JPH02106904A - 複合機能素子 - Google Patents
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- JPH02106904A JPH02106904A JP63262482A JP26248288A JPH02106904A JP H02106904 A JPH02106904 A JP H02106904A JP 63262482 A JP63262482 A JP 63262482A JP 26248288 A JP26248288 A JP 26248288A JP H02106904 A JPH02106904 A JP H02106904A
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、5rTIO,系半導体磁器を主成分とし、そ
の結晶粒界に高抵抗層を形成したバリスタ機能及びコン
デンサ機能を有する複合機能素子の改良に関する。
の結晶粒界に高抵抗層を形成したバリスタ機能及びコン
デンサ機能を有する複合機能素子の改良に関する。
近年、種々の電子機器においてマイクロコンビエータが
塔載されるようになってきており、その場合ノイズによ
る機器の誤動作等が大きな問題となっている。従って、
電圧ノイズを吸収するためのバリスタの需要が増加して
きている。
塔載されるようになってきており、その場合ノイズによ
る機器の誤動作等が大きな問題となっている。従って、
電圧ノイズを吸収するためのバリスタの需要が増加して
きている。
バリスフ材としては、結晶粒界に高抵抗酸化物層を形成
した半導体磁器が知られており、従来より、ZnO系、
SiC系及び5rTiOs系のもの等が用いられている
。
した半導体磁器が知られており、従来より、ZnO系、
SiC系及び5rTiOs系のもの等が用いられている
。
〔発明が解決しようとする技術的課題〕しかしながら、
実用化の進んでいるZnO系バリスタは、電圧非直線性
に優れているが、高速のノイズに対する応答が悪く、静
電気ノイズ等の吸収には効果が小さいという問題があっ
た。
実用化の進んでいるZnO系バリスタは、電圧非直線性
に優れているが、高速のノイズに対する応答が悪く、静
電気ノイズ等の吸収には効果が小さいという問題があっ
た。
他方、SiC系のものでは、電圧非直線性がさほど良く
なく、ノイズ電圧を吸収しきれない場合があった。
なく、ノイズ電圧を吸収しきれない場合があった。
従って、5rTjOj系のバリスタが注目されてきてい
る# S r T i 03系半導体磁器を用いたバリ
スタの最大特徴は、静電容量が大きいことであり、Zn
O系半導体磁器に比べて10倍近い静電容量を有する。
る# S r T i 03系半導体磁器を用いたバリ
スタの最大特徴は、静電容量が大きいことであり、Zn
O系半導体磁器に比べて10倍近い静電容量を有する。
従って、高速ノイズの吸収能に優れているものである。
しかしながら、バリスタ特性、すなわち電圧非直線性に
ついては、5rTiOs系半導体磁器は、SiC系半導
体磁器に比べて2倍程度の性能を有するが、ZnOに比
べると172〜115とがなり劣る。よって、電圧抑制
効果が小さいので、5rTiCh系半導体磁器の使用を
考える上で大きな問題となっていた。
ついては、5rTiOs系半導体磁器は、SiC系半導
体磁器に比べて2倍程度の性能を有するが、ZnOに比
べると172〜115とがなり劣る。よって、電圧抑制
効果が小さいので、5rTiCh系半導体磁器の使用を
考える上で大きな問題となっていた。
また、マイクロコンピュータの駆動電圧は3〜5■程度
であり、現状では、この低い駆動電圧に対応し得るバリ
スタも存在しない、従って、このような低駆動電圧に対
応し得るバリスタの登場が望まれている。
であり、現状では、この低い駆動電圧に対応し得るバリ
スタも存在しない、従って、このような低駆動電圧に対
応し得るバリスタの登場が望まれている。
よって、本発明の目的は、高速ノイズの吸収能に優れ、
かつ電圧非直線性も高められており、さらに所望のバリ
スタ電圧を容品に得ることが可能5rTiO,系複合機
能素子を提供することにある。
かつ電圧非直線性も高められており、さらに所望のバリ
スタ電圧を容品に得ることが可能5rTiO,系複合機
能素子を提供することにある。
本発明の複合機能素子は、5rTiO,を主成分とし、
半導体化剤として、希土類元素、Nb、W及びTaの各
酸化物からなる群から選択した少なくとも111を含む
半導体磁器組成物に対して、下記のガラス組成物の結晶
粒界に拡散されている半導体磁器を用いて構成されたこ
とを特徴とする。
半導体化剤として、希土類元素、Nb、W及びTaの各
酸化物からなる群から選択した少なくとも111を含む
半導体磁器組成物に対して、下記のガラス組成物の結晶
粒界に拡散されている半導体磁器を用いて構成されたこ
とを特徴とする。
このガラス酸化物が、Bi%Pb及びZnのうち少なく
とも1種と、B及びSiのうち少なくとも171と、F
e、Mn、Go、Ni、C「及びVのうち少なくともI
llとを含む。
とも1種と、B及びSiのうち少なくとも171と、F
e、Mn、Go、Ni、C「及びVのうち少なくともI
llとを含む。
望ましくは、ガラス組成物重量は前記半導体磁器に対し
て1重世%以下であり、Fe、Mn、Co、、Ni、C
r及びVは、それぞれ、Fe、O。
て1重世%以下であり、Fe、Mn、Co、、Ni、C
r及びVは、それぞれ、Fe、O。
、Mn01C010x 、N I O,Crz 03及
びViesの形態でガラス組成中に1〜30重量%添加
含有されている。
びViesの形態でガラス組成中に1〜30重量%添加
含有されている。
上記構成のうち、希土類元素、Nb、W及びTaの各酸
化物を含有させているのは、5rTiO1系磁器の粒界
に高抵抗層を形成し、半導体化するためである。
化物を含有させているのは、5rTiO1系磁器の粒界
に高抵抗層を形成し、半導体化するためである。
(発明の作用及び効果)
従来より、5rTiO,を主成分とした半導体磁器の作
成に際し、Bi、pb、Zn、Cu、Na、B、Si等
を用いて酸化拡散することにより、S r T i O
s系のバリスタやコンデンサを作成し得ることが知られ
ていた。
成に際し、Bi、pb、Zn、Cu、Na、B、Si等
を用いて酸化拡散することにより、S r T i O
s系のバリスタやコンデンサを作成し得ることが知られ
ていた。
そこで、本願発明者たちは、このような5rTiO1系
半導体磁器の特性を活かしつつ、より電圧非直線性に優
れた複合機能素子を得るべく鋭意検討した結果、−旦ガ
ラス化された酸化物を、結晶粒界に拡散させれば、より
優れた電圧非直線性を有する複合機能素子の得られるこ
とを見出し、本発明に至ったものである。
半導体磁器の特性を活かしつつ、より電圧非直線性に優
れた複合機能素子を得るべく鋭意検討した結果、−旦ガ
ラス化された酸化物を、結晶粒界に拡散させれば、より
優れた電圧非直線性を有する複合機能素子の得られるこ
とを見出し、本発明に至ったものである。
すなわち、本発明によれば、Bi%Pb、Znのうち少
なくとも1f!1!、B、Siのうち少なくとも1種、
並びにFe、Mn、Co、N i、Cr及びVのうち少
なくとも1種の各ガラス酸化物が結晶粒界に拡散されて
いるので、拡+1k ffiを調整することによりバリ
スタ電圧を容品にコントロールすることができる。従っ
て、低電圧対応のバリスタを容品に得ることができる。
なくとも1f!1!、B、Siのうち少なくとも1種、
並びにFe、Mn、Co、N i、Cr及びVのうち少
なくとも1種の各ガラス酸化物が結晶粒界に拡散されて
いるので、拡+1k ffiを調整することによりバリ
スタ電圧を容品にコントロールすることができる。従っ
て、低電圧対応のバリスタを容品に得ることができる。
しかも、5rTiO1系半導体磁器の大きな静電容量を
有するという特性を維持したままで、優れた電圧非直線
性が実現される。よって、高速のノイズを効果的に吸収
することができ、また高周波ノイズの吸収性及びサージ
波頭の吸収効果に優れた複合機能素子を得ることが可能
となる。
有するという特性を維持したままで、優れた電圧非直線
性が実現される。よって、高速のノイズを効果的に吸収
することができ、また高周波ノイズの吸収性及びサージ
波頭の吸収効果に優れた複合機能素子を得ることが可能
となる。
(実施例の説明〕
5rCOsとTie、とを、S r T i Osを得
る比率に配合し、半導体化剤としてY工0.が全重量の
0.051iffi%となるように混合したものを用意
した。このようにして調整された混合物を、1000″
C−1200’Cの温度で約3時間、予備焼成し、しか
る後粉砕した。得られた微粉末原料に有機質バインダと
して、ポリビニルアルコールを混入し、造粒した。
る比率に配合し、半導体化剤としてY工0.が全重量の
0.051iffi%となるように混合したものを用意
した。このようにして調整された混合物を、1000″
C−1200’Cの温度で約3時間、予備焼成し、しか
る後粉砕した。得られた微粉末原料に有機質バインダと
して、ポリビニルアルコールを混入し、造粒した。
次に、造粒された粉末を500 K g/cj〜2トン
/c4程度の圧力で成形し、直径1aa、肉厚0゜5−
の円板状の成形体とした。この成形体を1100℃〜1
200℃の範囲の温度で空気中において焼成し、さらに
N、:H□−95モル%:5モル%の還元性雰囲気中で
1400°C−1500°Cの温度で3時間焼成した。
/c4程度の圧力で成形し、直径1aa、肉厚0゜5−
の円板状の成形体とした。この成形体を1100℃〜1
200℃の範囲の温度で空気中において焼成し、さらに
N、:H□−95モル%:5モル%の還元性雰囲気中で
1400°C−1500°Cの温度で3時間焼成した。
得られた焼結体の表面に、下記の第1表に示す組成の酸
化物をガラス化して得られたガラス酸化物をo、tmi
%を布し、900℃〜1200°Cの温度で2時間熱処
理した。最後に、このユニットの表面にインジウム−ガ
リウム合金を電極材として付与し、バリスタ電圧(vi
sa)、電圧非直線係数(α)、静電容! (C) 、
誘111tl失(tanδ)を測定した。結果を第1表
に併せて示す。
化物をガラス化して得られたガラス酸化物をo、tmi
%を布し、900℃〜1200°Cの温度で2時間熱処
理した。最後に、このユニットの表面にインジウム−ガ
リウム合金を電極材として付与し、バリスタ電圧(vi
sa)、電圧非直線係数(α)、静電容! (C) 、
誘111tl失(tanδ)を測定した。結果を第1表
に併せて示す。
なお、第1表におイテは、B i Ox 、P bo。
ZnO,SiO,及びB2O,の割合はモル%で、Fe
w o3 、MnO,Cow Ox 、Ni01
C「20、及びVtOsについては重量%で示しである
。また、ΔVIaAは、8×20μ秒、500Aピーク
のパルスを5分間隔で2回印加した後のV1+aAの変
化率を示す。
w o3 、MnO,Cow Ox 、Ni01
C「20、及びVtOsについては重量%で示しである
。また、ΔVIaAは、8×20μ秒、500Aピーク
のパルスを5分間隔で2回印加した後のV1+aAの変
化率を示す。
第1表から明らかなように、Fe、O,、’MnO,C
r、O,及びv!0.を加えたものでは、添加量が増す
に連れてバリスタ電圧の上昇することがわかる。他方、
この場合、静電容量の方は大きく変動しない、従って、
バリスタ電圧のみを、添加物量によりコントロールし得
ることがわかる。
r、O,及びv!0.を加えたものでは、添加量が増す
に連れてバリスタ電圧の上昇することがわかる。他方、
この場合、静電容量の方は大きく変動しない、従って、
バリスタ電圧のみを、添加物量によりコントロールし得
ることがわかる。
また、Cozol、NiOは、バリスタ電圧を低下させ
る効果があり、この場合には静電容量は添加に伴って増
加することがわかる(試゛料番号9〜12及び試料番号
13〜16のデータを参照されたい)。
る効果があり、この場合には静電容量は添加に伴って増
加することがわかる(試゛料番号9〜12及び試料番号
13〜16のデータを参照されたい)。
従って、Fe、Os 、Mn01CrtOx及び/また
はV!O,の添加量と、Co、O,及び/またはNiO
の添加量とを調整することにより、バリスタ電圧を簡単
にコントロールすることができ、またサージ耐量も若干
向上させ得ることがわかる。
はV!O,の添加量と、Co、O,及び/またはNiO
の添加量とを調整することにより、バリスタ電圧を簡単
にコントロールすることができ、またサージ耐量も若干
向上させ得ることがわかる。
しかしながら、いずれのガラス酸化物を用いた場合であ
っても、添加量が30重量%を超え、50mff1%で
は電圧非直線係数αの低下が大きく、αは10未満とな
った。従って、Fe、、Mn、C0%Ni、Crまたは
Vの各酸化物の添加量は、ガラス酸化物全体の30重量
%以下であることが好ましい。
っても、添加量が30重量%を超え、50mff1%で
は電圧非直線係数αの低下が大きく、αは10未満とな
った。従って、Fe、、Mn、C0%Ni、Crまたは
Vの各酸化物の添加量は、ガラス酸化物全体の30重量
%以下であることが好ましい。
次に、第1表の試料番号2.14.22を用いた各ユニ
ットについて、Fe、Mn%Co、Ni。
ットについて、Fe、Mn%Co、Ni。
Cr及びVの添加物量を変動させ、バリスタ電圧を測定
した。結果を、第1図に示す、第1図から明らかなよう
に、これらの添加割合がガラス酸化物の1重量%を18
1えると、電圧非直線係数αが小さくなり、バリスタ特
性が低下することがわかる。
した。結果を、第1図に示す、第1図から明らかなよう
に、これらの添加割合がガラス酸化物の1重量%を18
1えると、電圧非直線係数αが小さくなり、バリスタ特
性が低下することがわかる。
なお、図中の実線はバリスタ電圧、破線は電圧非直線係
数を示す。
数を示す。
第1図は本発明の実施例におけるバリスタ電圧及び電圧
非直線係数と、Fe、Mn5Co、Ni。 C「及びVの酸化物の添加量との関係を示す図である。 第1図 5−L如1 (褒里幻
非直線係数と、Fe、Mn5Co、Ni。 C「及びVの酸化物の添加量との関係を示す図である。 第1図 5−L如1 (褒里幻
Claims (2)
- (1)SrTiO_3を主成分とし、希土類元素、Nb
、W及びTaの各酸化物からなる群から選択した少なく
とも1種を半導体化剤として含み、Bi、Pb及びZn
のうち少なくとも1種、B及びSiのうち少なくとも1
種並びにFe、Mn、Co、Ni、Cr及びVのうち少
なくとも1種を含むガラス組成物が、結晶粒界に拡散さ
れている半導体磁器を用いて構成された複合機能素子。 - (2)前記ガラス組成物量が前記半導体磁器に対して1
重量%以下であり、Fe、Mn、Co、Ni、Cr及び
VvがFe_2O_3、MnO、Co_2O_3、Mm
O、Cr_2O_3及びV_2O_5の形態で前記ガラ
ス組成物中に1〜30重量%添加含有されていることを
特徴とする請求項1記載の複合機能素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63262482A JP2633330B2 (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 複合機能素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63262482A JP2633330B2 (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 複合機能素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02106904A true JPH02106904A (ja) | 1990-04-19 |
| JP2633330B2 JP2633330B2 (ja) | 1997-07-23 |
Family
ID=17376402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63262482A Expired - Fee Related JP2633330B2 (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 複合機能素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2633330B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105272362A (zh) * | 2015-11-10 | 2016-01-27 | 电子科技大学 | 晶界层半导体陶瓷片氧化剂涂覆料及其制备方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56169316A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-26 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Composition functional element and method of producing same |
| JPS61271802A (ja) * | 1985-05-28 | 1986-12-02 | 石塚電子株式会社 | 電圧非直線抵抗体磁器組成物 |
| JPS62282413A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-08 | 松下電器産業株式会社 | 電圧非直線性抵抗体磁気組成物 |
-
1988
- 1988-10-17 JP JP63262482A patent/JP2633330B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56169316A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-26 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Composition functional element and method of producing same |
| JPS61271802A (ja) * | 1985-05-28 | 1986-12-02 | 石塚電子株式会社 | 電圧非直線抵抗体磁器組成物 |
| JPS62282413A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-08 | 松下電器産業株式会社 | 電圧非直線性抵抗体磁気組成物 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105272362A (zh) * | 2015-11-10 | 2016-01-27 | 电子科技大学 | 晶界层半导体陶瓷片氧化剂涂覆料及其制备方法 |
| CN105272362B (zh) * | 2015-11-10 | 2017-06-30 | 电子科技大学 | 晶界层半导体陶瓷片氧化剂涂覆料及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2633330B2 (ja) | 1997-07-23 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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