JPH02103189A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH02103189A JPH02103189A JP63257818A JP25781888A JPH02103189A JP H02103189 A JPH02103189 A JP H02103189A JP 63257818 A JP63257818 A JP 63257818A JP 25781888 A JP25781888 A JP 25781888A JP H02103189 A JPH02103189 A JP H02103189A
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- Japan
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- substrate
- optical disk
- optical recording
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- optical
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000693 micelle Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 13
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 9
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 3
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 230000005374 Kerr effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000003115 supporting electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- Credit Cards Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は、光記録材料として、無機化合物薄膜を用いる
光記録媒体の薄膜の形成方法に関するものである。
光記録媒体の薄膜の形成方法に関するものである。
［発明の概要１
本発明は、無機化合物薄膜を用いた光記録媒体において
、その薄膜の形成方法をミセル電解で行う事によりプロ
セスを簡略にし、低コストで品質の安定した光記録媒体
を製造するものである。
、その薄膜の形成方法をミセル電解で行う事によりプロ
セスを簡略にし、低コストで品質の安定した光記録媒体
を製造するものである。
［従来の技術］
磁気メモリーよりも大容量の情報を記録再生できる光メ
モリ−（光記録媒体）は、次世代のメモリーとして近年
活発に開発商品化がすすめられている。
モリ−（光記録媒体）は、次世代のメモリーとして近年
活発に開発商品化がすすめられている。
光記録再生の方法としては、光ビームに対する反射率の
変化を利用する相転移方式やビット穴あけ方民 あるい
は磁性薄膜のカー効果を利用する光磁気方式がある。
変化を利用する相転移方式やビット穴あけ方民 あるい
は磁性薄膜のカー効果を利用する光磁気方式がある。
前者の光反射率変化を利用する方式では光記録材料とし
てＴｅ化合物、Ｉｎ−３ｅ化合物等、無機化合物薄膜を
使った物が有望で、すでに商品化されている物もある。
てＴｅ化合物、Ｉｎ−３ｅ化合物等、無機化合物薄膜を
使った物が有望で、すでに商品化されている物もある。
また、光磁気方式のディスク媒体においても、Ｔｂ−Ｆ
ｅ−Ｃｏ系、Ｎｄ−Ｄｙ系等の無機の金属磁性薄膜が使
われている。
ｅ−Ｃｏ系、Ｎｄ−Ｄｙ系等の無機の金属磁性薄膜が使
われている。
しかし、その製造方法は、いずれも真空中でのスパッタ
リング法や蒸着法であるために生産性が劣り、コスト的
に高いものとなっていた。
リング法や蒸着法であるために生産性が劣り、コスト的
に高いものとなっていた。
［発明が解決しようとする課題］
本発明は、以上の様な従来法の問題であった光ディスク
基板上への無機化合物薄膜形成を容易に行う事が出来る
様にし、安価で高性能な光ディスクを提供する事を目的
としている。
基板上への無機化合物薄膜形成を容易に行う事が出来る
様にし、安価で高性能な光ディスクを提供する事を目的
としている。
［課題を解決するための手段］
本発明では、光記録材料としての無機化合物の微粒子を
、界面活性剤で取り囲んでコロイド状態のミセル電解液
とした後、このミセル電解液に、表面、あるいは基板全
体に導電性を付与した光ディスク基板を浸漬し、光ディ
スク基板表面と通電用の電極との間に電圧をかけ、光デ
ィスク基板表面上でミセル電解を行う事により、界面活
性剤に取り囲まれている無機化合物微粒子を基板表面上
に析出薄膜化することを特徴とする。
、界面活性剤で取り囲んでコロイド状態のミセル電解液
とした後、このミセル電解液に、表面、あるいは基板全
体に導電性を付与した光ディスク基板を浸漬し、光ディ
スク基板表面と通電用の電極との間に電圧をかけ、光デ
ィスク基板表面上でミセル電解を行う事により、界面活
性剤に取り囲まれている無機化合物微粒子を基板表面上
に析出薄膜化することを特徴とする。
［作用］
本発明によれば、無機化合物薄膜の光ディスク基板上へ
の形成をミセル電解液中での電解により容易に行う事が
出来、装置的にも簡略な設備ですみ生産性も高いため、
安価で高性能の光ディスクを大量に生産する事が可能に
なった。
の形成をミセル電解液中での電解により容易に行う事が
出来、装置的にも簡略な設備ですみ生産性も高いため、
安価で高性能の光ディスクを大量に生産する事が可能に
なった。
［実施例］
第１図（ａ）〜（ｄ）は、本発明の光記録媒体め実施例
の手順と膜構成を説明するための断面図である。光ディ
スク基板（１）は、射出成形により製造された厚み１．
２ｍｍのＰＣ基板である。
の手順と膜構成を説明するための断面図である。光ディ
スク基板（１）は、射出成形により製造された厚み１．
２ｍｍのＰＣ基板である。
この基板のグループ表面に導電性を付与するためＩＴＯ
（インジウム・スズ酸化物）Ｉ！ｉ！（２）をスパッタ
リング法により７００人の厚みに形成する（内、外周は
マスキングして、ＩＴＯが形成されない様にした）。
（インジウム・スズ酸化物）Ｉ！ｉ！（２）をスパッタ
リング法により７００人の厚みに形成する（内、外周は
マスキングして、ＩＴＯが形成されない様にした）。
次にこの基板を、Ｐｂ−Ｔｅ−８ｅ化合物の微粉子を界
面活性剤で取り囲んでコロイド状態とした、ミセル電解
液中に浸漬し、陰極としてプラチナ板との間に電圧をか
け、光ディスク基板表面でのミセル電解により１．５ｏ
ｏＸ程度の厚みのＰｂ−Ｔｅ−８ｅ膜（３）が形成され
る。
面活性剤で取り囲んでコロイド状態とした、ミセル電解
液中に浸漬し、陰極としてプラチナ板との間に電圧をか
け、光ディスク基板表面でのミセル電解により１．５ｏ
ｏＸ程度の厚みのＰｂ−Ｔｅ−８ｅ膜（３）が形成され
る。
この様にして作られた光ディスク２枚を、スペサー（４
）をかいして張り合わせる事により両面光ディスク（ｄ
）として完成した物となる。
）をかいして張り合わせる事により両面光ディスク（ｄ
）として完成した物となる。
ミセル水溶液は、界面活性剤としてフェロセニルＰＥＧ
（同人化学型）を用い、液組成、電解条件は以下の様に
行った。
（同人化学型）を用い、液組成、電解条件は以下の様に
行った。
く液組成〉
・フェロセニルＰＥＧ ； ２．５ｍＭ・Ｌ
ｉＢｒ （支持電解質）ｉｏ、３Ｍ・Ｐｂ−Ｔｅ−３ｓ
化合物 ； ８ｍＭ〈電解条件） ・電解電位 、１．２Ｖ ・電解時間 ； ７ｍ１ｎｓ・電解温度
； ３０°Ｃ 撹拌 ； 強攪拌 ［発明の効果１ 本発明は、以上述べたように光ディスク基板上への無機
化合物薄膜の形成を、ミセル電解法で行う事により、無
機化合物系光記録材料の薄膜形成を容易に行う事ができ
るようになった。
ｉＢｒ （支持電解質）ｉｏ、３Ｍ・Ｐｂ−Ｔｅ−３ｓ
化合物 ； ８ｍＭ〈電解条件） ・電解電位 、１．２Ｖ ・電解時間 ； ７ｍ１ｎｓ・電解温度
； ３０°Ｃ 撹拌 ； 強攪拌 ［発明の効果１ 本発明は、以上述べたように光ディスク基板上への無機
化合物薄膜の形成を、ミセル電解法で行う事により、無
機化合物系光記録材料の薄膜形成を容易に行う事ができ
るようになった。
実施例においては、ＰＣ基板に工Ｔｏｍを形成して、基
板表面に導電性を付与する方法について述べたが、これ
以外の導電性物質のコーティング、導電性プラスティク
基板等、基板の表面あるいは全体に導電性を付与するも
のは、すべて本発明に含まれるものである。
板表面に導電性を付与する方法について述べたが、これ
以外の導電性物質のコーティング、導電性プラスティク
基板等、基板の表面あるいは全体に導電性を付与するも
のは、すべて本発明に含まれるものである。
また、光記録材料についても、実施例のビット穴あけ方
式の材料以外に、相転移方式、光磁気方式に使用する無
機化合物材料も本発明の方法を適用する事が可能である
。
式の材料以外に、相転移方式、光磁気方式に使用する無
機化合物材料も本発明の方法を適用する事が可能である
。
第１図（ａ）〜（ｄ）は、本発明の光記録媒体の実施例
の手順と膜構成を示す断面図である。 １・・・光ディスク基板 ２−−−ＩＴＯｌｉ ３・・・無機化合物光記録膜 ４・・・スペーサー 以上 出願人セイコーエプソン株式会社 代理人弁理土鈴木喜三部（他１名）
の手順と膜構成を示す断面図である。 １・・・光ディスク基板 ２−−−ＩＴＯｌｉ ３・・・無機化合物光記録膜 ４・・・スペーサー 以上 出願人セイコーエプソン株式会社 代理人弁理土鈴木喜三部（他１名）
Claims (1)
- 光記録材料として、無機化合物薄膜を用いる光記録媒
体において、無機化合物の微粒子を界面活性剤で取り囲
み、コロイド状態にしたミセル電解液中に、光ディスク
基板を浸漬し、通電用電極との間に電位をかけミセル電
解を行って光ディスク基板上に無機化合物を析出させ、
光記録用薄膜として形成した事を特徴とする光記録媒体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63257818A JPH02103189A (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63257818A JPH02103189A (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02103189A true JPH02103189A (ja) | 1990-04-16 |
Family
ID=17311552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63257818A Pending JPH02103189A (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02103189A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7368223B2 (en) * | 2001-06-01 | 2008-05-06 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Multi-stack optical data storage medium and use of such a medium |
-
1988
- 1988-10-13 JP JP63257818A patent/JPH02103189A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7368223B2 (en) * | 2001-06-01 | 2008-05-06 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Multi-stack optical data storage medium and use of such a medium |
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