物を形成した後、膜厚30nmのNi−Fe系合
金からなる磁気抵抗効果膜34,膜厚30nmのTi膜
からなるシャント膜35,Cr/Cu/Crという多層
構造を有するリード線36を形成した。磁気抵抗効果膜
34およびシャント膜35のトラック幅方向の長さは3
μm、デプスは1μmである。また、リード線36の幅
は、1μmである。
主成分とする焼結体からなる非磁性基板31の上に、磁
気シールド層32を形成した。磁気シールド層32には
スパッタリング法で形成した膜厚1μmのNi−Fe系
合金(パーマロイ)を用いた。また、磁気シールド層3
2の上に、部分的にNi−Fe系合金からなる磁気シー
ルド層33を形成した。これらの上に、Al2O3からな
る絶縁物を形成した後、膜厚30nmのNi−Fe系合
金からなる磁気抵抗効果膜34,膜厚30nmのTi膜
からなるシャント膜35,Cr/Cu/Crという多層
構造を有するリード線36を形成した。磁気抵抗効果膜
34およびシャント膜35のトラック幅方向の長さは3
μm、デプスは1μmである。また、リード線36の幅
は、1μmである。
【0018】さらに、図2(b)のように、Al2O3か
らなる絶縁物を重ね、研磨により、磁気シールド層33
の上の、Al2O3を完全に除去した後、Ni−Fe系合
金からなる磁気シールド層37を形成した。
らなる絶縁物を重ね、研磨により、磁気シールド層33
の上の、Al2O3を完全に除去した後、Ni−Fe系合
金からなる磁気シールド層37を形成した。
【0019】磁気抵抗効果素子は、実施例1の磁気抵抗
効果素子と同様に、トラック幅方向にも磁気シールドを
もつため、高いS/N比を示す。これは、磁気抵抗効果
膜の周囲を連続的に磁気シールドで囲んだためと考えら
れる。
効果素子と同様に、トラック幅方向にも磁気シールドを
もつため、高いS/N比を示す。これは、磁気抵抗効果
膜の周囲を連続的に磁気シールドで囲んだためと考えら
れる。
【0020】また、磁気抵抗効果素子と記録用の誘導型
磁気ヘッドを組み合わせることにより、高性能の複合型
磁気ヘッドを得ることができる。
磁気ヘッドを組み合わせることにより、高性能の複合型
磁気ヘッドを得ることができる。
【0021】また、磁気抵抗効果膜18として、高い磁
気抵抗効果を有する多層膜材料を用いると、さらに高い
出力を有する磁気ヘッドを得ることができる。例えば、
厚さ1.5nm のNi−20at%Fe合金層と、厚さ
2nmのCu層を10周期積層した多層膜は、Ni−F
e系合金単層膜よりも2倍以上高い、6.5% の磁気抵
抗変化率を示すため、2倍程度の再生出力を示す磁気ヘ
ッドを得ることができる。
気抵抗効果を有する多層膜材料を用いると、さらに高い
出力を有する磁気ヘッドを得ることができる。例えば、
厚さ1.5nm のNi−20at%Fe合金層と、厚さ
2nmのCu層を10周期積層した多層膜は、Ni−F
e系合金単層膜よりも2倍以上高い、6.5% の磁気抵
抗変化率を示すため、2倍程度の再生出力を示す磁気ヘ
ッドを得ることができる。
【0022】また、本発明の磁気ヘッドは、狭トラック
幅の記録・再生において高い性能を発揮するため、本発
明の磁気ヘッドを磁気ディスク装置に用いることによ
り、高い記録密度を有する高性能磁気ディスク装置を得
ることができる。
幅の記録・再生において高い性能を発揮するため、本発
明の磁気ヘッドを磁気ディスク装置に用いることによ
り、高い記録密度を有する高性能磁気ディスク装置を得
ることができる。
【0023】〈実施例3〉実施例1におけるヨーク型磁
気抵抗効果素子21を薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子に
置き換えた。図3に薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子41
の平面図を示す。薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子41
は、スパッタリングにより、膜厚50nmのNi−20
at%Fe合金を形成し、フォトリソグラフィー工程を
利用して形成した。薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子41
は、ギャップ42,感磁部43,電流端子44を有す
る。ギャップは、絞り込んだイオンビームでNi−20
at%Fe合金膜をエッチングすることにより形成した。
薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子41は、Ni−Fe系合
金膜の膜厚がトラック幅となるため、超狭トラック幅の
再生用磁気ヘッドとなる。
気抵抗効果素子21を薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子に
置き換えた。図3に薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子41
の平面図を示す。薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子41
は、スパッタリングにより、膜厚50nmのNi−20
at%Fe合金を形成し、フォトリソグラフィー工程を
利用して形成した。薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子41
は、ギャップ42,感磁部43,電流端子44を有す
る。ギャップは、絞り込んだイオンビームでNi−20
at%Fe合金膜をエッチングすることにより形成した。
薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子41は、Ni−Fe系合
金膜の膜厚がトラック幅となるため、超狭トラック幅の
再生用磁気ヘッドとなる。
【0024】また、実施例1におけるヨーク型磁気抵抗
効果素子21を、図4に示すような、薄膜ヨーク型磁気
抵抗効果素子51に置き換えた。薄膜ヨーク型磁気抵抗
効果素子51は、ギャップ52,感磁部53,電流端子
54を有する。薄膜ヨークは、膜厚0.5μm のCo−
Ta−Zr系非晶質合金で構成した。また、感磁部53
は、膜厚30nmのNi−20at%Fe合金であり、
電流端子54は、Cr/Cu/Crという多層構造を有
する。図4の薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子51は、薄
膜ヨーク部の膜厚により、トラック幅を自由に選択でき
る。また、トラック幅とは独立に、感磁部53の材料、
膜厚を選択できる点で、図3の薄膜ヨーク型磁気抵抗効
果素子41よりも優れている。
効果素子21を、図4に示すような、薄膜ヨーク型磁気
抵抗効果素子51に置き換えた。薄膜ヨーク型磁気抵抗
効果素子51は、ギャップ52,感磁部53,電流端子
54を有する。薄膜ヨークは、膜厚0.5μm のCo−
Ta−Zr系非晶質合金で構成した。また、感磁部53
は、膜厚30nmのNi−20at%Fe合金であり、
電流端子54は、Cr/Cu/Crという多層構造を有
する。図4の薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子51は、薄
膜ヨーク部の膜厚により、トラック幅を自由に選択でき
る。また、トラック幅とは独立に、感磁部53の材料、
膜厚を選択できる点で、図3の薄膜ヨーク型磁気抵抗効
果素子41よりも優れている。
【0025】図4の薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子51
における感磁部53の材料として、高い磁気抵抗効果を
有する多層膜材料を用いると、さらに高い出力を有する
磁気ヘッドを得ることができる。
における感磁部53の材料として、高い磁気抵抗効果を
有する多層膜材料を用いると、さらに高い出力を有する
磁気ヘッドを得ることができる。
【0026】
【発明の効果】本発明によれば、トラック幅方向に磁気
シールド膜を形成することにより、トラック幅方向の磁
界の影響の少ない磁気抵抗効果型磁気ヘッドを得ること
ができる。また、上記の磁気ヘッドを用いることによ
り、高記録密度用の磁気ディスク装置が得られる。
シールド膜を形成することにより、トラック幅方向の磁
界の影響の少ない磁気抵抗効果型磁気ヘッドを得ること
ができる。また、上記の磁気ヘッドを用いることによ
り、高記録密度用の磁気ディスク装置が得られる。
【図1】本発明のトラック幅方向に磁気シールドをもつ
磁気ヘッドの作製工程を示す斜視図。
磁気ヘッドの作製工程を示す斜視図。
【図2】本発明の磁気抵抗効果膜の周囲を磁気シールド
で囲んだ磁気ヘッドの作製工程を示す斜視図。
で囲んだ磁気ヘッドの作製工程を示す斜視図。
【図3】本発明の薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子の一実
施例の平面図。
施例の平面図。
【図4】本発明の薄膜ヨーク型磁気抵抗効果素子の他の
実施例の平面図。
実施例の平面図。
11…非磁性基板、12,23…磁気シールド層、1
3,22…絶縁層、14…Ni−Znフェライト板、1
5…ガラス、16…ギャップ、17…ヨーク板、18…
磁気抵抗効果膜、19…シャント膜、20…リード線、
21…ヨーク型磁気抵抗効果素子、24…磁気抵抗効果
素子、25…トラック幅方向。
3,22…絶縁層、14…Ni−Znフェライト板、1
5…ガラス、16…ギャップ、17…ヨーク板、18…
磁気抵抗効果膜、19…シャント膜、20…リード線、
21…ヨーク型磁気抵抗効果素子、24…磁気抵抗効果
素子、25…トラック幅方向。
Claims (7)
- 【請求項1】磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドにお
いて、トラック幅方向に磁気シールドを有することを特
徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項2】請求項1において、前記磁気ヘッドがヨー
ク型の磁気抵抗効果素子を有する磁気ヘッド。 - 【請求項3】請求項2において、前記ヨーク型の磁気抵
抗効果素子が、薄膜のヨークを有する磁気ヘッド。 - 【請求項4】請求項1において、磁気抵抗効果膜の周囲
を磁気シールドが連続的に取り囲んでいる磁気ヘッド。 - 【請求項5】請求項1,2,3または4において、前記
磁気ヘッドと誘導型磁気ヘッドとを積層した磁気ヘッ
ド。 - 【請求項6】請求項1,2,3または4において、前記
磁気抵抗効果膜に磁性層と非磁性層を積層した多層構造
を有する磁気抵抗効果材料を用いた磁気ヘッド。 - 【請求項7】請求請求項1ないし6のいずれか記載の磁
気ヘッドを用いた磁気記録再生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4439092A JPH05242433A (ja) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4439092A JPH05242433A (ja) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05242433A true JPH05242433A (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=12690186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4439092A Pending JPH05242433A (ja) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05242433A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6256171B1 (en) | 1996-09-30 | 2001-07-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Thin film magnetic head having an improved heat dispersion and magnetic recording apparatus using the same |
| US6369992B1 (en) * | 1994-09-16 | 2002-04-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Yoke-type head with magneto-resistance effect film recessed from medium facing surface and extending across magnetic gap |
-
1992
- 1992-03-02 JP JP4439092A patent/JPH05242433A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6369992B1 (en) * | 1994-09-16 | 2002-04-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Yoke-type head with magneto-resistance effect film recessed from medium facing surface and extending across magnetic gap |
| US6256171B1 (en) | 1996-09-30 | 2001-07-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Thin film magnetic head having an improved heat dispersion and magnetic recording apparatus using the same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2728487B2 (ja) | 録再分離複合型磁気ヘッド | |
| US5880910A (en) | Magneto-resistive reading head with two slanted longitudinal bias films and two slanted leads | |
| US6101067A (en) | Thin film magnetic head with a particularly shaped magnetic pole piece and spaced relative to an MR element | |
| JPH05242433A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JP3640916B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JP3981856B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP2718242B2 (ja) | 磁気抵抗効果ヘッド | |
| JP3475868B2 (ja) | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド | |
| JPS61134913A (ja) | 磁気抵抗型薄膜ヘツド | |
| JP2529194B2 (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JP2001250205A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP3678434B2 (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2948182B2 (ja) | 録再分離複合型磁気ヘッド | |
| JPH08263811A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP4010702B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH05151534A (ja) | 複合型薄膜磁気ヘツド | |
| JPH05182145A (ja) | 録再分離型磁気ヘッド | |
| JPH11296818A (ja) | 磁気抵抗効果ヘッド及び磁気ヘッド並びに磁気記録再生装置 | |
| JPH07118061B2 (ja) | 磁気抵抗効果ヘッド | |
| JPH06274836A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH07210828A (ja) | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド | |
| JPH0572642B2 (ja) | ||
| JPS6363117A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH07302411A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
| JPH05182146A (ja) | 薄膜磁気ヘッド |