JPH0443608A - 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 - Google Patents
電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法Info
- Publication number
- JPH0443608A JPH0443608A JP2151993A JP15199390A JPH0443608A JP H0443608 A JPH0443608 A JP H0443608A JP 2151993 A JP2151993 A JP 2151993A JP 15199390 A JP15199390 A JP 15199390A JP H0443608 A JPH0443608 A JP H0443608A
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- varistor
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電気機器、電子機器で発生する異常高電圧、ノ
イズ、静電気などから機器の半導体及び回路を保護する
ためのコンデンサ特性とバリスタ特性を有する電圧依存
性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法に
関するものである。
イズ、静電気などから機器の半導体及び回路を保護する
ためのコンデンサ特性とバリスタ特性を有する電圧依存
性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法に
関するものである。
従来の技術
従来、各種の電気機器、電子機器における異常高電圧の
吸収、ノイズの除去、火花消去、静電気対策のために電
圧依存性非直線抵抗特性を有するSiCバリスタや、Z
nO系バリスタなどが使用されている。このようなバリ
スタの電圧−電流特性は近似的に次式のように表すこと
ができる。
吸収、ノイズの除去、火花消去、静電気対策のために電
圧依存性非直線抵抗特性を有するSiCバリスタや、Z
nO系バリスタなどが使用されている。このようなバリ
スタの電圧−電流特性は近似的に次式のように表すこと
ができる。
α
1 =(V/C)
ここで、■は電流、■は電圧、Cはバリスタ固有の定数
、αは電圧−電流非直線指数である。
、αは電圧−電流非直線指数である。
SiCバリスタのαは2〜7程度、ZnO系バリスタで
はαが50にもおよぶものがある。このようなバリスタ
は比較的高い電圧の吸収には優れた性能を有しているが
、誘電率が低く、固有の静電容量が小さいため、バリス
タ電圧以下の比較的低い電圧の吸収にはほとんど効果を
示さず、また誘電損失tanδが5〜10%と大きい。
はαが50にもおよぶものがある。このようなバリスタ
は比較的高い電圧の吸収には優れた性能を有しているが
、誘電率が低く、固有の静電容量が小さいため、バリス
タ電圧以下の比較的低い電圧の吸収にはほとんど効果を
示さず、また誘電損失tanδが5〜10%と大きい。
一方、これらの低電圧のノイズなどの除去には見かけの
誘電率が5X10’程度で、tanδが1%前後の半導
体コンデンサが利用されている。しかし、このような半
導体コンデンサはサージなどによりある限度以上の電圧
または電流が印加されると、静電容量が減少したり破壊
したりして、コンデンサとしての機能を果たさなくなっ
たりする。
誘電率が5X10’程度で、tanδが1%前後の半導
体コンデンサが利用されている。しかし、このような半
導体コンデンサはサージなどによりある限度以上の電圧
または電流が印加されると、静電容量が減少したり破壊
したりして、コンデンサとしての機能を果たさなくなっ
たりする。
そこで最近になって5rTi03を主成分とし、バリス
タ特性とコンデンサ特性の両方の機能を有するものが開
発され、コンピュータなどの電子機器におけるIC,L
SIなどの半導体素子の保護に利用されている。
タ特性とコンデンサ特性の両方の機能を有するものが開
発され、コンピュータなどの電子機器におけるIC,L
SIなどの半導体素子の保護に利用されている。
発明が解決しようとする課題
上記の5rTiO,を主成分とするバリスタとコンデン
サの両方の機能を有する素子はZnO系バリスタに比べ
誘電率が約10倍と大きいが、αやサージ耐量が小さく
、バリスタ電圧を低くすると特性が劣化しゃずいといっ
た欠点を有していた。
サの両方の機能を有する素子はZnO系バリスタに比べ
誘電率が約10倍と大きいが、αやサージ耐量が小さく
、バリスタ電圧を低くすると特性が劣化しゃずいといっ
た欠点を有していた。
そこで本発明では、誘電率が大きく、バリスタ電圧が低
く、αが大きいと共にサージ耐量が大きい電圧依存性非
直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法を捷供
することを目的とするものである。
く、αが大きいと共にサージ耐量が大きい電圧依存性非
直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法を捷供
することを目的とするものである。
課題を解決するための手段
上記の問題点を解決するために本発明では、(Sr+−
Jgx)aTios (0,001≦χ≦0.300.
0.950≦a<1.000) (以下第1成分と呼ぶ
)を90゜000〜99.998molχ、Nbt05
. TatOs+ WOs、 DytOs、Y!03+
LazO+CeO,、Sagos、Pr、O,、、N
d2O,のうち少なくとも1種類以上(以下第2成分と
呼ぶ)をo、ooi〜5.000molχ、AltOi
、5bzOx、BaO,BeO,PbO,BtOs、C
r1OsFezO,、CdO,K10.CaO,Co、
Ot、 CuO,Cu、O,Li to、 LiFMg
O,Mn0z、 Mo0=、 tia、0. NaF、
Nip、 RhtOx、 Sea、、 Ag、05i
Oz、 SiC,SrO,Tl tCh、 Th0z、
TiO2、V2O5,Bi zo* 、 Zn0Zr
O□、5nOzのうち少なくとも1種類以上(以r第3
成分と呼ぶ)を0.001−5.000molχ含有し
てなる主成分100重量部と、MgTi(h 60.
000〜32.500molχ、 5i(h 40.
000〜67.5solχからなる混合物を1200〜
1300’Cで焼成してなる添加物(以下第4成分と呼
ぶ) 0.001〜10.000重量部とからなる電
圧依存性非直線抵抗体磁器組成物を得ることにより、問
題を解決しようとするものである。
Jgx)aTios (0,001≦χ≦0.300.
0.950≦a<1.000) (以下第1成分と呼ぶ
)を90゜000〜99.998molχ、Nbt05
. TatOs+ WOs、 DytOs、Y!03+
LazO+CeO,、Sagos、Pr、O,、、N
d2O,のうち少なくとも1種類以上(以下第2成分と
呼ぶ)をo、ooi〜5.000molχ、AltOi
、5bzOx、BaO,BeO,PbO,BtOs、C
r1OsFezO,、CdO,K10.CaO,Co、
Ot、 CuO,Cu、O,Li to、 LiFMg
O,Mn0z、 Mo0=、 tia、0. NaF、
Nip、 RhtOx、 Sea、、 Ag、05i
Oz、 SiC,SrO,Tl tCh、 Th0z、
TiO2、V2O5,Bi zo* 、 Zn0Zr
O□、5nOzのうち少なくとも1種類以上(以r第3
成分と呼ぶ)を0.001−5.000molχ含有し
てなる主成分100重量部と、MgTi(h 60.
000〜32.500molχ、 5i(h 40.
000〜67.5solχからなる混合物を1200〜
1300’Cで焼成してなる添加物(以下第4成分と呼
ぶ) 0.001〜10.000重量部とからなる電
圧依存性非直線抵抗体磁器組成物を得ることにより、問
題を解決しようとするものである。
また、上記主成分と添加物とからなる組成物を1100
°C以上で焼成したバリスタの製造方法、さらにはその
焼成後、還元性雰囲気中で1200℃以上で焼成し、そ
の後酸化性雰囲気中で900〜1300℃で焼成したバ
リスタの製造方法を提供しようとするものである。
°C以上で焼成したバリスタの製造方法、さらにはその
焼成後、還元性雰囲気中で1200℃以上で焼成し、そ
の後酸化性雰囲気中で900〜1300℃で焼成したバ
リスタの製造方法を提供しようとするものである。
作用
上記の発明において第1成分は主たる成分であり、5r
Ti03のSrの一部をM、で置換することにより粒界
に形成される高抵抗層が号−ジに対して強くなる。また
、Sr、 MgなどのAサイトの化学量論比とTiなど
のBサイトの化学量論比をTi過剰にすることにより、
粒子内部の抵抗を低くし粒界に形成される誘電体の誘電
率を太き(することができる、さらに、第2成分は主に
第1成分の半導体化を促進する金属酸化物である。また
、第3成分は誘電率、α、サージ耐量の改善に寄与する
ものであり、第4成分はバリスタ電圧の低下、誘電率の
改善に有効なものである。特に、第4成分は融点が12
30〜1250”Cと比較的低いため、融点前後の温度
で焼成すると液相となり、その他の成分の反応を促進す
ると共に粒子の成長を促進する。そのため粒界部分に第
3成分が偏析しやすくなり、粒界が高抵抗化されやすく
なり、バリスタ機能およびコンデンサ機能が改善される
。また、粒成長が促進されるためバリスタ電圧が低くな
り、粒径の均一性が向上するため特性の安定性が良くな
り、特にサージ耐量が改善される。
Ti03のSrの一部をM、で置換することにより粒界
に形成される高抵抗層が号−ジに対して強くなる。また
、Sr、 MgなどのAサイトの化学量論比とTiなど
のBサイトの化学量論比をTi過剰にすることにより、
粒子内部の抵抗を低くし粒界に形成される誘電体の誘電
率を太き(することができる、さらに、第2成分は主に
第1成分の半導体化を促進する金属酸化物である。また
、第3成分は誘電率、α、サージ耐量の改善に寄与する
ものであり、第4成分はバリスタ電圧の低下、誘電率の
改善に有効なものである。特に、第4成分は融点が12
30〜1250”Cと比較的低いため、融点前後の温度
で焼成すると液相となり、その他の成分の反応を促進す
ると共に粒子の成長を促進する。そのため粒界部分に第
3成分が偏析しやすくなり、粒界が高抵抗化されやすく
なり、バリスタ機能およびコンデンサ機能が改善される
。また、粒成長が促進されるためバリスタ電圧が低くな
り、粒径の均一性が向上するため特性の安定性が良くな
り、特にサージ耐量が改善される。
実施例
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
まず、MgTiOs、 sio!を下記の第1表に示す
ように組成比を種々変えて秤量し、ボールミルなどで2
48r混合する。次に、乾燥した後、下記の第1表に示
すように温度を種々変えて焼成し、再びボールミルなど
で24Hr粉砕した後、乾燥し、第4成分とする0次い
で、第1成分、第2成分、第3成分、第4成分を下記の
第1表に示した組成比になるように秤量し、ボールミル
などで24Rr混合した後、乾燥し、ポリビニルアルコ
ールなどの有機バインダーを10wtχ添加して造粒し
た後、1 (t/ej)のプレス圧力で10φXI’
(m)の円板状に成形し、1100”Cで12Hr焼成
し脱バインダーする0次に、第1表に示したように温度
と時間を種々変えて焼成(第1焼成)し、その後還元性
雰囲気、例えばN、:H,−9: 1のガス中で温度と
時間を種々変えて焼成(第2焼成)する、さらにその後
、酸化性雰囲気中で温度と時間を種々変えて焼成(第3
焼成)する。
ように組成比を種々変えて秤量し、ボールミルなどで2
48r混合する。次に、乾燥した後、下記の第1表に示
すように温度を種々変えて焼成し、再びボールミルなど
で24Hr粉砕した後、乾燥し、第4成分とする0次い
で、第1成分、第2成分、第3成分、第4成分を下記の
第1表に示した組成比になるように秤量し、ボールミル
などで24Rr混合した後、乾燥し、ポリビニルアルコ
ールなどの有機バインダーを10wtχ添加して造粒し
た後、1 (t/ej)のプレス圧力で10φXI’
(m)の円板状に成形し、1100”Cで12Hr焼成
し脱バインダーする0次に、第1表に示したように温度
と時間を種々変えて焼成(第1焼成)し、その後還元性
雰囲気、例えばN、:H,−9: 1のガス中で温度と
時間を種々変えて焼成(第2焼成)する、さらにその後
、酸化性雰囲気中で温度と時間を種々変えて焼成(第3
焼成)する。
(以下余白)
こうして得られた第1図および第2図に示す焼結体1の
両平面に外周を残すようにして八gなどの導電性ペース
トをスクリーン印刷などにより塗布し、630”C、3
winで焼成し、電極2.3を形成する0次に、半田な
どによりリード線(図示せず)を取り付け、エポキシな
どの樹脂を塗装する。このようにして得られた素子の特
性を下記の第2表に示す。
両平面に外周を残すようにして八gなどの導電性ペース
トをスクリーン印刷などにより塗布し、630”C、3
winで焼成し、電極2.3を形成する0次に、半田な
どによりリード線(図示せず)を取り付け、エポキシな
どの樹脂を塗装する。このようにして得られた素子の特
性を下記の第2表に示す。
なお、第2表において誘電率はIKHzでの静電容量か
ら計算したものであり、αは α−1/log(V+o−a/ VIIIA)(ただし
、Vl、A、V、。、Aは1謹A、10−へのi流を流
した時に素子の両端にかかる電圧である。)で評価した
。また、サージ耐量はパルス性のit流を印加した後の
V、、Aの変化率が±10%以内である時の最大のパル
ス性電流値により評価している。
ら計算したものであり、αは α−1/log(V+o−a/ VIIIA)(ただし
、Vl、A、V、。、Aは1謹A、10−へのi流を流
した時に素子の両端にかかる電圧である。)で評価した
。また、サージ耐量はパルス性のit流を印加した後の
V、、Aの変化率が±10%以内である時の最大のパル
ス性電流値により評価している。
(以下余白)
本発明において、第1成分の(Sri−MMgx)dl
Osのχの範囲を規定したのは、Xが0.001よりも
小さいと効果を示さず、0.300を趙えると格子欠陥
が発生しにくくなるため半導体化が促進されず、粒界に
Mgが単一相として析出するため組織が不均一になり、
V、、、が高くなりすぎて特性が劣化するためである。
Osのχの範囲を規定したのは、Xが0.001よりも
小さいと効果を示さず、0.300を趙えると格子欠陥
が発生しにくくなるため半導体化が促進されず、粒界に
Mgが単一相として析出するため組織が不均一になり、
V、、、が高くなりすぎて特性が劣化するためである。
また、aの範囲を規定したのは、0.950よりも小さ
いとTi単体の結晶が析出し組織が不均一になるため特
性が劣化し、1.000を趙えると粒界に形成される誘
電体の誘電率が小さくなるためである。さらに、第2成
分は0.001molχ未満では効果を示さず、5.O
OOmolχを超えると粒界に偏析して粒界の高抵抗化
を抑制し、粒界に第2相を形成することから特性が劣化
するものである。そして、第3成分は0.001wol
χ未満では効果を示さず、5 、 OOO+mo lχ
を超えると粒界に偏析して第2相を形成することから特
性が劣化するものである。また、第4成分はMgTio
zとStowの2成分系の相図のなかで最も融点の低い
領域の物質であり、その範囲外では融点が高くなるもの
である。
いとTi単体の結晶が析出し組織が不均一になるため特
性が劣化し、1.000を趙えると粒界に形成される誘
電体の誘電率が小さくなるためである。さらに、第2成
分は0.001molχ未満では効果を示さず、5.O
OOmolχを超えると粒界に偏析して粒界の高抵抗化
を抑制し、粒界に第2相を形成することから特性が劣化
するものである。そして、第3成分は0.001wol
χ未満では効果を示さず、5 、 OOO+mo lχ
を超えると粒界に偏析して第2相を形成することから特
性が劣化するものである。また、第4成分はMgTio
zとStowの2成分系の相図のなかで最も融点の低い
領域の物質であり、その範囲外では融点が高くなるもの
である。
さらに、第4成分の添加量は、0.001重量部未満で
は効果を示さず、10.000重量部を超えると粒界の
抵抗は高くなるが粒界の幅が厚くなるため、静電容量が
小さくなると共にVlmAが高くなり、サージに対して
弱くなるものである。そして、第4成分の焼成温度を規
定1〜だのは、低融点の第4成分が合成される温度が1
200℃以上であるためである。また、第1焼成の温度
を規定したのは、第4成分の融点が1230〜4250
°Cであるため、1100°C以上の温度で焼成すると
第4成分が液相に近い状態になって焼結が促進されるた
めであり、1100℃未満では第4成分の液相焼結効果
がないためである。さらに、第2焼成の温度を規定した
のは、1200°C未満では第1焼成後の焼結体が十分
に還元されず、バリスタ特性、コンデンサ特性が共に劣
化するためである。そして、第3焼成の温度を規定した
のは、900’C未満では粒界の高抵抗化が十分に進ま
ないため、VIIIAが低くなりすぎバリスタ特性が劣
化するためであり、1300°Cを趙えると静電容量が
小さくなりすぎコンデンジ特性が劣化するためである。
は効果を示さず、10.000重量部を超えると粒界の
抵抗は高くなるが粒界の幅が厚くなるため、静電容量が
小さくなると共にVlmAが高くなり、サージに対して
弱くなるものである。そして、第4成分の焼成温度を規
定1〜だのは、低融点の第4成分が合成される温度が1
200℃以上であるためである。また、第1焼成の温度
を規定したのは、第4成分の融点が1230〜4250
°Cであるため、1100°C以上の温度で焼成すると
第4成分が液相に近い状態になって焼結が促進されるた
めであり、1100℃未満では第4成分の液相焼結効果
がないためである。さらに、第2焼成の温度を規定した
のは、1200°C未満では第1焼成後の焼結体が十分
に還元されず、バリスタ特性、コンデンサ特性が共に劣
化するためである。そして、第3焼成の温度を規定した
のは、900’C未満では粒界の高抵抗化が十分に進ま
ないため、VIIIAが低くなりすぎバリスタ特性が劣
化するためであり、1300°Cを趙えると静電容量が
小さくなりすぎコンデンジ特性が劣化するためである。
また、第1焼成の雰囲気は酸化性雰囲気でも還元性雰囲
気でも同様の効果があることを確認した。
気でも同様の効果があることを確認した。
また、本寞施例では添加物の組み合わせについては、第
1成分とし2て(Sri−Jgx)aTiOs (0,
001≦X≦0.300.0.950≦a <1.00
0)、第2成分としてNb、O,、TatOs、WOs
、DytOi+YxOs、LatOs、Ce0z 、第
3成分としてAlzOi+ PbO,Cr2O2,Cd
O,KJ、 Cot’s、 Cu0Cute、門nO1
,MoO3,NiO,AgtO,SiC,Tlt03.
ZnO,ZrO2゜第4成分としてMgTiOx、 S
towについてのみ示したが、その他の組み合わせとし
て第2成分として5az03.Pr1O+++N’zO
x、第3成分としてSb、O,、[1aOBeO,BJ
s、FezO!、CaO,LizO,LiF、MgO,
NatO,NaFRhzO)、Se0g、5iOz、S
rO,T11J、Ti0z、VzOs、BlzOiSn
o!を用いた組成の組み合わせでも同様の効果が得られ
ることを確認し7た。
1成分とし2て(Sri−Jgx)aTiOs (0,
001≦X≦0.300.0.950≦a <1.00
0)、第2成分としてNb、O,、TatOs、WOs
、DytOi+YxOs、LatOs、Ce0z 、第
3成分としてAlzOi+ PbO,Cr2O2,Cd
O,KJ、 Cot’s、 Cu0Cute、門nO1
,MoO3,NiO,AgtO,SiC,Tlt03.
ZnO,ZrO2゜第4成分としてMgTiOx、 S
towについてのみ示したが、その他の組み合わせとし
て第2成分として5az03.Pr1O+++N’zO
x、第3成分としてSb、O,、[1aOBeO,BJ
s、FezO!、CaO,LizO,LiF、MgO,
NatO,NaFRhzO)、Se0g、5iOz、S
rO,T11J、Ti0z、VzOs、BlzOiSn
o!を用いた組成の組み合わせでも同様の効果が得られ
ることを確認し7た。
また、第2成分および第4成分については、それぞれ2
種類以上を所定の範囲で組み合わせて用いても差支えな
いことを併せて確認した。
種類以上を所定の範囲で組み合わせて用いても差支えな
いことを併せて確認した。
分を1100℃以上で焼成するだけでも第4成分が液相
となり、その他の成分の反応を促進すると共に粒子の成
長を促進するため、粒界部分に第3成分が偏析しやすく
なり、粒界が高抵抗化さねやすくなり、バリスタ機能お
よびコンデンサ機能が改善されるという効果がある。
となり、その他の成分の反応を促進すると共に粒子の成
長を促進するため、粒界部分に第3成分が偏析しやすく
なり、粒界が高抵抗化さねやすくなり、バリスタ機能お
よびコンデンサ機能が改善されるという効果がある。
発明の効果
以上に示(、またように本発明によれば、第4成分によ
る液相焼結効果により、粒子径が大きいためバリスタ電
圧が低く、誘電率りおよびαが大きく、粒子径のばらつ
きが小さいためサージ電流が素子に均一に流れ、また、
Mgによって粒界が効果的に高抵抗化されるため、サー
ジ耐蓋が大きくなるという効果が得られる。
る液相焼結効果により、粒子径が大きいためバリスタ電
圧が低く、誘電率りおよびαが大きく、粒子径のばらつ
きが小さいためサージ電流が素子に均一に流れ、また、
Mgによって粒界が効果的に高抵抗化されるため、サー
ジ耐蓋が大きくなるという効果が得られる。
第1図は本発明による素子を示す上面図、第2図は本発
明による素子を示す断面図である。 l・・・・・・焼結体、2.3・・・・・電極。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名なお、第1
成分、第2成分、第3成分、第4成萬 図 第 図 \3
明による素子を示す断面図である。 l・・・・・・焼結体、2.3・・・・・電極。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名なお、第1
成分、第2成分、第3成分、第4成萬 図 第 図 \3
Claims (3)
- (1)(Sr_1_−_xMg_x)_aTiO_3(
0.001≦x≦0.300,0.950≦a<1.0
00)を90.000〜99.998mol%、Nb_
2O_5,Ta_2O_5,WO_3,Dy_2O_3
,Y_2O_3,La_2O_3,CeO_2,Sm_
2O_3,Pr_6O_1_1,Nd_2O_3のうち
少なくとも1種類以上を0.001〜5.000mol
%、Al_2O_3,Sb_2O_3,BaO,BeO
,PbO,B_2O_3,Cr_2O_3,Fe_2O
_3,CdO,K_2O,CaO,Co_2O_3,C
uO,Cu_2O,Li_2O,LiF,MgO,Mn
O_2,MoO_3,Na_2O,NaF,NiO,R
h_2O_3,SeO_2,Ag_2O,SiO_2,
SiC,SrO,Tl_2O_3,ThO_2,TiO
_2,V_2O_5,Bi_2O_3,ZnO,ZrO
_2,SnO_2のうち少なくとも1種類以上を0.0
01〜5.000mol%含有してなる主成分100重
量部と、MgTiO_3 60.000〜32.500
mol%,SiO_2 40.000〜67.5mol
%からなる混合物を1200℃以上で焼成してなる添加
物0.001〜10.000重量部とからなることを特
徴とする電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物。 - (2)(Sr_1_−_xMg_x)_aTiO_3(
0.001≦x≦0.300,0.950≦a<1.0
00)を90.000〜99.998mol%、Nb_
2O_5,Ta_2O_5,WO_3,Dy_2O_3
,Y_2O_3,La_2O_3,CeO_2,Sm_
2O_3,Pr_6O_1_1,Nd_2O_3のうち
少なくとも1種類以上を0.001〜5.000mol
%、Al_2O_3,Sb_2O_3,BaO,BeO
,PbO,B_2O_3,Cr_2O_3,Fe_2O
_3,CdO,K_2O,CaO,Co_2O_3,C
uO,Cu_2O,Li_2O,LiF,MgO,Mn
O_2,MoO_3,Na_2O,NaF,NiO,R
h_2O_3,SeO_2,Ag_2O,SiO_2,
SiC,SrO,Tl_2O_3,ThO_2,TiO
_2,V_2O_5,Bi_2O_3,ZnO,Zr_
2,SnO_2のうち少なくとも1種類以上を0.00
1〜5.000mol%含有してなる主成分100重量
部と、MgTiO_3 60.000〜32.500m
ol%,SiO_2 40.000〜67.5mol%
からなる混合物を1200℃以上で焼成してなる添加物
0.001〜10.000重量部とからなる組成物を、
1100℃以上で焼成したことを特徴とするバリスタの
製造方法。 - (3)(Sr_1_−_xMg_x)_aTiO_3(
0.001≦x≦0.300,0.950≦a<1.0
00)を90.000〜99.998mol%、Nb_
2O_5,Ta_2O_5,WO_3,Dy_2O_3
,Y_2O_3,La_2O_3,CeO_2,Sm_
2O_3,Pr_6O_1_1,Nd_2O_3のうち
少なくとも1種類以上を0.001〜5.000mol
%、Al_2O_3,Sb_2O_3,BaO,BeO
,PbO,B_2O_3,Cr_2O_3,Fe_2O
_3,CdO,K_2O,CaO,Co_2O_3,C
uO,Cu_2O,Li_2O,LiF,MgO,Mn
O_2,MoO_2,Na_2O,NaF,NiO,R
h_2O_3,SeO_2,Ag_2O,SiO_2,
SiC,SrO,Tl_2O_3,ThO_2,V_2
O_5,Bi_2O_3,ZnO,ZrO_2,SnO
_2のうち少なくとも1種類以上を0.001〜5.0
00mol%含有してなる主成分100重量部と、Mg
TiO_3 60.000〜32.500mol%,S
iO_2 40.000〜67.5mol%からなる混
合物を1200℃以上で焼成してなる添加物0.001
〜10.000重量部とからなる組成物を、1100℃
以上で焼成した後、還元性雰囲気中で1200℃以上で
焼成し、その後酸化性雰囲気中で900〜1300℃で
焼成したことを特徴とするバリスタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2151993A JPH0443608A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2151993A JPH0443608A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0443608A true JPH0443608A (ja) | 1992-02-13 |
Family
ID=15530718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2151993A Pending JPH0443608A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0443608A (ja) |
-
1990
- 1990-06-11 JP JP2151993A patent/JPH0443608A/ja active Pending
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