JPH0589433A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPH0589433A JPH0589433A JP3249006A JP24900691A JPH0589433A JP H0589433 A JPH0589433 A JP H0589433A JP 3249006 A JP3249006 A JP 3249006A JP 24900691 A JP24900691 A JP 24900691A JP H0589433 A JPH0589433 A JP H0589433A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- insulating layer
- thin film
- magnetic head
- core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 反出力の発生をなくし、出力の周波数特性に
うねりのない薄膜磁気ヘッドを提供する。 【構成】 基板１の上に絶縁層９、絶縁層９の中間に磁
気シールド層１０、絶縁層９の上に下部コア３、下部コ
ア３の上にギャップ部６、ギャップ部６の上に上部コア
７、上部コア７の上に他の絶縁層１１、絶縁層１１の上
に他の磁気シールド層１２、他の磁気シールド層１２の
上に保護層８を設ける構成とする。
うねりのない薄膜磁気ヘッドを提供する。 【構成】 基板１の上に絶縁層９、絶縁層９の中間に磁
気シールド層１０、絶縁層９の上に下部コア３、下部コ
ア３の上にギャップ部６、ギャップ部６の上に上部コア
７、上部コア７の上に他の絶縁層１１、絶縁層１１の上
に他の磁気シールド層１２、他の磁気シールド層１２の
上に保護層８を設ける構成とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク等の磁気
記録媒体に対し記録再生を行なう薄膜磁気ヘッドに関す
る。
記録媒体に対し記録再生を行なう薄膜磁気ヘッドに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ヘッドは記録密度の増加に対
応するために、薄膜を使用し、高透磁率で高飽和磁束密
度の材料を使用する薄膜磁気ヘッドが使用されるように
なってきた。
応するために、薄膜を使用し、高透磁率で高飽和磁束密
度の材料を使用する薄膜磁気ヘッドが使用されるように
なってきた。
【０００３】図４に一例として従来の薄膜磁気ヘッドの
上面図（ａ）と、Ａ−Ｂ線に沿った断面図（ｂ）を示
す。
上面図（ａ）と、Ａ−Ｂ線に沿った断面図（ｂ）を示
す。
【０００４】図５は図４（ｂ）のａ部の拡大図である。
図４および図５において、１はＡｌ2Ｏ3・ＴｉＣの非磁
性材料またはＭｎ−Ｚｎフェライトの磁性材料からなる
基板である。
図４および図５において、１はＡｌ2Ｏ3・ＴｉＣの非磁
性材料またはＭｎ−Ｚｎフェライトの磁性材料からなる
基板である。
【０００５】その基板１の上に絶縁層２、その絶縁層２
の上に磁性膜からなる下部コア３、その下部コア３の上
に導電膜からなるコイル４と絶縁膜５からなるギャップ
部６、そのギャップ部６の上に磁性膜からなる上部コア
７、その上部コア７の上に絶縁膜からなる保護層８を設
けた構成であった。そして上記の各構成要素はスパッタ
や真空蒸着の成膜技術、レジストを用いたフォトリソグ
ラフィ技術、イオンミーリングやケミカルエッチングの
食刻技術により形成されていた。このような薄膜磁気ヘ
ッドの再生波形を図６に示す。すなわち、従来の薄膜磁
気ヘッドでは、図５のｃで示されたように、記録波長と
磁気コア先端の幅が近いために、外側における磁界の干
渉により、図６のｄで示されるような本来の出力に反す
る出力が再生されてしまう。このような再生出力を示す
薄膜磁気ヘッドの周波数特性は図７の従来例に示される
ように、特性曲線にｅやｆで示されるようなうねりを生
じる。特に設計上このうねりの頂点を使用最大周波数に
合わせるため、必然的に高記録密度における最適磁気コ
ア幅ｃは２μｍと狭くなる。
の上に磁性膜からなる下部コア３、その下部コア３の上
に導電膜からなるコイル４と絶縁膜５からなるギャップ
部６、そのギャップ部６の上に磁性膜からなる上部コア
７、その上部コア７の上に絶縁膜からなる保護層８を設
けた構成であった。そして上記の各構成要素はスパッタ
や真空蒸着の成膜技術、レジストを用いたフォトリソグ
ラフィ技術、イオンミーリングやケミカルエッチングの
食刻技術により形成されていた。このような薄膜磁気ヘ
ッドの再生波形を図６に示す。すなわち、従来の薄膜磁
気ヘッドでは、図５のｃで示されたように、記録波長と
磁気コア先端の幅が近いために、外側における磁界の干
渉により、図６のｄで示されるような本来の出力に反す
る出力が再生されてしまう。このような再生出力を示す
薄膜磁気ヘッドの周波数特性は図７の従来例に示される
ように、特性曲線にｅやｆで示されるようなうねりを生
じる。特に設計上このうねりの頂点を使用最大周波数に
合わせるため、必然的に高記録密度における最適磁気コ
ア幅ｃは２μｍと狭くなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、高記録密度における最適磁気コア幅が狭
くなるため、図５のｂで示されるような磁気コア幅が狭
くなる位置において、記録時には磁性体の磁気飽和が発
生し記録効率が低下する。また、再生時には磁気コア幅
が狭いため、磁気抵抗が増加し再生効率が悪くなる。さ
らに、図７に示される従来例のような周波数特性を示す
ため、波形を成型し、誤り率を良化させる波形等価回路
を整合させるのが難しいという問題点を有していた。
来の構成では、高記録密度における最適磁気コア幅が狭
くなるため、図５のｂで示されるような磁気コア幅が狭
くなる位置において、記録時には磁性体の磁気飽和が発
生し記録効率が低下する。また、再生時には磁気コア幅
が狭いため、磁気抵抗が増加し再生効率が悪くなる。さ
らに、図７に示される従来例のような周波数特性を示す
ため、波形を成型し、誤り率を良化させる波形等価回路
を整合させるのが難しいという問題点を有していた。
【０００７】本発明は上記の問題点を解消し、反出力の
発生をなくし、出力の周波数特性にうねりのない薄膜磁
気ヘッドの提供を目的とする。
発生をなくし、出力の周波数特性にうねりのない薄膜磁
気ヘッドの提供を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の薄膜磁気ヘッドは、絶縁層の中間に磁気シ
ールド層、上部コアの上に他の絶縁層、前記他の絶縁層
の上に他の磁気シールド層、前記他の磁気シールド層の
上に保護層を設ける構成とする。
めに本発明の薄膜磁気ヘッドは、絶縁層の中間に磁気シ
ールド層、上部コアの上に他の絶縁層、前記他の絶縁層
の上に他の磁気シールド層、前記他の磁気シールド層の
上に保護層を設ける構成とする。
【０００９】
【作用】本発明は上記した構成により、コア部の幅を広
くでき、記録時の磁気飽和を防ぐこととなる。
くでき、記録時の磁気飽和を防ぐこととなる。
【００１０】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【００１１】図１は本発明の一実施例における薄膜磁気
ヘッドの断面図を示すものである。図１に示されるよう
に、基板１の上に蒸着法またはスパッタ法等により形成
された非磁性の絶縁層９を介して磁気シールド層１０を
成膜し、下部コア３と同じか、より大きい形に形状を作
る。磁気シールド層１０は軟磁性合金であるパーマロイ
を用いたが、この他に、アモルファス等の軟磁性材料の
使用も可能であり、磁気シールド効果としては、透磁率
が高いことが望まれる。これらの合金が、蒸着法，スパ
ッタ法，めっき法等によって成膜される。厚みは０．５
μｍであった。さらにその上に０．２μｍ程度の非磁性
の絶縁層９を介して下部コア３を形成する。本実施例の
場合、このｃ′で示される厚みは４μｍ程度であった。
その上に記録電流を流し、再生電圧を発生するコイル４
と磁気回路を分割し磁束を外部に発生するための絶縁膜
５とからなるギャップ部６を形成する。コイル４はＣｕ
等の導電膜からなり、その成膜は蒸着法，スパッタ法，
めっき法等によって行なわれる。ギャップ部６の上に上
部コア７が形成される。本実施例の上部コア７の厚みは
６μｍ程度であった。その上に非磁性の他の絶縁層１１
を介して、他の磁気シールド層１２が成膜され、上部コ
ア７と同じ大きさかそれ以上の大きさに形状が形成され
る。この厚みも０．５μｍであった。このように形成さ
れた他の磁気シールド層１２は保護層８により保護され
る。このような薄膜磁気ヘッドは図２に示すような再生
波形を示し、反出力の発生は見られない。このような再
生出力を示す薄膜磁気ヘッドの周波数特性は図７の実施
例に示されるように、一様な減少傾向を示す特性曲線を
示すようになる。また磁気シールドの効果は図３に示さ
れるように、０．１μｍ以上であれば十分なシールド効
果を有する。
ヘッドの断面図を示すものである。図１に示されるよう
に、基板１の上に蒸着法またはスパッタ法等により形成
された非磁性の絶縁層９を介して磁気シールド層１０を
成膜し、下部コア３と同じか、より大きい形に形状を作
る。磁気シールド層１０は軟磁性合金であるパーマロイ
を用いたが、この他に、アモルファス等の軟磁性材料の
使用も可能であり、磁気シールド効果としては、透磁率
が高いことが望まれる。これらの合金が、蒸着法，スパ
ッタ法，めっき法等によって成膜される。厚みは０．５
μｍであった。さらにその上に０．２μｍ程度の非磁性
の絶縁層９を介して下部コア３を形成する。本実施例の
場合、このｃ′で示される厚みは４μｍ程度であった。
その上に記録電流を流し、再生電圧を発生するコイル４
と磁気回路を分割し磁束を外部に発生するための絶縁膜
５とからなるギャップ部６を形成する。コイル４はＣｕ
等の導電膜からなり、その成膜は蒸着法，スパッタ法，
めっき法等によって行なわれる。ギャップ部６の上に上
部コア７が形成される。本実施例の上部コア７の厚みは
６μｍ程度であった。その上に非磁性の他の絶縁層１１
を介して、他の磁気シールド層１２が成膜され、上部コ
ア７と同じ大きさかそれ以上の大きさに形状が形成され
る。この厚みも０．５μｍであった。このように形成さ
れた他の磁気シールド層１２は保護層８により保護され
る。このような薄膜磁気ヘッドは図２に示すような再生
波形を示し、反出力の発生は見られない。このような再
生出力を示す薄膜磁気ヘッドの周波数特性は図７の実施
例に示されるように、一様な減少傾向を示す特性曲線を
示すようになる。また磁気シールドの効果は図３に示さ
れるように、０．１μｍ以上であれば十分なシールド効
果を有する。
【００１２】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、コア部の幅を広くでき、記録時の磁気飽和を防
ぐことができるので、反出力の発生がなくなり、再生効
率を上げ、波形等価回路の整合性を容易にする薄膜磁気
ヘッドを実現できる。
よれば、コア部の幅を広くでき、記録時の磁気飽和を防
ぐことができるので、反出力の発生がなくなり、再生効
率を上げ、波形等価回路の整合性を容易にする薄膜磁気
ヘッドを実現できる。
【図１】本発明の実施例における薄膜磁気ヘッドの断面
図
図
【図２】同じく再生波形図
【図３】本発明における反再生出力と磁気シールド層の
厚みの関係図
厚みの関係図
【図４】（ａ）は従来の薄膜磁気ヘッドの上面図 （ｂ）は同じく断面図
【図５】従来の薄膜磁気ヘッドの要部拡大断面図
【図６】同じく再生波形図
【図７】従来例と実施例の出力の周波数特性図
１ 基板 ３ 下部コア ６ ギャップ部 ７ 上部コア ８ 保護層 ９ 絶縁層 １０ 磁気シールド層 １１ 他の絶縁層 １２ 他の磁気シールド層
Claims (1)
- 【請求項１】基板の上に絶縁層、その絶縁層の上に下部
コア、その下部コアの上にギャップ部、そのギャップ部
の上に上部コア、その上部コアの上に保護層を順次設け
る薄膜磁気ヘッドにおいて、上記絶縁層の中間に磁気シ
ールド層、上記上部コアの上に他の絶縁層、前記の他の
絶縁層の上に他の磁気シールド層を設けた薄膜磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3249006A JPH0589433A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3249006A JPH0589433A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0589433A true JPH0589433A (ja) | 1993-04-09 |
Family
ID=17186610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3249006A Pending JPH0589433A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0589433A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6025977A (en) * | 1994-12-30 | 2000-02-15 | International Business Machines Corporation | Combined magnetoresistive (MR) read and inductive write head with sunken write coil |
| EP1691349A3 (en) * | 2005-02-14 | 2008-09-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Probe head and method of fabricating the same |
-
1991
- 1991-09-27 JP JP3249006A patent/JPH0589433A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6025977A (en) * | 1994-12-30 | 2000-02-15 | International Business Machines Corporation | Combined magnetoresistive (MR) read and inductive write head with sunken write coil |
| US6156375A (en) * | 1994-12-30 | 2000-12-05 | International Business Machines Corporation | Method of making read/write magnetoresistive (MR) head with sunken components |
| EP1691349A3 (en) * | 2005-02-14 | 2008-09-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Probe head and method of fabricating the same |
| EP2348505A1 (en) * | 2005-02-14 | 2011-07-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Probe head and method of fabricating the same |
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