JPH02102178A - 施釉ブースの洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、タイル搬送コンベアの途中に配置された施釉
ブース本体の内部を洗浄する装置に関する。

【従来の技術】

タイル搬送コンベアの途中に配置された施釉ブース本体
の内部は、施釉ノズルから噴射した釉薬ミストが施釉ブ
ース本体の内壁面等に付着するため、４０分に１回程度
のサイクルで洗浄する必要があり、更に釉薬を前回使用
の品番と異なるものに変更する場合にも変更毎に洗浄す
る必要がある。 従来、施釉ブース本体の内部の洗浄については、作業員
が洗浄水吐出ガンを用いて手作業で行うため下記の如き
問題点があった。 （ａｌ　　洗浄のために熟練した専従作業者を必要とす
るため、省人化の妨げとなる。 （ｂ）　　施釉ブース本体の内部において手作業で洗浄
水吐出ガンの噴出角度を適宜変更してブース本体の内部
全体を遺漏なく洗浄することは、熟練者であっても非常
に難しい。そのため、従来は、洗い残しが多々発生し、
洗い残し箇所の釉薬がタイル素地に落ちる釉ボタ現象に
より、タイル製造の歩留を低下させていた。 （Ｃ１手作業であるため洗浄に多くの時間を必要とし、
施釉装置の稼動効率が低い。 本発明は、上記問題点を解決するために、施釉ブースの
内部において洗浄ノズルを機械的に前後移動、上下移動
８回転運度及び揺動運動させることにより、施釉ブース
の内部を遺漏なく洗浄することができる洗浄装置の提供
を目的とする。

【課題を解決するための手段］ 本発明に係る施釉ブースの洗浄装置（以下、「本発明装
置」という）の要旨は、タイル搬送コンベアの途中に配
置された施釉ブース本体の内部を洗浄する装置であって
、施釉ブース本体の上方に配置され且つタイル搬送コン
ベアに沿って移動する送り台と、送り台の送り吊を調節
する送り駆動手段と、送り台に昇降自在に取付られた保
持具と、上下方向に沿って延びる回転軸芯を有し且つ保
持具に回転自在に取付けられた回転体と、回転体の回転
角度を調節する回転駆動手段と、回転体の回転軸芯と直
交する揺動軸芯を有し且つ回転体の下端側に揺動自在に
取付けられた洗浄ノズルと、洗浄ノズルの揺動角度を調
節する揺動駆動手段と、上記洗浄ノズルが前記施釉ブー
ス本体の上方の待機位置から施釉ブース本体の内部の所
望位置までの間を昇降するように前記保持具の高さ位置
を調節する昇降駆動手段とを備えたことである。 【作　用】 本発明装置の作用を第１図乃至第３図に示す実施例に基
づいて説明する。 施釉ブース本体２の上方に待機している洗浄ノズル１０
は、昇降駆動手段７の駆動により保持具６及び回転体８
が降下するのに伴ない施釉ブース本体２の内部まで降下
し、更に必要に応じて施釉ブース本体２の内部で矢符Ａ
方向に昇降移動する。 降下した洗浄ノズル１０は、送り駆動手段５の駆動によ
り送り台４が矢符り方向に前後移動するのに伴ない、施
釉ブース本体２の内部で前後移動する。 また、降下した洗浄ノズル１０は、回転駆動手段９の駆
動により回転体８が矢符Ｅ方向に回転するのに伴ない、
施釉ブース本体２の内部で回転運動すると共に、揺動駆
動手段１１の駆動により施釉ブース本体２の内部で矢符
Ｆ方向に揺動運動する。洗浄ノズル１０は、施釉ブース
本体２の内部での昇降移動０前後移動９回転運動及び揺
動運動を適宜調節することにより、施釉ブース本体２の
内部の被洗浄面の全滅に亘って洗浄水を噴出する。

【実施例】

以下、本発明装置を第１図乃至第６図に示す実施例に基
づいて説明する。 なお、以下の記載において、「前」とは第２図。 第３図、第５図及び第６図における左側を意味し、「侵
」とは、これらの図における右側を指す。また、「左」
とは、第１図及び第４図における左側を意味し、「右」
とは、これらの図における右側を指す。 第１図及び第２図に示す如く、タイル搬送コンベア３は
、前後方向に張架されたローブコンベア等からなり、そ
の途中に施釉ブース本体２が配置されている。施釉ブー
ス本体２は、その内部において、タイル搬送コンベア３
より上方に配置した前後方向に長い回動棒１２を前後壁
２ａ、　２ｂに軸支すると共に、回転棒１２に施釉ノズ
ル１４を取着しである。回動棒１２は、施釉ブース本体
２の外部に配置した揺動クランク機構１３で正逆回転駆
動され、施釉ノズル１４を適宜揺動角度で首振りさせる
。施釉ノズル１４は、前記タイル搬送コンベア３に案内
されて施釉ブース本体２内を通過するタイルＴの表面Ｔ
ａに向って釉薬Ｓを噴射する。施釉ブース本体２は、二
枚の天井板２ｃ、　２ｃを前後摺動自在に配置すると共
に天井板２ｃ、　２ｃを自動開閉操作する操作手段（図
示は省略）を備え、施釉の際には天井が閉状態となり、
洗浄の際には後述する回転体８及び洗浄ノズル１０が進
入する開口部Ｒ（第２図参照）を天井に形成する。 施釉ブース本体２の上方には、支持フレーム１７の前後
方向に長い梁１７ａ　、　１７ａを配置すると共に梁１
７ａ　、　１７ａの上面に案内レール１８．１８を敷設
し、案内レール１８．１８に送り台４を前後移動自在に
案内しである。送り台４の前後送り門を調節する送り駆
動手段５は、送り台４の上方に固定配置された前後方向
に長いスクリュー軸５ａと、スクリー軸５ａに螺合する
ボール捩子（図示は省略）を内蔵するケーシングを送り
台４に接合したボール捩子ユニット５ｂと、ボール捩子
ユニット５ｂのボール捩子を回転駆動するサーボモータ
５Ｃとからなる。 前記送り台４の下方には、第４図及び第５図に示す如く
、保持具６を昇降自在に配置しである。 保持具６は、天板６ａと前後側板６ｂ、　６ｃと底板６
ｄとで枠組みされている。保持具６の高さ位置をｖＡｌ
ｌｉｊする昇降駆動手段７は、保持具６の天板６ａの前
後端寄りから立設した被案内棒７ａ、　７ａと、被案内
棒７ａ、　７ａを上下移動自在に案内するように前記送
り台４に取付けた案内筒７ｂ、　７ｂと、天板６ａの中
央寄りから立設したラック等からなる従動棒７Ｃと、従
動棒７Ｃを上下駆動するように送り台４に取付だサーボ
モータ７ｄとからなる。 前記保持具６は、第６図に示す如く、底板６ｄの下面に
軸受具６ｅが配置されている。この軸受具６ｅには、上
下方向に沿って延びる回転軸芯Ｇを有する回転体８が軸
支されている。この回転体８は、軸受具６ｅから上方に
突出する従動軸部８ａと、軸受具６ｅに軸支される軸支
部８ｂと、軸支部８ｂから下方に延長された中間部８Ｃ
と、中間部８Ｃの下端に７ランジ接合８ｄされた延長部
８ｅとからなる。回転体８の従動軸部８ａ、軸支部８ｂ
及び中間部８Ｃには、洗浄水路８ｈが穿設されている。 洗浄水路８ｈは、その上端に回転継手２０を取着する共
に、その下端に延長管２１を接合しである。回転継手２
０には、給水管２２を接合しである。回転体８の回転角
度を調節する回転駆動手段９は、回転体８の従動軸部８
ａに取着した傘歯車等からなる従動具９ａと、従動具９
ａを駆動するように前記保持具６の後側板６Ｃに取着し
たサーボモータ９ｂとからなる。 回転体８の下端側には、回転体８の回転軸芯Ｇと直交す
る揺動軸芯Ｈを有する洗浄ノズル１０を揺動自在に設け
である。洗浄ノズル１０は、回転体８の延長部８ｅの下
端に形成した切込み部８ｆの側板８Ｑ。 ８ｇに軸支１０ａ　、　１０ａ　した回動軸ｉｏｂと、
回動軸１０ｂに接合し且つ切込み部８ｆから外方へ突出
したノズル本体１０ｃとからなる。回転軸１０ｂは、洗
浄水路１０ｄが穿設されていると共に、この洗浄水路１
０ｄに回転継手２３を介して前記延長管２１を接続しで
ある。洗浄ノズル１０の揺動角度を調節する揺動駆動手
段１１は、上方の保持具６の前側板６ｂに取着した案内
具１１ａと、案内具１１ａに上下移動自在に案内したラ
ック等からなる従動棒１１ｂと、従動棒１１ｂを上下駆
動するサーボ−モータ１１ｉ　と、従動棒１１ｂの移動
ｍを検出するエンコーダー等からなる変位検出器１１ｊ
と、従動棒１１ｂと一体に上下移動するように従動棒１
１ｂの下端に接続され且つ前記回転体８の中間部８Ｃに
遊嵌したスライダー１１ｃと、スライダー１１ｃに回転
自在に外嵌した中間回転具１１ｄと、中間回転具１１ｄ
に上端が接続され下端側にラック等の伝動部材１１ｅを
接続した中間媒介具１１「と、中間媒介具１１ｆを上下
移動自在に案内するように回転体８の側板８ｇに取着し
た案内具１１Ｑと、中間媒介具１１ｆの伝動部材１１ｅ
から回動力を受けるように前記洗浄ノズル１０の回動軸
１０ｂに取着したビニオン等からなる受動部材１１ｈと
からなる。揺動駆動手段１１は、サーボモータ１１ｉの
駆動力を従動棒１１ｂ、スライダー１１ｃ、中間回転具
１１ｄ、中間媒介具１１「及び受動部材１１ｈを介して
洗浄ノズル１０の回動軸１０ｂに伝達し、従動棒１１ｂ
の上下移動量に対応して洗浄ノズル１０を揺動させる。 洗浄ノズル１０の揺動角度は、従動棒１１ｂの移動ωを
検出する変位検出器１１ｊで検知される。なお、揺動駆
動手段１１は、回転体８に遊嵌したスライダー１１ｃに
対して中間回転具１１ｄが回転するため、回転体８が回
転中であっても、洗浄ノズル１０を揺動させることがで
きる。 次に本発明装置の動作を洗浄手順に従って説明する。 施釉ブース本体２の内部の洗浄を開始する場合には、施
釉ノズル１４の釉薬噴出を停止する共に、第１図及び第
２図に示す如く、施釉ブース本体２の天井板２ｃ、　２
ｃを開操作して開口部Ｒ（第２図参照）を天井に形成す
る。開口部Ｒの上方に待機している洗浄ノズル１０は、
昇降駆動手段７の駆動により保持具６が降下するのに伴
ない施釉ブース本体２の内部まで降下（同図中の二点鎖
線参照）し、更に必要に応じて施釉ブース本体２の内部
で矢符Ａ方向に昇降移動する。降下した洗浄ノズル１０
は、送り駆動手段５の駆動により送り台４が矢符り方向
に前後移動するのに伴ない、施釉ブース本体２の内部で
前後移動する。また、降下した洗浄ノズル１０は、回転
駆動手段１の駆動により回転体８が矢符Ｅ方向に回転す
るのに伴ない、施釉ブース本体２の内部で回転運動する
と共に、揺動駆動手段１１の駆動により施釉ブース本体
２の内部で矢符Ｆ方向に揺動運動する。洗浄ノズル１０
は、施釉ブース本体２の内部で、昇降移動１前後移動１
回転運動及び揺動運動することにより、施釉ブース本体
２の内部の回動棒１２．施釉ノズル１４及び内壁面等か
らなる被洗浄面の全域に亘って洗浄水を噴出し、被洗浄
面に付着している釉薬を完全に洗い流す。 昇降駆動手段７のサーボモータ？ｄ、送り駆動手段１９
のサーボモータ１９Ｃ１回転駆動手段９のサーボモータ
９ｂ及び揺動駆動手段１１のサーボ−モータ１１１に関
する駆動手順及び駆動時間を指示するシーケンサ−を備
えた場合には、施釉ブース本体２の内部形状に対応した
最適な洗浄手順を自動的に行なわＶることが可能となる
。

【発明の効果】

以上詳述の如く、本発明装置は、施釉ブースの内部にお
いて洗浄ノズルを機械的に前後移動、上下移動０回転速
度及び揺動運動させることにより、施釉ブース本体の内
部の被洗浄面全域を遺漏なく洗浄することができるため
、次の如き優れた効果を有する。 ■　従来必要とされていた洗浄のための専従作業者を必
要としないため、省人化が図れる。 ■　施釉ブース本体の内部全体を遺漏なく洗浄すること
ができるため、従来発生していた洗い残しによる釉ボタ
現象が無くなり、タイル製造の歩留を飛躍的に向上させ
ることが可能となる。 ■　礪械化により洗浄時間を従来に比べ短縮することが
できるため、施釉装置の稼動効率を高くすることが可能
となる。

【図面の簡単な説明】

図面はいずれも本発明装置の実施例を示すものであって
、第１図は本発明装置全体を前方から正視した部分断面
図、第２図は本発明装置全体を示す右側断面図、第３図
は洗浄ノズル等の動きを示すスケルトン図、第４図は本
発明装置の主要部を前方から正視した部分断面図、第５
図は本発明装置の主要部を示す一部切欠き右側面図、第
６図は本発明装置の主要部を拡大して示す縦断面図であ
る。 ２・・・施釉ブース本体　３・・・タイル搬送コンベア
４・・・送り台　　　　　　５・・・送り駆動手段６・
・・保持具　　　　　７・・・昇降駆動手段８・・・回
転体　　　　　９・・・回転駆動手段１０・・・洗浄ノ
ズル　　　１１・・・揺動駆動手段Ｇ・・・回転軸芯　
　　　Ｈ・・・揺動軸芯特許出願人　　株式会社イナッ
クス 代　理　人　　弁理士　内１）敏彦 第４ 図 第 図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、タイル搬送コンベアの途中に配置された施釉ブース
   本体の内部を洗浄する装置であつて、施釉ブース本体の
   上方に配置され且つタイル搬送コンベアに沿って移動す
   る送り台と、送り台の送り量を調節する送り駆動手段と
   、送り台に昇降自在に取付られた保持具と、上下方向に
   沿って延びる回転軸芯を有し且つ保持具に回転自在に取
   付けられた回転体と、回転体の回転角度を調節する回転
   駆動手段と、回転体の回転軸芯と直交する揺動軸芯を有
   し且つ回転体の下端側に揺動自在に取付けられた洗浄ノ
   ズルと、洗浄ノズルの揺動角度を調節する揺動駆動手段
   と、上記洗浄ノズルが前記施釉ブース本体の上方の待機
   位置から施釉ブース本体の内部の所望位置までの間を昇
   降するように前記保持具の高さ位置を調節する昇降駆動
   手段とを備えたことを特徴とする施釉ブースの洗浄装置
   。