JPH0198161U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0198161U JPH0198161U JP19235587U JP19235587U JPH0198161U JP H0198161 U JPH0198161 U JP H0198161U JP 19235587 U JP19235587 U JP 19235587U JP 19235587 U JP19235587 U JP 19235587U JP H0198161 U JPH0198161 U JP H0198161U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation source
- vacuum chamber
- substrate
- thin film
- synthesis apparatus
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 5
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- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図はこの考案の一実施例の薄膜合成装置の
構成図、第２図は従来の薄膜合成装置の構成図、
第３図および第４図は各々従来の薄膜合成装置に
よる膜のバラツキを示す公転軸側からの距離（cm
）による（Ｂａ／Ｙ）原子比変化を示す特性図、
第５図はこの考案の一実施例の薄膜合成装置によ
る膜のバラツキを示す公転軸からの距離（cm）に
よる（Ｂａ／Ｙ）原子比変化を示す特性図である
。 図において、１は真空チヤンバー、４は蒸発源
、５は基板、８１は公転体、９１は自転体である
。なお、各図中同一符号は同一又は相当部分を示
す。
構成図、第２図は従来の薄膜合成装置の構成図、
第３図および第４図は各々従来の薄膜合成装置に
よる膜のバラツキを示す公転軸側からの距離（cm
）による（Ｂａ／Ｙ）原子比変化を示す特性図、
第５図はこの考案の一実施例の薄膜合成装置によ
る膜のバラツキを示す公転軸からの距離（cm）に
よる（Ｂａ／Ｙ）原子比変化を示す特性図である
。 図において、１は真空チヤンバー、４は蒸発源
、５は基板、８１は公転体、９１は自転体である
。なお、各図中同一符号は同一又は相当部分を示
す。
Claims (1)
- 真空チヤンバー、この真空チヤンバー内に設け
られた蒸発源、上記真空チヤンバー内に設けられ
、上記蒸発源に対向可能な位置に設けられた基板
、上記蒸発源および基板の内のいずれか一方を自
転させる自転体、並びに上記蒸発源および基板の
内のいずれか一方を他方に対して相対的に公転さ
せる公転体を備えた薄膜合成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19235587U JPH0198161U (ja) | 1987-12-17 | 1987-12-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19235587U JPH0198161U (ja) | 1987-12-17 | 1987-12-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0198161U true JPH0198161U (ja) | 1989-06-30 |
Family
ID=31483217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19235587U Pending JPH0198161U (ja) | 1987-12-17 | 1987-12-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0198161U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006265692A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Cyg Gijutsu Kenkyusho Kk | スパッタ装置 |
-
1987
- 1987-12-17 JP JP19235587U patent/JPH0198161U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006265692A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Cyg Gijutsu Kenkyusho Kk | スパッタ装置 |