JPH0282767U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0282767U JPH0282767U JP16172788U JP16172788U JPH0282767U JP H0282767 U JPH0282767 U JP H0282767U JP 16172788 U JP16172788 U JP 16172788U JP 16172788 U JP16172788 U JP 16172788U JP H0282767 U JPH0282767 U JP H0282767U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- vacuum chamber
- evaporation
- thin film
- drive shaft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案実施例の構造説明図で、ａは正
面図、ｂは右側面図、ｃはシヤツタ３の直上から
見た平面図、第２図はその作用説明図、第３図は
本考案の他の実施例の構成並びに作用説明図、第
４図は本考案の更に他の実施例の構成並びに作用
説明図、第５図および第６図はそれぞれ従来の薄
膜製造装置の説明図である。 １，２……蒸着源、３……シヤツタ、４……シ
ヤツタ駆動軸、５……真空チヤンバ、Ｗ……基板
。
面図、ｂは右側面図、ｃはシヤツタ３の直上から
見た平面図、第２図はその作用説明図、第３図は
本考案の他の実施例の構成並びに作用説明図、第
４図は本考案の更に他の実施例の構成並びに作用
説明図、第５図および第６図はそれぞれ従来の薄
膜製造装置の説明図である。 １，２……蒸着源、３……シヤツタ、４……シ
ヤツタ駆動軸、５……真空チヤンバ、Ｗ……基板
。
Claims (1)
- 真空チヤンバ内に複数の蒸着源を備え、その各
蒸着源からの蒸発粒子を上記真空チヤンバ内の基
板表面に導いて薄膜を成長させる装置において、
上記真空チヤンバ内に、シヤツタを固着して回動
自在の１本のシヤツタ駆動軸を配設するとともに
、上記シヤツタは、上記シヤツタ駆動軸の回動位
置に応じて、上記複数の蒸着源からの蒸発粒子の
上記基板への各進行路の全てを開放した状態、全
てを閉鎖した状態、および任意の一部を閉鎖した
状態のいずれをもとれる形状を有していることを
特徴とする、薄膜製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16172788U JPH0282767U (ja) | 1988-12-12 | 1988-12-12 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16172788U JPH0282767U (ja) | 1988-12-12 | 1988-12-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0282767U true JPH0282767U (ja) | 1990-06-26 |
Family
ID=31444923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16172788U Pending JPH0282767U (ja) | 1988-12-12 | 1988-12-12 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0282767U (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5239584A (en) * | 1975-09-25 | 1977-03-26 | Hitachi Ltd | Vacuum evaporation apparatus |
-
1988
- 1988-12-12 JP JP16172788U patent/JPH0282767U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5239584A (en) * | 1975-09-25 | 1977-03-26 | Hitachi Ltd | Vacuum evaporation apparatus |