JPH02102723U - - Google Patents
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- JPH02102723U JPH02102723U JP1182989U JP1182989U JPH02102723U JP H02102723 U JPH02102723 U JP H02102723U JP 1182989 U JP1182989 U JP 1182989U JP 1182989 U JP1182989 U JP 1182989U JP H02102723 U JPH02102723 U JP H02102723U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- edge
- partition wall
- exchange chamber
- substrate exchange
- seal
- Prior art date
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- Granted
Links
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 claims description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims 4
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案の第１実施例を示す縦型気相成
長装置の要部縦断面図、第２図は同じく第２実施
例を示す要部の拡大縦断面図、第３図及び第４図
は本考案の第３実施例を示すもので、第３図は縦
型気相成長装置の要部縦断面図、第４図は同じく
要部の拡大縦断面図、第５図は本考案の第４実施
例を示す要部の拡大縦断面図、第６図は従来の縦
型気相成長装置を示す縦断面図である。 ２……気相成長室、３……基板交換室、３ａ，
１６，２２，２７……仕切壁、１１，１５，２０
，２５……蓋部材、１２，１７，２１，２６……
シール縁、１３，１９，２４，２９……シールリ
ング、１８，２３，２８……垂下縁、２１ａ，２
３ａ，２６ａ，２８ａ……斜面部。
長装置の要部縦断面図、第２図は同じく第２実施
例を示す要部の拡大縦断面図、第３図及び第４図
は本考案の第３実施例を示すもので、第３図は縦
型気相成長装置の要部縦断面図、第４図は同じく
要部の拡大縦断面図、第５図は本考案の第４実施
例を示す要部の拡大縦断面図、第６図は従来の縦
型気相成長装置を示す縦断面図である。 ２……気相成長室、３……基板交換室、３ａ，
１６，２２，２７……仕切壁、１１，１５，２０
，２５……蓋部材、１２，１７，２１，２６……
シール縁、１３，１９，２４，２９……シールリ
ング、１８，２３，２８……垂下縁、２１ａ，２
３ａ，２６ａ，２８ａ……斜面部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 気相成長室の下部に基板交換室を連設し、該
基板交換室内に、該基板交換室上面の仕切壁に当
接して、前記両室を開閉可能に仕切る蓋部材を昇
降可能に備えた縦型気相成長装置において、前記
蓋部材の外周部に、前記仕切壁方向に突出するシ
ール縁を突設するとともに、該シール縁と前記仕
切壁との当接面の少なくともいずれか一方にシー
ルリングを設けたことを特徴とする縦型気相成長
装置。 ２ 気相成長室の下部に基板交換室を連設し、該
基板交換室内に、該基板交換室上面の仕切壁に当
接して、前記両室を開閉可能に仕切る蓋部材を昇
降可能に備えた縦型気相成長装置において、前記
蓋部材の外周部に、前記仕切壁方向に突出するシ
ール縁を突設するとともに、前記仕切壁に、前記
シール縁の内周側もしくは外周側に対応する垂下
縁を突設し、シール縁と垂下縁との摺接面の少な
くともいずれか一方にシールリングを設けたこと
を特徴とする縦型気相成長装置。 ３ 前記蓋部材のシール縁の摺接面を、内周面が
上方に拡径する斜面部、もしくは外周面が上方に
縮径する斜面部とし、かつ該斜面部からなるシー
ル縁の摺接面に対応する前記仕切壁の垂下縁の外
周面もしくは内周面を、前記シール縁の摺接面に
対応して下方が縮径もしくは拡径する斜面部とし
たことを特徴とする請求項２記載の縦型気相成長
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989011829U JPH071789Y2 (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 縦型気相成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989011829U JPH071789Y2 (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 縦型気相成長装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02102723U true JPH02102723U (ja) | 1990-08-15 |
| JPH071789Y2 JPH071789Y2 (ja) | 1995-01-18 |
Family
ID=31220726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989011829U Expired - Fee Related JPH071789Y2 (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 縦型気相成長装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH071789Y2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016039174A (ja) * | 2014-08-05 | 2016-03-22 | 住友化学株式会社 | 反応容器の密閉構造、および基板処理装置 |
| JP2017197779A (ja) * | 2016-04-25 | 2017-11-02 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
| CN107326340A (zh) * | 2017-08-29 | 2017-11-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 成膜设备 |
| US11251019B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-02-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Plasma device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63190327A (ja) * | 1987-02-03 | 1988-08-05 | Toshiba Corp | 気相成長装置 |
-
1989
- 1989-02-03 JP JP1989011829U patent/JPH071789Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63190327A (ja) * | 1987-02-03 | 1988-08-05 | Toshiba Corp | 気相成長装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016039174A (ja) * | 2014-08-05 | 2016-03-22 | 住友化学株式会社 | 反応容器の密閉構造、および基板処理装置 |
| JP2017197779A (ja) * | 2016-04-25 | 2017-11-02 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
| US10385455B2 (en) | 2016-04-25 | 2019-08-20 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Film forming apparatus and film forming method |
| US11251019B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-02-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Plasma device |
| CN107326340A (zh) * | 2017-08-29 | 2017-11-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 成膜设备 |
| CN107326340B (zh) * | 2017-08-29 | 2023-06-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 成膜设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH071789Y2 (ja) | 1995-01-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |