JPH0211537A - ジヒドロカルコン誘導体の製造方法 - Google Patents
ジヒドロカルコン誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0211537A JPH0211537A JP63164577A JP16457788A JPH0211537A JP H0211537 A JPH0211537 A JP H0211537A JP 63164577 A JP63164577 A JP 63164577A JP 16457788 A JP16457788 A JP 16457788A JP H0211537 A JPH0211537 A JP H0211537A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- geranyl
- compound
- tables
- formulas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、強力かつ選択的な５−リポキシゲナーゼ阻害
活性を有する２−ゲラニル−３，４，２°、４−テトラ
ヒドロキシジヒドロカルコンの製造方法、２−ゲラニル
−３，４，２”、４’−テトラヒド口キシジヒドロカル
コン製造のための中間体およびその製造方法に関する。
活性を有する２−ゲラニル−３，４，２°、４−テトラ
ヒドロキシジヒドロカルコンの製造方法、２−ゲラニル
−３，４，２”、４’−テトラヒド口キシジヒドロカル
コン製造のための中間体およびその製造方法に関する。
［従来の技術・発明が解決しようとする課題］近年、生
体機能、とくに呼吸器系ならびに免疫系、とくに炎症へ
の関与が明らかにされている、プロスタグランジン（ｐ
ｃ）およびその関連物質は、アラキドン酸から特定の酵
素によって生合成され、アラキドン酸カスケードといわ
れる代謝系を構成している。そのうち、５−リポキシゲ
ナーゼによって５−ヒドロベロキシエイコサテトラエン
酸（５−１１ＰＥＴＥ）を介して生合成されるロイコト
リエンは、喘息の発作時に肺および気管支で生合成され
、肺、気管支筋を強く収縮させる作用があるほかに、血
管透過性の亢進作用、白血球遊走作などの炎症反応とも
深い係りをもつ生理活性物質である。このようにロイコ
トリエンと喘息や炎症との関係が明らかにされてきた現
在、ロイコトリエン合成を阻害する５−リポキシゲナー
ゼの特異的阻害剤は、喘息、炎症などのアレルギー性疾
患の原因療法につながる重要な物質である、と認識され
るに至っている。
体機能、とくに呼吸器系ならびに免疫系、とくに炎症へ
の関与が明らかにされている、プロスタグランジン（ｐ
ｃ）およびその関連物質は、アラキドン酸から特定の酵
素によって生合成され、アラキドン酸カスケードといわ
れる代謝系を構成している。そのうち、５−リポキシゲ
ナーゼによって５−ヒドロベロキシエイコサテトラエン
酸（５−１１ＰＥＴＥ）を介して生合成されるロイコト
リエンは、喘息の発作時に肺および気管支で生合成され
、肺、気管支筋を強く収縮させる作用があるほかに、血
管透過性の亢進作用、白血球遊走作などの炎症反応とも
深い係りをもつ生理活性物質である。このようにロイコ
トリエンと喘息や炎症との関係が明らかにされてきた現
在、ロイコトリエン合成を阻害する５−リポキシゲナー
ゼの特異的阻害剤は、喘息、炎症などのアレルギー性疾
患の原因療法につながる重要な物質である、と認識され
るに至っている。
こういった背景のなかで、最近、強力でかつ高選択的な
５−リポキシゲナーゼ阻害活性を存するジヒドロカルコ
ン化合物、２−ゲラニル−３，４，２°、４°−テトラ
ヒドロキシジヒドロカルコンがインドネシア産植物、ア
ルトカルブス・コミュニス（Ａｒｔｏｃａｒｐｕｓ Ｃ
ｏ＋ｉｍｕｎ１ｓ）から抽出令単離され注目を集めてい
る（特開昭６３−２３８１６号公報参照）。
５−リポキシゲナーゼ阻害活性を存するジヒドロカルコ
ン化合物、２−ゲラニル−３，４，２°、４°−テトラ
ヒドロキシジヒドロカルコンがインドネシア産植物、ア
ルトカルブス・コミュニス（Ａｒｔｏｃａｒｐｕｓ Ｃ
ｏ＋ｉｍｕｎ１ｓ）から抽出令単離され注目を集めてい
る（特開昭６３−２３８１６号公報参照）。
しかしながら、植物から抽出・単離する方法では、本物
質の潤沢な供給が困難であること、および抽出・単離に
煩雑な精製過程を必要とするといった問題点がある。
質の潤沢な供給が困難であること、および抽出・単離に
煩雑な精製過程を必要とするといった問題点がある。
そこで本発明者らは、この優れた生理活性を有する天然
物質を合成化学的に製造する方法を見出し、本発明を完
成するに至った。
物質を合成化学的に製造する方法を見出し、本発明を完
成するに至った。
本発明の目的は、２−ゲラニル−３，４，２°、４°−
テトラヒドロキシジヒドロカルコンの新規な製造方法を
提供することにある。
テトラヒドロキシジヒドロカルコンの新規な製造方法を
提供することにある。
［課題を解決するための手段〕
式ＯＸｌ：
で示される３、４−ジメトキシ安息香酸（以下、化合物
口ともいう）を塩化チオニルと反応させて酸クロリドに
し、２−アミノ −２−メチル−１−プロパツールと反
応させて酸アミドにし、ついで塩化チオニルによって縮
合閉環させて式■：で示される２−（３，４−ジメトキ
シフェニル）−４，４−ジメチル−２−オキサゾリン（
以下、化合物■ともいう）に変換し、強塩基で処理した
のち、般式（ＸＸ） ： （式中、ｘ３はハロゲン原子またはスルホン酸エステル
基を表わす）で示されるゲラニル誘導体（以下、化合物
（ＸＸ）ともいう）と反応させて式＠： で示される２−（２−ゲラニル−３，４−ジメトキシフ
ェニル）−４，４−ジメチル−２−オキサゾリン（以下
、化合物−ともいう）に変換し、オキサゾリン環の窒素
原子を低級アルキルヨーシトで四級塩化し、ついで金属
水素化物で還元してえられる２−（２−ゲラニル−３，
４−ジメトキシフェニル）−３，４゜４−トリメチルオ
キサゾリジンを鉱酸または有機酸で処理して弐■： で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンズ
で示される２、４−ジヒドロキシアセトフェノンアル
デヒド（以下、化合物■ともいう）に変換 （以下、
化合物（ｘｌ）ともいう）を塩基存在下、し、金属水素
化物により還元して代置： 一般式（ＸＸＩ）
：＼Ｏ△ｘ４ （ＸＸＩ） Ｈ で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンジル
アルコール（以下、化合物置ともいう）に変換し、三臭
化リンまたは三塩化リンと反応させ（式中、Ｘ４は塩素
原子、臭素原子またはヨウ素原子を表わす）で示される
ハロゲン化メトキシメチル誘導体（以下、化合物（ＸＸ
Ｉ）ともいう）と反応させて式（Ｘｌり ： （式中、ｘｌは塩素原子または臭素原子を表わす）で示
されるハロゲン化ベンジル誘導体（以下、化合物Ｎとも
いう）に変換し、一方、式％式％）： で示される２、４−ビス（メトキシメチルオキシ）アセ
トフェノン（以下、化合物（Ｘｌｌ）ともいう）に変換
し、塩基存在下、炭酸ジエチルと反応させて弐Ｍ： で示されるエチル２，４−ビス（メトキシメチルオキシ
）ベンゾイルアセテート（以下、化合物Ｍともいう）に
変換し、塩基を用いて活性メチレン基の炭素原子を炭素
陰イオンとしたのち前記式Ｎで示されるハロゲン化ベン
ジル誘導体と反応させ、ひきつづいて、えられる縮合成
績体をアルカリ溶液中で処理して加水分解および脱炭酸
させることにより式（２）： で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２゛、
４−ジヒドロキシジヒドロカルコン（以下、化合物＋１
）ともいう）に変換し、ルイス酸で処理して式（■）： １Ｊ で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２’、
４’−ビス（メトキシメチルオキシ）ジヒドロカルコン
（以下、化合物（２）ともいう）に変換し、鉱酸または
有機酸で処理して式（Ｉ）： Ｈ で示される２−ゲラニル−３，４，２’、４−テトラヒ
ドロキシジヒドロカルコン（以下、化合物（Ｉｆ）とも
いう）に変換することからなる化合物（Ｉ）の製造方法
、化合物（Ｉ）をルイス酸で処理することからなる化合
物（１）の製造方法、化合物（Ｉ）、化合物（２）を鉱
酸または有機酸で処理することからなる化合物Ｈの製造
方法、化合物面、化合物Ｎと化合物Ｍとを塩基の存在下
で縮合させ、さらには縮合成績体をアルカリ溶液中で処
理して加水分解および脱炭酸させることからなる化合物
（ＩＩＩ）の製造方法、化合物■、化合物−のオキサゾ
リン環の窒素原子を低級アルキルヨーシトで四級塩化し
、ついで金属水素化物で還元してえられる２−（２−ゲ
ラニル−３，４−ジメトキシフェニル）−３゜４．４−
）リメチルオキサゾリジンを鉱酸または有機酸で処理す
ることからなる化合物■の製造方法および化合物■を強
塩基で処理して、ベンゼン環の２位の炭素原子を炭素陰
イオンとしたのち、該炭素陰イオンと一般式（１）： ％式％（１） （式中、ｌはアルキル基、アルケニル基またはアラルキ
ル基、およびｘ２はハロゲン原子またはスルホン酸エス
テル基を表わす）で示される親電子反応剤とを反応させ
ることからなる−（式中、Ｒ１は前記と同じ）で示され
る２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメ
チル−２−オキサゾリン誘導体の製造方法に関する。
口ともいう）を塩化チオニルと反応させて酸クロリドに
し、２−アミノ −２−メチル−１−プロパツールと反
応させて酸アミドにし、ついで塩化チオニルによって縮
合閉環させて式■：で示される２−（３，４−ジメトキ
シフェニル）−４，４−ジメチル−２−オキサゾリン（
以下、化合物■ともいう）に変換し、強塩基で処理した
のち、般式（ＸＸ） ： （式中、ｘ３はハロゲン原子またはスルホン酸エステル
基を表わす）で示されるゲラニル誘導体（以下、化合物
（ＸＸ）ともいう）と反応させて式＠： で示される２−（２−ゲラニル−３，４−ジメトキシフ
ェニル）−４，４−ジメチル−２−オキサゾリン（以下
、化合物−ともいう）に変換し、オキサゾリン環の窒素
原子を低級アルキルヨーシトで四級塩化し、ついで金属
水素化物で還元してえられる２−（２−ゲラニル−３，
４−ジメトキシフェニル）−３，４゜４−トリメチルオ
キサゾリジンを鉱酸または有機酸で処理して弐■： で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンズ
で示される２、４−ジヒドロキシアセトフェノンアル
デヒド（以下、化合物■ともいう）に変換 （以下、
化合物（ｘｌ）ともいう）を塩基存在下、し、金属水素
化物により還元して代置： 一般式（ＸＸＩ）
：＼Ｏ△ｘ４ （ＸＸＩ） Ｈ で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンジル
アルコール（以下、化合物置ともいう）に変換し、三臭
化リンまたは三塩化リンと反応させ（式中、Ｘ４は塩素
原子、臭素原子またはヨウ素原子を表わす）で示される
ハロゲン化メトキシメチル誘導体（以下、化合物（ＸＸ
Ｉ）ともいう）と反応させて式（Ｘｌり ： （式中、ｘｌは塩素原子または臭素原子を表わす）で示
されるハロゲン化ベンジル誘導体（以下、化合物Ｎとも
いう）に変換し、一方、式％式％）： で示される２、４−ビス（メトキシメチルオキシ）アセ
トフェノン（以下、化合物（Ｘｌｌ）ともいう）に変換
し、塩基存在下、炭酸ジエチルと反応させて弐Ｍ： で示されるエチル２，４−ビス（メトキシメチルオキシ
）ベンゾイルアセテート（以下、化合物Ｍともいう）に
変換し、塩基を用いて活性メチレン基の炭素原子を炭素
陰イオンとしたのち前記式Ｎで示されるハロゲン化ベン
ジル誘導体と反応させ、ひきつづいて、えられる縮合成
績体をアルカリ溶液中で処理して加水分解および脱炭酸
させることにより式（２）： で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２゛、
４−ジヒドロキシジヒドロカルコン（以下、化合物＋１
）ともいう）に変換し、ルイス酸で処理して式（■）： １Ｊ で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２’、
４’−ビス（メトキシメチルオキシ）ジヒドロカルコン
（以下、化合物（２）ともいう）に変換し、鉱酸または
有機酸で処理して式（Ｉ）： Ｈ で示される２−ゲラニル−３，４，２’、４−テトラヒ
ドロキシジヒドロカルコン（以下、化合物（Ｉｆ）とも
いう）に変換することからなる化合物（Ｉ）の製造方法
、化合物（Ｉ）をルイス酸で処理することからなる化合
物（１）の製造方法、化合物（Ｉ）、化合物（２）を鉱
酸または有機酸で処理することからなる化合物Ｈの製造
方法、化合物面、化合物Ｎと化合物Ｍとを塩基の存在下
で縮合させ、さらには縮合成績体をアルカリ溶液中で処
理して加水分解および脱炭酸させることからなる化合物
（ＩＩＩ）の製造方法、化合物■、化合物−のオキサゾ
リン環の窒素原子を低級アルキルヨーシトで四級塩化し
、ついで金属水素化物で還元してえられる２−（２−ゲ
ラニル−３，４−ジメトキシフェニル）−３゜４．４−
）リメチルオキサゾリジンを鉱酸または有機酸で処理す
ることからなる化合物■の製造方法および化合物■を強
塩基で処理して、ベンゼン環の２位の炭素原子を炭素陰
イオンとしたのち、該炭素陰イオンと一般式（１）： ％式％（１） （式中、ｌはアルキル基、アルケニル基またはアラルキ
ル基、およびｘ２はハロゲン原子またはスルホン酸エス
テル基を表わす）で示される親電子反応剤とを反応させ
ることからなる−（式中、Ｒ１は前記と同じ）で示され
る２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメ
チル−２−オキサゾリン誘導体の製造方法に関する。
［実施例］
本発明の目的化合物である化合物（Ｉ［）の製造は種々
の異なる反応よりなる多段階の合成経路により達成され
る。以下に示す合成経路を用いて本発明の構成を明らか
にする。
の異なる反応よりなる多段階の合成経路により達成され
る。以下に示す合成経路を用いて本発明の構成を明らか
にする。
（合成経路図）
（厘ン
（■）
ＣＭ）
Ｒ
Ｄ
（Ｆｌ／）
Ｈ
（ｎ）
上記合成経路においては、化合物面は以下の合成代略図
にしたがうジヒドロカルコン骨格の合成に重要かつ有用
な中間体であｐｏ （Ｘ璽） （ＸＩＶ） （ＸＶＩ）で示される親電子反応剤へと変換されたのち
、一般式（Ｘｍで示されるアセトフェノン誘導体から誘
導される一般式（ＸＶＩＩ）で示される親核剤と縮合し
てジヒドロカルコン骨格を有する一般式（ＸＶＩｌｌ）
で示されるジヒドロカルコン誘導体を与える。
にしたがうジヒドロカルコン骨格の合成に重要かつ有用
な中間体であｐｏ （Ｘ璽） （ＸＩＶ） （ＸＶＩ）で示される親電子反応剤へと変換されたのち
、一般式（Ｘｍで示されるアセトフェノン誘導体から誘
導される一般式（ＸＶＩＩ）で示される親核剤と縮合し
てジヒドロカルコン骨格を有する一般式（ＸＶＩｌｌ）
で示されるジヒドロカルコン誘導体を与える。
一方、ジヒドロカルコン骨格の合成に際して必要である
上述の一般式（ＸＶｌｌ）で示される親核剤を提供する
合成中間体としては、アセトフェノン誘導体（Ｘｍと炭
酸ジエチルから塩基の存在下、以下の反応式（Ｂ）にし
たがって合成される一般式（ＸＩＸ）で示されるベンゾ
イルアセテート誘導体が適当である。
上述の一般式（ＸＶｌｌ）で示される親核剤を提供する
合成中間体としては、アセトフェノン誘導体（Ｘｍと炭
酸ジエチルから塩基の存在下、以下の反応式（Ｂ）にし
たがって合成される一般式（ＸＩＸ）で示されるベンゾ
イルアセテート誘導体が適当である。
反応式（Ａ）中、Ｒ２は低級アルキル基、低級アルコキ
シル基、ハロゲン原子など、およびＲ３は低級アルキル
基、低級アルコキシル基、ハロゲン原子などを表わす。
シル基、ハロゲン原子など、およびＲ３は低級アルキル
基、低級アルコキシル基、ハロゲン原子などを表わす。
反応式（Ａ）で示されるように、一般式（Ｘｌｌ＋）で
示されるベンズアルデヒド誘導体は、一般式％式％） 本発明の目的化合物（ＩＩ）の中間体である化合物■を
合成するにあたり、メイヤーズ（Ｍｅｙｅｒｓ）のオキ
サゾリン法（テトラヘドロン （Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ） 、４１巻、８３７頁（１
９８５）参照）が適用される。合成の出発物質としては
、３．４−ジメトキシ安息香酸図が用いられる。化合物
（２）は文献（ジエー・ニー・フラツグ（Ｊ、Ａ、Ｆｒ
ｕｉｐ）、ケミカル・レビューズ（Ｃｈａｔｘ、Ｒｅｖ
、） 、７１巻、４８３頁（１９７１）、ならびにニー
・アイ・メイヤーズ（Ａ、 １．Ｍｅｙｅｒｓ）、アー
ル・ガベル（Ｒ，Ｇａｂｅｌ）およびイー・デイ−・ミ
ヘリッチ（Ｅ、Ｄ、旧ｈｅｌ １ｃｈ）、ジャーナル・
オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ、Ｏｒｇ、
Ｃｈｅｗ、）、４３巻、１３７２頁（１９７８））記載
の通常の方法にしたがって、塩化チオニル（１）により
酸クロリドとされたのち、２−アミノ−２−メチル−１
−プロパツール（ト）により酸アミドとされ、塩化チオ
ニル０による縮合閉環により、化合物■へと変換される
。
示されるベンズアルデヒド誘導体は、一般式％式％） 本発明の目的化合物（ＩＩ）の中間体である化合物■を
合成するにあたり、メイヤーズ（Ｍｅｙｅｒｓ）のオキ
サゾリン法（テトラヘドロン （Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ） 、４１巻、８３７頁（１
９８５）参照）が適用される。合成の出発物質としては
、３．４−ジメトキシ安息香酸図が用いられる。化合物
（２）は文献（ジエー・ニー・フラツグ（Ｊ、Ａ、Ｆｒ
ｕｉｐ）、ケミカル・レビューズ（Ｃｈａｔｘ、Ｒｅｖ
、） 、７１巻、４８３頁（１９７１）、ならびにニー
・アイ・メイヤーズ（Ａ、 １．Ｍｅｙｅｒｓ）、アー
ル・ガベル（Ｒ，Ｇａｂｅｌ）およびイー・デイ−・ミ
ヘリッチ（Ｅ、Ｄ、旧ｈｅｌ １ｃｈ）、ジャーナル・
オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ、Ｏｒｇ、
Ｃｈｅｗ、）、４３巻、１３７２頁（１９７８））記載
の通常の方法にしたがって、塩化チオニル（１）により
酸クロリドとされたのち、２−アミノ−２−メチル−１
−プロパツール（ト）により酸アミドとされ、塩化チオ
ニル０による縮合閉環により、化合物■へと変換される
。
このとき用いる（Ｄ、（ｉ）および０の添加剤の使用量
は、前記文献に記載の通常の方法で用いる量であればと
くに限定されないが、なかでもそれぞれ化合物（財）１
当量に対して（ｉ）１〜１０当量、化合物図１当量に対
して０）１〜１．６当量、化合物（財）１当量に対して
■１〜１０当量用いるのが好ましい。また、通常用いら
れる溶媒としては、たとえば無水トルエン、乾燥トルエ
ン、無水ベンゼンおよび乾燥ベンゼンなどの芳香族炭化
水素があげられる。
は、前記文献に記載の通常の方法で用いる量であればと
くに限定されないが、なかでもそれぞれ化合物（財）１
当量に対して（ｉ）１〜１０当量、化合物図１当量に対
して０）１〜１．６当量、化合物（財）１当量に対して
■１〜１０当量用いるのが好ましい。また、通常用いら
れる溶媒としては、たとえば無水トルエン、乾燥トルエ
ン、無水ベンゼンおよび乾燥ベンゼンなどの芳香族炭化
水素があげられる。
また好ましい反応温度は、たとえば（１）の添加の際は
２０〜８０℃、■の添加の際は０〜３０℃、（ト）の添
加の際は１０〜６０℃である。
２０〜８０℃、■の添加の際は０〜３０℃、（ト）の添
加の際は１０〜６０℃である。
（ＩＸ）
Ｉ）
えられた化合物■へのゲラニル基の導入は、通常のメイ
ヤーズのオキサゾリン法にしたがって行なうことができ
る。たとえば、化合物■の無水テトラヒドロフラン（以
下、ＴＩＩＰという）または無水ジメトキシエタン（以
下、ＤＭＥという）溶液に不溶性ガス雰囲気下（アルゴ
ン、窒素など）、好ましくはθ〜−１００℃、さらに好
ましくは−２０〜−７８℃の低温にて強塩基、たとえば
ローブチルリチウム（以下、ｎ−ＢｕＬｉという）、５
ｅａ−ブチルリチウム（以下、５ｅｅ−ＢｕＬｉという
）、リチウムジイソプロピルアミド（以下、ＬＤＡとい
う）などを作用させると、化合物■のベンゼン環の２位
の位置に炭素陰イオンを生成させることが可能である。
ヤーズのオキサゾリン法にしたがって行なうことができ
る。たとえば、化合物■の無水テトラヒドロフラン（以
下、ＴＩＩＰという）または無水ジメトキシエタン（以
下、ＤＭＥという）溶液に不溶性ガス雰囲気下（アルゴ
ン、窒素など）、好ましくはθ〜−１００℃、さらに好
ましくは−２０〜−７８℃の低温にて強塩基、たとえば
ローブチルリチウム（以下、ｎ−ＢｕＬｉという）、５
ｅａ−ブチルリチウム（以下、５ｅｅ−ＢｕＬｉという
）、リチウムジイソプロピルアミド（以下、ＬＤＡとい
う）などを作用させると、化合物■のベンゼン環の２位
の位置に炭素陰イオンを生成させることが可能である。
こうして生成する炭素陰イオンに対して、好ましい脱離
基を有するゲラニル誘導体（化合物（ＸＸ）） 、たと
えばゲラニルプロミド、ゲラニルクロリド、ゲラニルト
シレート、ゲラニルメシレートなどのハロゲン化ゲラニ
ル誘導体、ゲラニオール硫酸エステル誘導体などを好ま
しくはＯ〜−１００℃、さらに好ましくは−２０〜−７
８℃にて作用させると目的とするゲラニル基が導入され
た化合物■をうろことができる。
基を有するゲラニル誘導体（化合物（ＸＸ）） 、たと
えばゲラニルプロミド、ゲラニルクロリド、ゲラニルト
シレート、ゲラニルメシレートなどのハロゲン化ゲラニ
ル誘導体、ゲラニオール硫酸エステル誘導体などを好ま
しくはＯ〜−１００℃、さらに好ましくは−２０〜−７
８℃にて作用させると目的とするゲラニル基が導入され
た化合物■をうろことができる。
このとき用いる化合物（ＸＸ）の使用量は、メイヤーズ
の前記オキサゾリン法魯で用いる量であれば、とくに限
定されないが、なかでも化合物■１当量に対して化合物
（ＸＸ） １〜１．５当量用いるのが好ましい。また、
強塩基の使用量もとくに限定されないが、なかでも化合
物■１当量に対して強塩基１〜１．２当量用いるのが好
ましい。
の前記オキサゾリン法魯で用いる量であれば、とくに限
定されないが、なかでも化合物■１当量に対して化合物
（ＸＸ） １〜１．５当量用いるのが好ましい。また、
強塩基の使用量もとくに限定されないが、なかでも化合
物■１当量に対して強塩基１〜１．２当量用いるのが好
ましい。
また用いる化合物■は前記工程においてえられた化合物
■含有反応液から抽出・単離されたものを用いればよい
。
■含有反応液から抽出・単離されたものを用いればよい
。
（■）
（Ｖｌｌ）
つぎに、化合物■のオキサゾリン環をホルミル基へ変換
するため、低級アルキルヨーシト、好ましくは炭素数１
〜３のアルキルヨーシト、たとえばメチルヨーシトまた
はエチルヨーシトで、好ましくは０〜５０℃、さらに好
ましくは室温下でオキサゾリン環の窒素原子を四級塩化
し、化合物■を四級塩（ａ）： ポリハロゲン化アルキルなどが使用される。ついで四級
塩（ａ）をメタノール、エタノールまたは無水ＴＩＩＦ
、無水エーテル、無水ＤＭＨなどの低級アルコールま
たは低級鎖状、環状エーテルを溶媒として、金属水素化
物、たとえば水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリ５ｅ
ｅ−ブチルホウ素カリウム、水素化シアノホウ素ナトリ
ウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミ
ニウムリチウムなどにより、好ましくは一３０〜５０℃
、さらに好ましくは一１Ｏ〜ｌＯ℃でオキサゾリン環を
還元することにより、オキサゾリジン環を有する化合物
（ｂ）： とする。使用される低級アルキルヨーシトの量は通常大
過剰であって、このとき低級アルキルヨーシトは四級塩
化剤であると同時に溶媒として機能する。また溶媒を使
用する必要があるばあいには、クロロホルム、塩化メチ
レンなどのへと変換する。化合物（ｂ）のオキサゾリジ
ン環は、通常酸に不安定であり、メタノール、エタノー
ル、ＴＩＰなどの水と任意に混ざる通常用いる有機溶媒
中にて、適当な鉱酸、有機酸などのプロトン酸、たとえ
ば塩酸、シュウ酸、酢酸などの通常好ましくは５〜２０
重量％濃度の溶液にて、好ましくは０〜５０℃、さらに
好ましくは室温下、短時間で所定のホルミル基へと変換
される。
するため、低級アルキルヨーシト、好ましくは炭素数１
〜３のアルキルヨーシト、たとえばメチルヨーシトまた
はエチルヨーシトで、好ましくは０〜５０℃、さらに好
ましくは室温下でオキサゾリン環の窒素原子を四級塩化
し、化合物■を四級塩（ａ）： ポリハロゲン化アルキルなどが使用される。ついで四級
塩（ａ）をメタノール、エタノールまたは無水ＴＩＩＦ
、無水エーテル、無水ＤＭＨなどの低級アルコールま
たは低級鎖状、環状エーテルを溶媒として、金属水素化
物、たとえば水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリ５ｅ
ｅ−ブチルホウ素カリウム、水素化シアノホウ素ナトリ
ウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミ
ニウムリチウムなどにより、好ましくは一３０〜５０℃
、さらに好ましくは一１Ｏ〜ｌＯ℃でオキサゾリン環を
還元することにより、オキサゾリジン環を有する化合物
（ｂ）： とする。使用される低級アルキルヨーシトの量は通常大
過剰であって、このとき低級アルキルヨーシトは四級塩
化剤であると同時に溶媒として機能する。また溶媒を使
用する必要があるばあいには、クロロホルム、塩化メチ
レンなどのへと変換する。化合物（ｂ）のオキサゾリジ
ン環は、通常酸に不安定であり、メタノール、エタノー
ル、ＴＩＰなどの水と任意に混ざる通常用いる有機溶媒
中にて、適当な鉱酸、有機酸などのプロトン酸、たとえ
ば塩酸、シュウ酸、酢酸などの通常好ましくは５〜２０
重量％濃度の溶液にて、好ましくは０〜５０℃、さらに
好ましくは室温下、短時間で所定のホルミル基へと変換
される。
このとき用いる金属水素化物および鉱酸または有機酸の
使用量は、通常の方法で用いる量であれば、とくに限定
されない。なお、過剰の還元剤の使用は副反応が起こる
原因となり、収率の低下をきたすので、化合物＠１当量
に対して金属水素化物０．８〜１．１当量用いるのが好
ましい。また、化合物（ｖｌＤ１当量に対して鉱酸また
は有機酸２〜１０当量用いるのが好ましい。
使用量は、通常の方法で用いる量であれば、とくに限定
されない。なお、過剰の還元剤の使用は副反応が起こる
原因となり、収率の低下をきたすので、化合物＠１当量
に対して金属水素化物０．８〜１．１当量用いるのが好
ましい。また、化合物（ｖｌＤ１当量に対して鉱酸また
は有機酸２〜１０当量用いるのが好ましい。
また、用いる化合物■は前記工程においてえられた化合
物■含有反応液から抽出・単離されたものを用いればよ
い。
物■含有反応液から抽出・単離されたものを用いればよ
い。
つぎに、目的とするジヒドロカルコン骨格を構築するた
め化合物面のホルミル基を適当な官能基に変換しなけれ
ばならない。たとえば、えられた化合物（資）はメタノ
ール、エタノールなどの低級アルコールおよびエーテル
、ＴＩＩＰなどの低級鎖状、環状エーテルなどを溶媒と
して、好ましくは一２０〜４０℃、さらに好ましくは一
１０〜ｌＯ℃で金属水素化物、たとえば水素化ホウ素ナ
トリウム、水素化シアノホウ素ナトリウム、水素化アル
ミニウムリチウムなどにより還元されて、化合物■に変
換される。このとき用いる金属水素化物の使用量は、通
常の方法で用いる量であればとくに限定されないが、な
かでも化合物ＩＶＤ１当量に対して金属水素化物１〜２
当量用いるのが好ましい。
め化合物面のホルミル基を適当な官能基に変換しなけれ
ばならない。たとえば、えられた化合物（資）はメタノ
ール、エタノールなどの低級アルコールおよびエーテル
、ＴＩＩＰなどの低級鎖状、環状エーテルなどを溶媒と
して、好ましくは一２０〜４０℃、さらに好ましくは一
１０〜ｌＯ℃で金属水素化物、たとえば水素化ホウ素ナ
トリウム、水素化シアノホウ素ナトリウム、水素化アル
ミニウムリチウムなどにより還元されて、化合物■に変
換される。このとき用いる金属水素化物の使用量は、通
常の方法で用いる量であればとくに限定されないが、な
かでも化合物ＩＶＤ１当量に対して金属水素化物１〜２
当量用いるのが好ましい。
また、このとき用いる化合物■は前記工程においてえら
れた化合物■含有反応液から抽出・単離されたものを用
いればよい。
れた化合物■含有反応液から抽出・単離されたものを用
いればよい。
さらにそのアルコール性水酸基は、三臭化リンまたは三
塩化リンにより臭化物または塩化物である化合物（至）
に変換させられて、つぎのジヒドロカルコン骨格形成の
ための反応に用いられる。
塩化リンにより臭化物または塩化物である化合物（至）
に変換させられて、つぎのジヒドロカルコン骨格形成の
ための反応に用いられる。
このとき用いる三臭化リンまたは三塩化リンの使用量は
、通常の方法で用いる量であればとくに限定されないが
、なかでも化合物の１当量に対して三臭化リンまたは三
塩化リンを１〜１．５当量用いるのが好ましい。
、通常の方法で用いる量であればとくに限定されないが
、なかでも化合物の１当量に対して三臭化リンまたは三
塩化リンを１〜１．５当量用いるのが好ましい。
また、通常用いられる溶媒としては、たとえば乾燥塩化
メチレン、乾燥クロロホルムなどの低級ポリハロゲン化
炭素水素およびエーテル、ＤＭＨなどの低級鎖状エーテ
ルがあげられる。反応温度は、好ましくは一２０〜５０
℃、さらに好ましくは−ｌＯ〜２０℃である。
メチレン、乾燥クロロホルムなどの低級ポリハロゲン化
炭素水素およびエーテル、ＤＭＨなどの低級鎖状エーテ
ルがあげられる。反応温度は、好ましくは一２０〜５０
℃、さらに好ましくは−ｌＯ〜２０℃である。
また、このとき用いる化合物のは前記工程においてえら
れた化合物■含有反応液から抽出・単離されたものを用
いればよい。
れた化合物■含有反応液から抽出・単離されたものを用
いればよい。
Ｈ
■
偵
（Ｘ！ ”Ｂｒ、Ｃａ）
調製された化合物Ｎは、いずれも不安定なためハロゲン
化ののち、すみやかにβ−ケトエステル誘導体、すなわ
ち化合物Ｍとの縮合反応に用いられる。
化ののち、すみやかにβ−ケトエステル誘導体、すなわ
ち化合物Ｍとの縮合反応に用いられる。
化合物Ｍは、以下の方法によって製造される。
たとえば化合物（Ｘりを、乾燥ジメチルホルムアミド（
以下、ＤＭＰという）または乾燥ジメチルスルホキシド
などの乾燥非プロトン性極性溶媒を溶媒として、好まし
くは一２０〜４０℃、さらに好ましくは一１Ｏ〜１０℃
で塩基、たとえば水素化ナトリウム、水素化リチウム、
水素化カルシウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシドで処理したのち、ハロゲン化メトキシメチル
誘導体（ＸＸＩ） 、たとえばメトキシメチルクロリド
、メトキシメチルプロミド、メトキシメチルヨーシトと
好ましくは一１θ〜４０℃さらに好ましくは０〜２０℃
で反応させて化合物（Ｘｌｌ）に変換する。このとき用
いる塩基の使用量は、通常の方法で用いる量であればと
くに限定されないが、なかでも化合物（ＸＩ）１当量に
対して塩基２〜２．５当量用いるのが好ましい。さらに
本反応で用いるハロゲン化メトキシメチル誘導体（ＸＸ
Ｉ）の使用量は、通常の方法で用いる量であればとくに
限定されないが、なかでも化合物（ＸＩ） １当量に対
して、ハロゲン化メトキシメチル誘導体（ＸＸＩ） ２
〜２．５当量用いるのが好ましい。
以下、ＤＭＰという）または乾燥ジメチルスルホキシド
などの乾燥非プロトン性極性溶媒を溶媒として、好まし
くは一２０〜４０℃、さらに好ましくは一１Ｏ〜１０℃
で塩基、たとえば水素化ナトリウム、水素化リチウム、
水素化カルシウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシドで処理したのち、ハロゲン化メトキシメチル
誘導体（ＸＸＩ） 、たとえばメトキシメチルクロリド
、メトキシメチルプロミド、メトキシメチルヨーシトと
好ましくは一１θ〜４０℃さらに好ましくは０〜２０℃
で反応させて化合物（Ｘｌｌ）に変換する。このとき用
いる塩基の使用量は、通常の方法で用いる量であればと
くに限定されないが、なかでも化合物（ＸＩ）１当量に
対して塩基２〜２．５当量用いるのが好ましい。さらに
本反応で用いるハロゲン化メトキシメチル誘導体（ＸＸ
Ｉ）の使用量は、通常の方法で用いる量であればとくに
限定されないが、なかでも化合物（ＸＩ） １当量に対
して、ハロゲン化メトキシメチル誘導体（ＸＸＩ） ２
〜２．５当量用いるのが好ましい。
（ＸＩ） （Ｘｘ”）
（′Ａ）
続いて化合物（Ｘ１１）を、乾燥トルエン、乾燥ベンゼ
ンなどの乾燥芳香族炭化水素を溶媒として好ましくは５
０〜１５０℃、さらに好ましくは７０〜１３０℃で、塩
基たとえば水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化
カルシウム、ナトリウムエトキシドの存在下、炭酸ジエ
チルと反応させて化合物Ｍに変換する。このとき用いる
塩基の使用量は通常の方法で用いる量であればとくに限
定されないが、なかでも化合物（Ｘｌｌ） １当量に
対して塩基２〜３当量用いるのが好ましい。
ンなどの乾燥芳香族炭化水素を溶媒として好ましくは５
０〜１５０℃、さらに好ましくは７０〜１３０℃で、塩
基たとえば水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化
カルシウム、ナトリウムエトキシドの存在下、炭酸ジエ
チルと反応させて化合物Ｍに変換する。このとき用いる
塩基の使用量は通常の方法で用いる量であればとくに限
定されないが、なかでも化合物（Ｘｌｌ） １当量に
対して塩基２〜３当量用いるのが好ましい。
また用いる炭酸ジエチルの使用量はとくに限定されない
が、試薬および溶媒として、通常用いる芳香族炭化水素
溶媒の１７３〜２７３倍容量用いるのが好ましい。
が、試薬および溶媒として、通常用いる芳香族炭化水素
溶媒の１７３〜２７３倍容量用いるのが好ましい。
また、このとき用いる化合物（Ｘｌｌ）は前記工程にお
いてえられた化合物（Ｘ１１）含有反応液から抽出・単
離されたものを用いればよい。
いてえられた化合物（Ｘ１１）含有反応液から抽出・単
離されたものを用いればよい。
（Ｘｉ）
化合物Ｎと化合物Ｍとの反応は以下の方法にしたがって
行なわれる。
行なわれる。
化合物Ｍを乾燥非プロトン性極性溶媒、たとえば乾燥Ｄ
ＭＰ中、好ましくは一２０〜４０℃、さらに好ましくは
０〜１０℃で塩基として、たとえばナトリウムエトキシ
ド、ナトリウムメトキシド、水素化ナトリウム、水素化
カリウムなどを用いて活性メチレン基の炭素原子を炭素
陰イオンとし、前述の化合物傅を加えて炭素炭素結合反
応を完結させる。えられた縮合成績体をアルカリ溶液中
での処理、たとえば１０〜２０重量％濃度のエタノール
性水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム水溶液などの
アルカリ溶液中、好ましくは２０〜１００℃、さらに好
ましくは５０〜７０℃で処理して加水分解および脱炭酸
させて目的のジヒドロカルコン骨格を有する化合物（Ｉ
［Ｄをうる。
ＭＰ中、好ましくは一２０〜４０℃、さらに好ましくは
０〜１０℃で塩基として、たとえばナトリウムエトキシ
ド、ナトリウムメトキシド、水素化ナトリウム、水素化
カリウムなどを用いて活性メチレン基の炭素原子を炭素
陰イオンとし、前述の化合物傅を加えて炭素炭素結合反
応を完結させる。えられた縮合成績体をアルカリ溶液中
での処理、たとえば１０〜２０重量％濃度のエタノール
性水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム水溶液などの
アルカリ溶液中、好ましくは２０〜１００℃、さらに好
ましくは５０〜７０℃で処理して加水分解および脱炭酸
させて目的のジヒドロカルコン骨格を有する化合物（Ｉ
［Ｄをうる。
このとき用いる化合物（至）と化合物Ｍとのモル比は、
通常の方法で用いるモル比であればとくに限定されない
が、なかでも化合物Ｎと化合物Ｍとのモル比が１＝１〜
１．２：１であるのが好ましい。
通常の方法で用いるモル比であればとくに限定されない
が、なかでも化合物Ｎと化合物Ｍとのモル比が１＝１〜
１．２：１であるのが好ましい。
また、塩基の使用量はとくに限定されないが、なかでも
化合物Ｍ１モルに対して塩基１〜１．２モル用いるのが
好ましい。
化合物Ｍ１モルに対して塩基１〜１．２モル用いるのが
好ましい。
また、このとき用いる化合物Ｎおよび化合物Ｍは、前記
各工程においてえられた各化合物含有反応液から抽出・
単離されたものを用いればよい。
各工程においてえられた各化合物含有反応液から抽出・
単離されたものを用いればよい。
ＣＸ”＝ ＯＬ、 Ｂｒ ） Ｘ’
偵
ガス雰囲気下（アルゴン、窒素など）好ましくは５重量
％濃度から３０重量％濃度の、さらに好ましくは１ｏｆ
ｆｒｆｆｉ％濃度から２０重量％濃度の塩化水素酸、シ
ュウ酸、シュウ化水素酸などの鉱酸または有機酸で、好
ましくは０〜６０℃、さらに好ましくは室温にて処理す
ることにより除去し、化合物（１）をうる。
％濃度から３０重量％濃度の、さらに好ましくは１ｏｆ
ｆｒｆｆｉ％濃度から２０重量％濃度の塩化水素酸、シ
ュウ酸、シュウ化水素酸などの鉱酸または有機酸で、好
ましくは０〜６０℃、さらに好ましくは室温にて処理す
ることにより除去し、化合物（１）をうる。
このとき用いる鉱酸または有機酸の使用量は、通常の方
法で用いる量であれば、とくに限定されないが、なかで
も化合物（ＩＩＩ）１当量に対して鉱酸または有機酸２
〜２０当量用いるのがとくに好ましい。また通常用いら
れる溶媒としては、たとえばメタノール、エタノールな
どの低級アルコールまたはＴＩＩＦ 、 ＤＭＨなどの
低級エーテルなどがあげられる。
法で用いる量であれば、とくに限定されないが、なかで
も化合物（ＩＩＩ）１当量に対して鉱酸または有機酸２
〜２０当量用いるのがとくに好ましい。また通常用いら
れる溶媒としては、たとえばメタノール、エタノールな
どの低級アルコールまたはＴＩＩＦ 、 ＤＭＨなどの
低級エーテルなどがあげられる。
また、このとき用いる化合物（３）は前記工程において
えられた化合物（８）含有反応液から抽出・単離され、
たちのを用いればよい。
えられた化合物（８）含有反応液から抽出・単離され、
たちのを用いればよい。
化合物圓の２つのメトキシメチル基を不活性また、この
とき用いる化合物（１）は、前記工程においてえられた
化合物（１）含有反応液から抽出・単離されたものを用
いればよい。
とき用いる化合物（１）は、前記工程においてえられた
化合物（１）含有反応液から抽出・単離されたものを用
いればよい。
えられた化合物（Ｉ）を低級ポリハロゲン化炭化水素、
たとえば乾燥塩化メチレンまたは乾燥クロロホルム中、
ルイス酸、たとえば三臭化ホウ素または三塩化ホウ素に
より、好ましくは一２０〜２０℃、さらに好ましくは一
１θ〜θ℃で不活性ガス雰囲気下（アルゴン、窒素など
）で処理して、目的の化合物（１）をうる。
たとえば乾燥塩化メチレンまたは乾燥クロロホルム中、
ルイス酸、たとえば三臭化ホウ素または三塩化ホウ素に
より、好ましくは一２０〜２０℃、さらに好ましくは一
１θ〜θ℃で不活性ガス雰囲気下（アルゴン、窒素など
）で処理して、目的の化合物（１）をうる。
このとき用いるルイス酸の使用量は、通常の方法で用い
る量であれば、とくに限定されないが、なかでも化合物
（Ｉ）１当量に対してルイス酸１〜４当量用いるのがと
くに好ましい。
る量であれば、とくに限定されないが、なかでも化合物
（Ｉ）１当量に対してルイス酸１〜４当量用いるのがと
くに好ましい。
（Ｉ）
ＣＩ＋）
なお、化合物■を強塩基で処理して、ベンゼン環の２位
の炭素原子を前記化合物■の化合物■への変換と同様に
して炭素陰イオンとしたのち、該炭素陰イオンと一般式
（１）： ％式％）［２ （式中％ Ｒ’はアルキル基、アルケニル基またはア
ラルキル基、およびｘ２はハロゲン原子またはスルホン
酸エステル基を表わす）で示される親電子反応剤とを前
記化合物■の化合物■への変換と同様にして反応させる
ことにより、−般式（ａ： ＣＨ３ （式中、Ｒ１は前記と同じ）で示される２−（３，４−
ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−２−オキサ
ゾリン誘導体を製造することができる。
の炭素原子を前記化合物■の化合物■への変換と同様に
して炭素陰イオンとしたのち、該炭素陰イオンと一般式
（１）： ％式％）［２ （式中％ Ｒ’はアルキル基、アルケニル基またはア
ラルキル基、およびｘ２はハロゲン原子またはスルホン
酸エステル基を表わす）で示される親電子反応剤とを前
記化合物■の化合物■への変換と同様にして反応させる
ことにより、−般式（ａ： ＣＨ３ （式中、Ｒ１は前記と同じ）で示される２−（３，４−
ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−２−オキサ
ゾリン誘導体を製造することができる。
一般式（１）中、Ｒ１の具体例としては、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、シクロヘキシルメチル基など
のアルキル基、アリル基、イソプレニル基、ファルネシ
ル基などのアルケニル基、ベンジル基、フェニルエチル
基、３−フェニルプロピル基などのアラルキル基などが
あげられ、またＸ２の具体例としては、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、トシル基、メシ
ル基などのスルホン酸エステル基などがあげられる。
チル基、ｎ−プロピル基、シクロヘキシルメチル基など
のアルキル基、アリル基、イソプレニル基、ファルネシ
ル基などのアルケニル基、ベンジル基、フェニルエチル
基、３−フェニルプロピル基などのアラルキル基などが
あげられ、またＸ２の具体例としては、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、トシル基、メシ
ル基などのスルホン酸エステル基などがあげられる。
また上記各工程でえられた各化合物は、従来公知の方法
によって容易に単離および精製することができる。
によって容易に単離および精製することができる。
以下に本発明を参考例、実施例をあげてさらに詳しく説
明するが本発明はかかる実施例のみに限定されるもので
はない。
明するが本発明はかかる実施例のみに限定されるもので
はない。
実施例１
（２−ゲラニル−３，４，２°、４°−テトラヒドロキ
シジヒドロカルコン（Ｉ）の製造） ２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２°、４゛−ジヒ
ドロキシジヒドロカルコン（１）４Ｈｍｇ（１ミリモル
）をアルゴンガス雰囲気下、乾燥塩化メチレン５ｍｌに
とり、０℃に冷却した。つぎに三臭化ホウ素７５０ｍｇ
（３ミリモル）を乾燥塩化メチレン５ｍｌに添加したも
のを、撹拌下に上記溶液に滴下した。滴下後、反応液を
氷水に注ぎ、クロロホルム（２０ｍｌ ｘ ３回）抽出
後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、減圧上溶媒
を留去した。えられた粗製油状物をローバー■（ｌｏｂ
ａｒ■）カラム（リクロプレップ５１６０（ＬＩＣｈｒ
ｏｐｒｅｐ ５Ｉ６０）メルク（Ｍｅｒｃｋ）社製、留
出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル−５／２（容量比）
）により精製して無色の粉末として化合物（Ｉ）をえた
。
シジヒドロカルコン（Ｉ）の製造） ２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２°、４゛−ジヒ
ドロキシジヒドロカルコン（１）４Ｈｍｇ（１ミリモル
）をアルゴンガス雰囲気下、乾燥塩化メチレン５ｍｌに
とり、０℃に冷却した。つぎに三臭化ホウ素７５０ｍｇ
（３ミリモル）を乾燥塩化メチレン５ｍｌに添加したも
のを、撹拌下に上記溶液に滴下した。滴下後、反応液を
氷水に注ぎ、クロロホルム（２０ｍｌ ｘ ３回）抽出
後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、減圧上溶媒
を留去した。えられた粗製油状物をローバー■（ｌｏｂ
ａｒ■）カラム（リクロプレップ５１６０（ＬＩＣｈｒ
ｏｐｒｅｐ ５Ｉ６０）メルク（Ｍｅｒｃｋ）社製、留
出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル−５／２（容量比）
）により精製して無色の粉末として化合物（Ｉ）をえた
。
えられた化合物（Ｉ）の収率、融点ならびにＩＲ。
Ｌ）！ ＮＭＲおよびＭＳによる分析結果を以下に示す
。
。
収 率 ： ７７％
融 点： １３５ ℃
ＫＢｒ −１゜
ＩＲνｍａｘ Ｃ１１、３４５０（ＯＨ）、１６２０
（水素結合性Ｃ−０） ＩＨＮＯＲδ（ＣＤＣ１３’） ： １．５Ｂ（３Ｈ，
ｂｒｓ）、１．６５（３Ｈ。
（水素結合性Ｃ−０） ＩＨＮＯＲδ（ＣＤＣ１３’） ： １．５Ｂ（３Ｈ，
ｂｒｓ）、１．６５（３Ｈ。
ｂｒｓ）、１．７８（３Ｈ，ｂｒｓ）、２．０４（４Ｈ
，ｂｒｓ）、２．８０〜３．２０（４Ｈ，ｍ）、３．４
０ （２Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ）、４．８８〜５．３０（
２Ｈ，ａ）、６．３２（Ｈ，ｄｄ、Ｊ−９Ｈｚ。
，ｂｒｓ）、２．８０〜３．２０（４Ｈ，ｍ）、３．４
０ （２Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ）、４．８８〜５．３０（
２Ｈ，ａ）、６．３２（Ｈ，ｄｄ、Ｊ−９Ｈｚ。
Ｊ”２Ｈｚ）、６．３７（ＩＨ，ｂｒｓ）、６．６２．
６．７３（２Ｈ。
６．７３（２Ｈ。
ＡＢＱ−Ｊ＝９Ｈｚ）
ＭＳ（１／Ｚ）：４１０ （Ｍ ’）実施例２
（２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２゛４゛−ジヒ
ドロキシジヒドロカルコン（■）の製造） ２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２°、４°−ビス
（メトキシメチルオキシ）ジヒドロカルコン（１１０５
２６ｍｇ（１ミリモル）をメタノール７ ｍｌとＴｌＩ
Ｐｌ、５ｍｌの混合液に溶解し、アルゴンガス雰囲気下
、室温で撹拌しながら、濃塩酸１．５ｍｌを徐々に滴下
した。室温下、２０時間撹拌したのち１０重量％水酸化
カリウムで中和し、溶液を減圧下濃縮した。えられた残
渣をジエチルエーテル３０（０１で抽出し、エーテル溶
液を水洗（１０ｍｌＸ２回）し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させた。減圧上溶媒を留去し、えられた油状物を
ローバー■カラム（リクロブレップ８１６０、留出溶媒
：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル−５／１ （容量比））で
精製して、粘稠な無色油状物である化合物（１）をえた
。
ドロキシジヒドロカルコン（■）の製造） ２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２°、４°−ビス
（メトキシメチルオキシ）ジヒドロカルコン（１１０５
２６ｍｇ（１ミリモル）をメタノール７ ｍｌとＴｌＩ
Ｐｌ、５ｍｌの混合液に溶解し、アルゴンガス雰囲気下
、室温で撹拌しながら、濃塩酸１．５ｍｌを徐々に滴下
した。室温下、２０時間撹拌したのち１０重量％水酸化
カリウムで中和し、溶液を減圧下濃縮した。えられた残
渣をジエチルエーテル３０（０１で抽出し、エーテル溶
液を水洗（１０ｍｌＸ２回）し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させた。減圧上溶媒を留去し、えられた油状物を
ローバー■カラム（リクロブレップ８１６０、留出溶媒
：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル−５／１ （容量比））で
精製して、粘稠な無色油状物である化合物（１）をえた
。
えられた化合物Ｈの収率ならびにＩＲｌＩＨＮＭＲおよ
びＭＳによる分析結果を以下に示す。
びＭＳによる分析結果を以下に示す。
収 率 ： ８６％
ｎｅａｔ −１゜
ＩＲν、＆Ｘｃｓ 、 ３２５０（ＯＲ）、１６３０
（水素結合性Ｃ−０） ＩＨＮＭＲδ （ＣＤ（Ｊ３） ： １．５２（Ｈｌ、
ｂｒｓ）、１．６２（３Ｈ。
（水素結合性Ｃ−０） ＩＨＮＭＲδ （ＣＤ（Ｊ３） ： １．５２（Ｈｌ、
ｂｒｓ）、１．６２（３Ｈ。
ｂｒｓ）、１．７３（３Ｈ，ｂｒｓ）、１．９７（４Ｈ
，ｂｒｓ）、２．９１〜３．００（２Ｂ、ｂｒｔ）、３
．０５〜３．１８（２Ｈ，ｂｒｔ）、３．４０（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、４．９７〜５．１３（２Ｈ，ｓ）、
５．７６（ｌＨ，ｂｒｓ）、６．３３（ｌＨ，ｄｄ、
Ｊ−９Ｈｚ、Ｊ−２Ｈｚ）、６．３６（ＩＨ，ｄ、２
Ｈｚ）、 ６．７４（ｌＨ，ｄ、Ｊ−９Ｈ２）、 ６．
８８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．５８（ｌＨ，ｄ、
Ｊ−９Ｈ２）、１２．７７（ＩＨ，ｓ） ＭＳ（１／Ｚ）：４３ｇ （Ｍ” ） 、４０１１．３
１６ 、２９６．２８Ｂ 、２７３ ．２５５ ．２
１７ ．２０３ ．１９３実施例３ （２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２゛４°−ビス
（メトキシメチルオキシ）ジヒドロカルコン（ＩＩ）の
製造） ６０重量％水素化ナトリウム１２０ｍｇ（３ミリモル）
を乾燥ＤＭＦ２ｍｌにとり、水冷下（０℃）、エチル２
．４−ビス（メトキシメチルオキシ）ベンゾイルアセテ
ート（Ｖ）９３６ｍｇ（３ミリモル）を乾燥ＤＭＦ３ｍ
ｌに溶解させた溶液を滴下した。１０分間撹拌したのち
、ＩＩＩ製の２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンジ
ルプロミド（至）１．２１ｇ （３，４ミリモル）を乾
燥ＤＭＰ５ｍｌに溶解させた溶液を滴下した。３０分撹
拌し、１Ｏｆｆｌ’ ｍ％塩酸で中和したのち、減圧下
溶媒を留去した。残渣をエーテル５０ｍ１に溶解し、水
洗（１５ｍｌｘ３回）したのち、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させた。減圧下、溶媒を留去してえられた残渣を
エタノール８ｍｌに溶解し、水酸化カリウム１．５ｇの
水溶液２ ｍｌを加えた。６０℃で５時間撹拌したのち
、氷冷下１０ｆｆｌ量９６塩酸で中和し、減圧下で溶媒
を留去した。残渣をエーテル５０ｍ１に溶解し、水洗（
１５ｍｌＸ３回）したのち、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた。減圧濃縮してえられた精製油状物をローパー
［Ｆ］カラム（リクロブレップ９１６０、留出溶媒：ｎ
−ヘキサン／酢酸エチル−７／１（容量比））で精製し
て粘稠な無色油状物である化合物（Ｉｎをえた。
，ｂｒｓ）、２．９１〜３．００（２Ｂ、ｂｒｔ）、３
．０５〜３．１８（２Ｈ，ｂｒｔ）、３．４０（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、４．９７〜５．１３（２Ｈ，ｓ）、
５．７６（ｌＨ，ｂｒｓ）、６．３３（ｌＨ，ｄｄ、
Ｊ−９Ｈｚ、Ｊ−２Ｈｚ）、６．３６（ＩＨ，ｄ、２
Ｈｚ）、 ６．７４（ｌＨ，ｄ、Ｊ−９Ｈ２）、 ６．
８８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．５８（ｌＨ，ｄ、
Ｊ−９Ｈ２）、１２．７７（ＩＨ，ｓ） ＭＳ（１／Ｚ）：４３ｇ （Ｍ” ） 、４０１１．３
１６ 、２９６．２８Ｂ 、２７３ ．２５５ ．２
１７ ．２０３ ．１９３実施例３ （２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２゛４°−ビス
（メトキシメチルオキシ）ジヒドロカルコン（ＩＩ）の
製造） ６０重量％水素化ナトリウム１２０ｍｇ（３ミリモル）
を乾燥ＤＭＦ２ｍｌにとり、水冷下（０℃）、エチル２
．４−ビス（メトキシメチルオキシ）ベンゾイルアセテ
ート（Ｖ）９３６ｍｇ（３ミリモル）を乾燥ＤＭＦ３ｍ
ｌに溶解させた溶液を滴下した。１０分間撹拌したのち
、ＩＩＩ製の２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンジ
ルプロミド（至）１．２１ｇ （３，４ミリモル）を乾
燥ＤＭＰ５ｍｌに溶解させた溶液を滴下した。３０分撹
拌し、１Ｏｆｆｌ’ ｍ％塩酸で中和したのち、減圧下
溶媒を留去した。残渣をエーテル５０ｍ１に溶解し、水
洗（１５ｍｌｘ３回）したのち、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させた。減圧下、溶媒を留去してえられた残渣を
エタノール８ｍｌに溶解し、水酸化カリウム１．５ｇの
水溶液２ ｍｌを加えた。６０℃で５時間撹拌したのち
、氷冷下１０ｆｆｌ量９６塩酸で中和し、減圧下で溶媒
を留去した。残渣をエーテル５０ｍ１に溶解し、水洗（
１５ｍｌＸ３回）したのち、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた。減圧濃縮してえられた精製油状物をローパー
［Ｆ］カラム（リクロブレップ９１６０、留出溶媒：ｎ
−ヘキサン／酢酸エチル−７／１（容量比））で精製し
て粘稠な無色油状物である化合物（Ｉｎをえた。
えられた化合物（ＩＩＩ）の収率ならびにＩＲ，１）Ｉ
ＮＭＲおよびＭＳによる分析結果を以下に示す。
ＮＭＲおよびＭＳによる分析結果を以下に示す。
収 率 ： ６３％
ｎｅａｔ−’ ： １［１７０（Ｃ−０）ｌＲν、、、
Ｘｃｍ ＩＨＮＭＲδ （ＣＤＣｌ２） ： １．５３（３ｔＬ
ｂｒｓ）、１．Ｂｌ（３１１゜ｂｒｓ）、ｔ、ｙａ（ａ
Ｈ，ｂｒｓ）、１．８５〜２．０７（４１１，＊）、２
．９２（２Ｈ，ｔ、Ｊ−８Ｈｚ）、ａ、２１（２Ｈ，ｔ
、Ｊ−８１１ｚ）、３．４０（２Ｈ，ｄ、Ｊ−７１１ｚ
）、３．４４（３Ｈ，ｓ）、３．４７（３Ｈ。
Ｘｃｍ ＩＨＮＭＲδ （ＣＤＣｌ２） ： １．５３（３ｔＬ
ｂｒｓ）、１．Ｂｌ（３１１゜ｂｒｓ）、ｔ、ｙａ（ａ
Ｈ，ｂｒｓ）、１．８５〜２．０７（４１１，＊）、２
．９２（２Ｈ，ｔ、Ｊ−８Ｈｚ）、ａ、２１（２Ｈ，ｔ
、Ｊ−８１１ｚ）、３．４０（２Ｈ，ｄ、Ｊ−７１１ｚ
）、３．４４（３Ｈ，ｓ）、３．４７（３Ｈ。
Ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、
４．９８〜５．１１（２Ｈ，ｓ）、５．１９（２Ｈ，ｓ
）、５．２１（１）１．８）、６．７０（ｌＨ，ｄ、Ｊ
−９Ｈ２）、６．７１（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ−２Ｈｚ、Ｊ−
９Ｈｚ） 、８．８１（ＩＨ，ｄ、Ｊ−２Ｈ２）、
８．８９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．７２（ＩＨ，
ｄ、Ｊ−９１１ｚ） ＭＳ（１／Ｚ）：５２Ｂ （Ｍ” ） 、４９４．４８
１ 、３２８．２８５ 、１８１ 、１６８ 実施例４ （２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンジルアルコー
ル閃の製造） ２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンズアルデヒド［
ＶＩ）１．５１ｇ （５ミリモル）をエタノール２０
ｍ１に溶解し、水冷（０℃）下、撹拌下に水素化ホウ素
ナトリウム８０麿ｇ（２ミリモル）を徐々に加えた。
４．９８〜５．１１（２Ｈ，ｓ）、５．１９（２Ｈ，ｓ
）、５．２１（１）１．８）、６．７０（ｌＨ，ｄ、Ｊ
−９Ｈ２）、６．７１（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ−２Ｈｚ、Ｊ−
９Ｈｚ） 、８．８１（ＩＨ，ｄ、Ｊ−２Ｈ２）、
８．８９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．７２（ＩＨ，
ｄ、Ｊ−９１１ｚ） ＭＳ（１／Ｚ）：５２Ｂ （Ｍ” ） 、４９４．４８
１ 、３２８．２８５ 、１８１ 、１６８ 実施例４ （２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンジルアルコー
ル閃の製造） ２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンズアルデヒド［
ＶＩ）１．５１ｇ （５ミリモル）をエタノール２０
ｍ１に溶解し、水冷（０℃）下、撹拌下に水素化ホウ素
ナトリウム８０麿ｇ（２ミリモル）を徐々に加えた。
３０分撹拌したのち過剰の水素化ホウ素ナトリウムを、
アセトン１ ｍｌを加えることによって分解した。減圧
濃縮してえられた残渣をエーテル１００ｍ１に溶解し、
水洗（２０ｍｌｘ３回）後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去してえられた精製された油状
物をロバール■カラム（リクロブレップ５ｔｅｏ、留出
液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル−５７１（容量比））に
て精製し、無色油状物である化合物置をえた。
アセトン１ ｍｌを加えることによって分解した。減圧
濃縮してえられた残渣をエーテル１００ｍ１に溶解し、
水洗（２０ｍｌｘ３回）後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去してえられた精製された油状
物をロバール■カラム（リクロブレップ５ｔｅｏ、留出
液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル−５７１（容量比））に
て精製し、無色油状物である化合物置をえた。
えられた化合物■の収率ならびにＩＲ，ＩＨＮＭＲおよ
びＭＳによる分析結果を以下に示す。
びＭＳによる分析結果を以下に示す。
収 率 ： ９Ｂ％
ｎｅａｔ” ： ３４００（ＯＨ）
ＩＲνｌＴｌ＆ｘｃｌｌ
ＩＨＮＭＲδ（ＣＤＣｆｘ） ： １．５５（３Ｈ，ｂ
ｒｓ）、１．８４（３Ｈ。
ｒｓ）、１．８４（３Ｈ。
ｂｒｓ）、１．６６（ｌＨ，ｂｒｓ）、１．７９（３Ｈ
，ｂｒｓ）、１．９２〜２．１１（４Ｈ，ｍ）、３．４
７（２Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、
３．８５（３Ｈ，ｓ）、４．５９（２Ｈ，ｂｒｓ）、４
．９８〜５．１７（２Ｈ，ｍ）、６．７７（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝９Ｈｚ）、７．０７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｚ）：３０４ （Ｍ ） 、２８［１，２
７１、２４４，２２０，２１８，２０２，１９１，１８
１実施例５ （２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンジルプロミド
剪の製造） ２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンジルアルコール
０Ｑ９１２Ｂ（３ミリモル）を乾燥塩化メチレン（ＣＨ
ｚ Ｃ１ｚ ）１５ ｍｌに溶解させた溶液に水冷（０
℃）下で三臭化リン３００■ｇ（１，１ミリモル）を乾
燥ＣＨｚ Ｃ１２５ｍｌに溶解させた溶液を滴下した。
，ｂｒｓ）、１．９２〜２．１１（４Ｈ，ｍ）、３．４
７（２Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、
３．８５（３Ｈ，ｓ）、４．５９（２Ｈ，ｂｒｓ）、４
．９８〜５．１７（２Ｈ，ｍ）、６．７７（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝９Ｈｚ）、７．０７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｚ）：３０４ （Ｍ ） 、２８［１，２
７１、２４４，２２０，２１８，２０２，１９１，１８
１実施例５ （２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンジルプロミド
剪の製造） ２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンジルアルコール
０Ｑ９１２Ｂ（３ミリモル）を乾燥塩化メチレン（ＣＨ
ｚ Ｃ１ｚ ）１５ ｍｌに溶解させた溶液に水冷（０
℃）下で三臭化リン３００■ｇ（１，１ミリモル）を乾
燥ＣＨｚ Ｃ１２５ｍｌに溶解させた溶液を滴下した。
１時間撹拌後、氷片を加え、飽和型ソウ水で中和した。
ＣＨ２Ｃ１２３０ｍ１を加え、ＣＨ２Ｃｌ２液を分岐し
、水洗（２０ｍｌＸ３回）し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させた。減圧下溶媒を留去してえられた未精製のベ
ンジルプロミド誘導体Ｎは、きわめて不安定であるため
、精製を行なうことなく、つぎの化合物Ｍとの反応に用
いた。
、水洗（２０ｍｌＸ３回）し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させた。減圧下溶媒を留去してえられた未精製のベ
ンジルプロミド誘導体Ｎは、きわめて不安定であるため
、精製を行なうことなく、つぎの化合物Ｍとの反応に用
いた。
粗製物のＧＣ−ＭＳを測定して化合物■の存在を確認し
た。
た。
８８（ｍ／ｚ） ： ２８９．２８７（Ｍ−Ｂｒ）
、２７１．２４３．２２９．２１７．２０３ 実施例６ （２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンズアルデヒド
■の製造） ２−（２−ゲラニル−３，４−ジメトキシフェニル）−
４，４−ジメチル−２−オキサゾリン垢１．Ｈｇ （５
ｍｌ、５．４ミリモル）にメチルヨーシト２０ｍ１を加
えて、室温下４８時間撹拌した。メチルヨーシトを減圧
留去してえられた淡黄色粉末をｎ−ヘキサンで充分に洗
浄し、減圧乾燥した。続いてえられた四級塩を無水ＴＨ
Ｆ ５０ｍ１に溶解し、−１０℃に冷却して、水素化ト
リ５ｅｅ−ブチルホウ素カリウムのＬＭＴＨＰ溶液５ｍ
１（５ミリモル）を滴下した。その後、−夜室温にて攪
拌したのち少量のメタノールを加え、続いて溶媒を減圧
留去した。残渣をエーテル５０ｍ１に溶解し、エーテル
溶液を水洗（１５ｍｌＸ２回）し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させた。エーテルを減圧留去し、えられた残渣
をＴＨＦ ２５ｍ１に溶解させた。室温下、シュウ酸２
．５ｇ（２７，８ミリモル）、水５ｍｌを加え、１５分
撹拌したのち、減圧下溶媒を留去した。えられた残渣を
エーテル３０ｍ１に溶解し、水洗（１０ｍｌＸ２回）し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。
、２７１．２４３．２２９．２１７．２０３ 実施例６ （２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンズアルデヒド
■の製造） ２−（２−ゲラニル−３，４−ジメトキシフェニル）−
４，４−ジメチル−２−オキサゾリン垢１．Ｈｇ （５
ｍｌ、５．４ミリモル）にメチルヨーシト２０ｍ１を加
えて、室温下４８時間撹拌した。メチルヨーシトを減圧
留去してえられた淡黄色粉末をｎ−ヘキサンで充分に洗
浄し、減圧乾燥した。続いてえられた四級塩を無水ＴＨ
Ｆ ５０ｍ１に溶解し、−１０℃に冷却して、水素化ト
リ５ｅｅ−ブチルホウ素カリウムのＬＭＴＨＰ溶液５ｍ
１（５ミリモル）を滴下した。その後、−夜室温にて攪
拌したのち少量のメタノールを加え、続いて溶媒を減圧
留去した。残渣をエーテル５０ｍ１に溶解し、エーテル
溶液を水洗（１５ｍｌＸ２回）し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させた。エーテルを減圧留去し、えられた残渣
をＴＨＦ ２５ｍ１に溶解させた。室温下、シュウ酸２
．５ｇ（２７，８ミリモル）、水５ｍｌを加え、１５分
撹拌したのち、減圧下溶媒を留去した。えられた残渣を
エーテル３０ｍ１に溶解し、水洗（１０ｍｌＸ２回）し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。
減圧濃縮してえられた精製油状物をローバー■カラム（
リクロブレップ５ｔｅｏ、留出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢
酸エチル−１５／１（容量比））にて精製し、目的の無
色油状のベンズアルデヒド誘導体（ｖｌ）をえた。
リクロブレップ５ｔｅｏ、留出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢
酸エチル−１５／１（容量比））にて精製し、目的の無
色油状のベンズアルデヒド誘導体（ｖｌ）をえた。
えられた化合物■の収率ならびにＩＲ，ＩＨＮＭＲおよ
びＭＳによる分析結果を以下に示す。
びＭＳによる分析結果を以下に示す。
収率ニア８％
ＩＲν望Ｅ’、’ ｃ＋＋＋−’ ： １Ｇ８０（Ｃ−
０）ＩＨＮＭＲδ（ＣＤ（Ｊ３） ： １．５Ｂ （３
Ｈ，ｂｒｓ） 、１．６４（３Ｈ，ｂｒｓ） 、１．８
０ （３Ｈ，ｂｒｓ） 、２．０１ （４Ｈ。
０）ＩＨＮＭＲδ（ＣＤ（Ｊ３） ： １．５Ｂ （３
Ｈ，ｂｒｓ） 、１．６４（３Ｈ，ｂｒｓ） 、１．８
０ （３Ｈ，ｂｒｓ） 、２．０１ （４Ｈ。
ｂｒｓ）、３．８１ （２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ） 、３
．８２ （３）１．ｓ）、３．９５ （３Ｈ，ｓ） 、
４．９８〜５．０７ （ＩＨ，ｂｒｔ）、５．１０〜５
．１９ （ＩＨ，ｂｒｔ） 、（ｆ、９１ （ｌＨ，ｄ
、Ｊ−９Ｈｚ ） 、７．［ｉ８ （ＩＨ，ｄ、Ｊ−９
Ｒｚ） 、１０．１２（ｌＨ，ｓ） Ｈ８Ｃｍ／ｚ） ： ３０２（Ｍ” ） 、２８３
、２１９、２０５．１９１、 １０９ 実施例７ （２−（２−ゲラニル−３，４−ジメトキシフェニル）
−４，４−ジメチル−２−オキサゾリン■の製造）２−
（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−
２−オキサゾリン＠ ３．５３ｇ（０，０１５モル）を
無水ＴＨＦ４０ ｍｌに溶解し、アルゴン雰囲気下、−
４０”Ｃで１．５５Ｍ ｎ−１３ｕＬＩのｎ−ヘキサン
溶液１（１ｍＪを滴下した。徐々に０℃まで昇温し、３
０分間攪拌を続けた。続いて、再び一４０℃に冷却し、
ゲラニルプロミドａ、３６ｇ（０，０１５５モル）を無
水ＴＨＰ １５ｍ１に溶解させた溶液を滴下した。滴下
後、徐々に０℃まで昇温し、さらに１時間攪拌を続けた
。
．８２ （３）１．ｓ）、３．９５ （３Ｈ，ｓ） 、
４．９８〜５．０７ （ＩＨ，ｂｒｔ）、５．１０〜５
．１９ （ＩＨ，ｂｒｔ） 、（ｆ、９１ （ｌＨ，ｄ
、Ｊ−９Ｈｚ ） 、７．［ｉ８ （ＩＨ，ｄ、Ｊ−９
Ｒｚ） 、１０．１２（ｌＨ，ｓ） Ｈ８Ｃｍ／ｚ） ： ３０２（Ｍ” ） 、２８３
、２１９、２０５．１９１、 １０９ 実施例７ （２−（２−ゲラニル−３，４−ジメトキシフェニル）
−４，４−ジメチル−２−オキサゾリン■の製造）２−
（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−
２−オキサゾリン＠ ３．５３ｇ（０，０１５モル）を
無水ＴＨＦ４０ ｍｌに溶解し、アルゴン雰囲気下、−
４０”Ｃで１．５５Ｍ ｎ−１３ｕＬＩのｎ−ヘキサン
溶液１（１ｍＪを滴下した。徐々に０℃まで昇温し、３
０分間攪拌を続けた。続いて、再び一４０℃に冷却し、
ゲラニルプロミドａ、３６ｇ（０，０１５５モル）を無
水ＴＨＰ １５ｍ１に溶解させた溶液を滴下した。滴下
後、徐々に０℃まで昇温し、さらに１時間攪拌を続けた
。
反応後、少量のメタノールを加えたのち、減圧下溶媒を
留去した。残渣をエーテル＆Ｏｍｌに溶解し、水洗（２
０１１１１Ｘ２回）し、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せた。減圧濃縮してえられた粗製油状物をローバー■カ
ラム（リクロブレップ５ｔ００、留出溶媒：ｎ−ヘキサ
ン／酢酸エチル−１０／１（容量比））で精製し、無色
油状物、オキサゾリジン誘導体■をえた。
留去した。残渣をエーテル＆Ｏｍｌに溶解し、水洗（２
０１１１１Ｘ２回）し、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せた。減圧濃縮してえられた粗製油状物をローバー■カ
ラム（リクロブレップ５ｔ００、留出溶媒：ｎ−ヘキサ
ン／酢酸エチル−１０／１（容量比））で精製し、無色
油状物、オキサゾリジン誘導体■をえた。
えられた化合物■の収率ならびにＩＩ？、 ’ＨＮＭＩ
？およびＭＳによる分析結果を以下に示す。
？およびＭＳによる分析結果を以下に示す。
収率：８４％
ＩＲν”ａｔＣｓ−’ ： １６４５（Ｃ−Ｎ）ａｘ
ＩＨＮＭＲδ（ＣＤＣｆ ３） ： １．５４ （
３Ｈ，ｂｒｓ）、１．８３ （３Ｈ，ｂｒｓ） 、１．
７４ （３Ｈ，ｂｒｓ） 、１．８９〜２．１１ （
４Ｈ，ｍ） 、 ３．７５ （２Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈ
ｚ） 、 ３．７６（３Ｈ，ｓ） 、３．８６ （３
）１．ｓ） 、４．０１ （２）１．ｓ）、５．０６
（ｌ）１．ｂｒｔ） 、５．１６ （ｌＨ，ｂｒｔ）
、６．７５（ＩＨ，ｄ、Ｊ−９）１２） 、７．４８
（ｌＨ，ｔｌ、 Ｊ−９Ｈ２）ＭＳ（ｍ／ｚ） ：
３７１（Ｍ” ） ３１５、３０１． ２５９実施
例８ （２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメ
チル−２−オキサゾリン■の製造） ３．４−ジメトキシ安息香酸■３Ｂ。４ｇ （０，２
モル）に無水トルエン２００ ｍｌと塩化チオニル３５
．７ｇ（０，３モル）を加え、８０℃、４時間攪拌を行
なった。反応後、減圧上溶媒を留去し、残渣の残留溶媒
を減圧下で完全に除いた。つぎに、えられた１０製の酸
クロリドを乾燥トルエン１００ｍ１に溶解し、えられた
溶液を０℃、乾燥下に２−アミノ −２−メチル−１−
プロパツール２［ｉ、７ｇ（０，３モル）を乾燥トルエ
ン１５０ｍ１に溶解させた溶液に滴下した。室温に戻し
、２時間反応させたのち、反応液を水洗（５０ｍｌｘ３
回）し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。
３Ｈ，ｂｒｓ）、１．８３ （３Ｈ，ｂｒｓ） 、１．
７４ （３Ｈ，ｂｒｓ） 、１．８９〜２．１１ （
４Ｈ，ｍ） 、 ３．７５ （２Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈ
ｚ） 、 ３．７６（３Ｈ，ｓ） 、３．８６ （３
）１．ｓ） 、４．０１ （２）１．ｓ）、５．０６
（ｌ）１．ｂｒｔ） 、５．１６ （ｌＨ，ｂｒｔ）
、６．７５（ＩＨ，ｄ、Ｊ−９）１２） 、７．４８
（ｌＨ，ｔｌ、 Ｊ−９Ｈ２）ＭＳ（ｍ／ｚ） ：
３７１（Ｍ” ） ３１５、３０１． ２５９実施
例８ （２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメ
チル−２−オキサゾリン■の製造） ３．４−ジメトキシ安息香酸■３Ｂ。４ｇ （０，２
モル）に無水トルエン２００ ｍｌと塩化チオニル３５
．７ｇ（０，３モル）を加え、８０℃、４時間攪拌を行
なった。反応後、減圧上溶媒を留去し、残渣の残留溶媒
を減圧下で完全に除いた。つぎに、えられた１０製の酸
クロリドを乾燥トルエン１００ｍ１に溶解し、えられた
溶液を０℃、乾燥下に２−アミノ −２−メチル−１−
プロパツール２［ｉ、７ｇ（０，３モル）を乾燥トルエ
ン１５０ｍ１に溶解させた溶液に滴下した。室温に戻し
、２時間反応させたのち、反応液を水洗（５０ｍｌｘ３
回）し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。
減ＪＥ濃縮して、油状物としてえられた酸アミドを室温
、攪拌下に塩化チオニル５０ｍ１中へ徐々に加えた。反
応後、反応溶液を乾燥エーテル６００ｍ１に注ぎ、生じ
た沈澱物をｉ戸数し、さらに乾燥エーテル１００ｍ１で
洗浄した。えられた無色粉末を水２００ ｍｌに溶解さ
せて、２０ｆｆｉ ｆｆ１％水酸化ナトリウムで中和し
、えられた溶液をクロロホルム３００ｍ１で３回抽出し
た。クロロホルム溶液を水洗（１００ｍｌＸＺ回）し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣
をｎ−ヘキサンより再結晶して−ｐ ６０〜８１’Ｃの
無色針状晶の化合物■をえた。
、攪拌下に塩化チオニル５０ｍ１中へ徐々に加えた。反
応後、反応溶液を乾燥エーテル６００ｍ１に注ぎ、生じ
た沈澱物をｉ戸数し、さらに乾燥エーテル１００ｍ１で
洗浄した。えられた無色粉末を水２００ ｍｌに溶解さ
せて、２０ｆｆｉ ｆｆ１％水酸化ナトリウムで中和し
、えられた溶液をクロロホルム３００ｍ１で３回抽出し
た。クロロホルム溶液を水洗（１００ｍｌＸＺ回）し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣
をｎ−ヘキサンより再結晶して−ｐ ６０〜８１’Ｃの
無色針状晶の化合物■をえた。
えられた化合物■の収率ならびにＩＲ，１）Ｉ ＮＭＲ
およびＭＳによる分析結果を以下に示す。
およびＭＳによる分析結果を以下に示す。
収率ニア２％
ＩＲν 曹’ ｃｍ−’ ： １８４５ （Ｃ
−Ｎ）ＩＨＮＭＲδ（ＣＤＣｌ ３ ） ； １．
３ｇ（［ｉＨ，ｓ）、３．９１（３Ｈ。
−Ｎ）ＩＨＮＭＲδ（ＣＤＣｌ ３ ） ； １．
３ｇ（［ｉＨ，ｓ）、３．９１（３Ｈ。
Ｓ）、３．９５（３Ｈ，ｓ）、４．１２（２Ｈ，ｓ）、
８．９３（ＩＨ，ｄ。
８．９３（ＩＨ，ｄ。
Ｊ＝９）１ｚ）、７．５４（ｌ）！、ｂｒｓ）、７．６
５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−９１１ｚ、Ｊ＝２１１ｚ） 河Ｓ（麿／Ｚ）：２３５（Ｍ ） 、 ２２０
、１９３ 、１６５実施例９ （２，４−ビス（メトキシメチルオキシ）アセトフェノ
ン（Ｘｌ＋）の製造） ６０市量％水素化ナトリウム８．４ｇ（０，２１モル）
を乾燥ＤＭＰ１００ｍｌに懸濁し、０℃、撹拌下、２．
４−ジヒドロキシアセトフェノン（ＸＩ）１５．２ｇ
（０，１モル）を乾燥ＤＭＰ ５０ｍ１に溶解させた溶
液を滴下した。滴下後、本溶液にメトキシメチルクロリ
ド１８．５ｇ（０，２３モル）を、０℃、撹拌下に滴下
した。
５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−９１１ｚ、Ｊ＝２１１ｚ） 河Ｓ（麿／Ｚ）：２３５（Ｍ ） 、 ２２０
、１９３ 、１６５実施例９ （２，４−ビス（メトキシメチルオキシ）アセトフェノ
ン（Ｘｌ＋）の製造） ６０市量％水素化ナトリウム８．４ｇ（０，２１モル）
を乾燥ＤＭＰ１００ｍｌに懸濁し、０℃、撹拌下、２．
４−ジヒドロキシアセトフェノン（ＸＩ）１５．２ｇ
（０，１モル）を乾燥ＤＭＰ ５０ｍ１に溶解させた溶
液を滴下した。滴下後、本溶液にメトキシメチルクロリ
ド１８．５ｇ（０，２３モル）を、０℃、撹拌下に滴下
した。
滴下後、０℃で１５分間撹拌したのち、室温に戻し、１
時間撹拌後、メタノール１ ｍｌで過剰の水素化ナトリ
ウムを分解し、溶媒を減圧留去した。
時間撹拌後、メタノール１ ｍｌで過剰の水素化ナトリ
ウムを分解し、溶媒を減圧留去した。
残渣をエーテル２００ｍ１に溶解し、水洗（５０ｍｌＸ
ｚ回）し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。
ｚ回）し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。
減圧濃縮してえられる粗製の油状物をシリカゲルフラッ
シュカラム（キーゼルゲルｅｏＰＦ２５４（Ｋｌｃｓｏ
ｌｇｅｌ ＧＯＰＦ ） 、メルク（Ｍｅｒｃｋ）
社製、２００ｇ、留出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル
−９／１（容量比））にて精製し、無色油状の目的物（
Ｘ１１）をえた。
シュカラム（キーゼルゲルｅｏＰＦ２５４（Ｋｌｃｓｏ
ｌｇｅｌ ＧＯＰＦ ） 、メルク（Ｍｅｒｃｋ）
社製、２００ｇ、留出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル
−９／１（容量比））にて精製し、無色油状の目的物（
Ｘ１１）をえた。
えられた化合物（Ｘ１１）の収率ならびにＩＲ。
ＩＨＮＭＲおよびＭＳによる分析結果を以下に示す。
収率：９１％
ＩＲｐ ”４’：４ ’ ａｓ−’ ： ＩＨ５（Ｃ＝
０）１）Ｉ ＮＭＲδ（ＣＤＣｆｓ ） ： ２．６
３（３Ｈ，ｓ）、３．５１（３Ｈ。
０）１）Ｉ ＮＭＲδ（ＣＤＣｆｓ ） ： ２．６
３（３Ｈ，ｓ）、３．５１（３Ｈ。
Ｓ）、３．５４（３Ｈ，ｓ）、５．２６（２Ｈ，ｓ）、
ｓ、ａａ（２Ｈ，ｓ）、６．７８（Ｉｌ、ｄｄ、Ｊ−９
Ｈｚ、Ｊ−ＩＨｚ） 、８．８９（ＩＨ，ｄ、Ｊ−ＩＨ
ｚ）、７．８８（ｌＨ，ｄ、Ｊ−９Ｈ２）ＭＳ（ｍ／ｚ
）：２４０（Ｍ ） 、 ２２Ｇ 、 １８０
、１７Ｂ実施例！０ （エチル２，４−ビス（メトキシメチルオキシ）ベンゾ
イルアセテート（Ｖ）の製造） ６０重量％水素化ナトリウム１０ｇ（０，２５モル）を
炭酸ジエチル３０ｍ１と乾燥トルエン１００ｍ１との混
合液に懸濁し、室温下に２．４−ビス（メトキシメチル
オキシ）アセトフェノン（Ｘｌｌ）２４ｇ（０，１モル
）を炭酸ジエチル２０ｍ１に溶解させた溶液を滴下した
。１２０℃で１時間３０分撹拌後、室温に戻し、過剰の
水素化ナトリウムをエタノール１ ｍｌで分解した。１
０重量％塩酸で中和し、溶液を減圧濃縮してえられた残
渣をエーテル１５０ ｍｌに溶解させた。エーテル溶液
を水洗（５０ｍｌＸ３回）し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させたのち、減圧濃縮してえられた粗製油状物をシ
リカゲルフラッシュカラム（キーゼル６０ＰＦ２５４
（Ｋｌｅｓｅ１ｇｅ１６０ＰＦ２５４） 、３５０ｇ、
留出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル−１０／１（容量
比））で精製して、口約の淡黄色油状物であるベンゾイ
ルアセテート誘導体（ｖ）をえた。
ｓ、ａａ（２Ｈ，ｓ）、６．７８（Ｉｌ、ｄｄ、Ｊ−９
Ｈｚ、Ｊ−ＩＨｚ） 、８．８９（ＩＨ，ｄ、Ｊ−ＩＨ
ｚ）、７．８８（ｌＨ，ｄ、Ｊ−９Ｈ２）ＭＳ（ｍ／ｚ
）：２４０（Ｍ ） 、 ２２Ｇ 、 １８０
、１７Ｂ実施例！０ （エチル２，４−ビス（メトキシメチルオキシ）ベンゾ
イルアセテート（Ｖ）の製造） ６０重量％水素化ナトリウム１０ｇ（０，２５モル）を
炭酸ジエチル３０ｍ１と乾燥トルエン１００ｍ１との混
合液に懸濁し、室温下に２．４−ビス（メトキシメチル
オキシ）アセトフェノン（Ｘｌｌ）２４ｇ（０，１モル
）を炭酸ジエチル２０ｍ１に溶解させた溶液を滴下した
。１２０℃で１時間３０分撹拌後、室温に戻し、過剰の
水素化ナトリウムをエタノール１ ｍｌで分解した。１
０重量％塩酸で中和し、溶液を減圧濃縮してえられた残
渣をエーテル１５０ ｍｌに溶解させた。エーテル溶液
を水洗（５０ｍｌＸ３回）し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させたのち、減圧濃縮してえられた粗製油状物をシ
リカゲルフラッシュカラム（キーゼル６０ＰＦ２５４
（Ｋｌｅｓｅ１ｇｅ１６０ＰＦ２５４） 、３５０ｇ、
留出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル−１０／１（容量
比））で精製して、口約の淡黄色油状物であるベンゾイ
ルアセテート誘導体（ｖ）をえた。
えられた化合物Ｍの収率ならびにＩＲ，ＩＨＮＭＲおよ
びＭＳによる分析結果を以下に示す。
びＭＳによる分析結果を以下に示す。
収率：８２％
ＣＯＣｌ２ −１゜
ＩＲνｒｎａＸｃｍ 、 １７３５（ｅｓｔｅｒ）
、１８８５（Ｃ−０）ＩＨＮＭＲδ（ＣＤＣｆ ３ ）
： １．２Ｂ（３Ｈ，ｔ、Ｊ−７Ｈｚ）、３．５０
（３Ｈ，ｓ）、３．５３（３Ｈ，ｓ）、３．９８（２Ｈ
，ｓ）、４．０８（２）１．ｑ、Ｊ−７Ｈｚ）、５．２
５（２Ｈ，ｓ）、５．３０（２Ｈ。
、１８８５（Ｃ−０）ＩＨＮＭＲδ（ＣＤＣｆ ３ ）
： １．２Ｂ（３Ｈ，ｔ、Ｊ−７Ｈｚ）、３．５０
（３Ｈ，ｓ）、３．５３（３Ｈ，ｓ）、３．９８（２Ｈ
，ｓ）、４．０８（２）１．ｑ、Ｊ−７Ｈｚ）、５．２
５（２Ｈ，ｓ）、５．３０（２Ｈ。
Ｓ）、６．８１（Ｉ）１．ｄｄ、Ｊ−ＩＨｚ、９Ｈｚ）
、６．９０（ＩＨ，ｄ。
、６．９０（ＩＨ，ｄ。
Ｊ＝ｌＨｚ）、７．９７（ｌＨ，ｄ、Ｊ−９Ｈ２）ＭＳ
（ｉ／ｚ）：２８１（Ｍ−ＯＭｅ）、 ｚｅ７（Ｍ−Ｏ
Ｖ、ｔ）、 ２３Ｂ［発明の効果］ 本発明による５−リポキシゲナーゼ選択的阻害剤である
２−ゲラニル−３，４，２°、４゛−テトラヒドロキシ
ジヒドロカルコンの製造方法の確立は、強力な喘息治療
薬剤や抗炎症薬剤の開発にとって有益な道を拓くもので
ある。
（ｉ／ｚ）：２８１（Ｍ−ＯＭｅ）、 ｚｅ７（Ｍ−Ｏ
Ｖ、ｔ）、 ２３Ｂ［発明の効果］ 本発明による５−リポキシゲナーゼ選択的阻害剤である
２−ゲラニル−３，４，２°、４゛−テトラヒドロキシ
ジヒドロカルコンの製造方法の確立は、強力な喘息治療
薬剤や抗炎症薬剤の開発にとって有益な道を拓くもので
ある。
本発明によれば、従来の植物から抽出・単離する方法を
用いたばあいに比べ、２−ゲラニル−３，４，２°、４
゛−テトラヒドロキシジヒドロカルコン（夏）を収率よ
く、比較的短かい工程で容易に、かつ効率よく製造する
ことができる。
用いたばあいに比べ、２−ゲラニル−３，４，２°、４
゛−テトラヒドロキシジヒドロカルコン（夏）を収率よ
く、比較的短かい工程で容易に、かつ効率よく製造する
ことができる。
また、本発明の化合物２−ゲラニル−３，４−ジメトキ
シベンズアルデヒド■、２−ゲラニル−３，４−ジメト
キシ−２°、４゛−ビス（メトキシメチルオキシ）ジヒ
ドロカルコン（Ｉｌｌおよび２−ゲラニル−３，４−ジ
メトキシ−２°、４゛−ジヒドロキシジヒドロカルコン
（１）は、２−ゲラニル−３，４，２°、４°−テトラ
ヒドロキシジヒドロカルコン（１）の合成中間体として
用いたばあい、包含される各工程において、収率よく目
的物を与えるのできわめて有用である。さらに、本発明
によれば上記各中間体を容易に、かつ効率よく製造する
ことができる。
シベンズアルデヒド■、２−ゲラニル−３，４−ジメト
キシ−２°、４゛−ビス（メトキシメチルオキシ）ジヒ
ドロカルコン（Ｉｌｌおよび２−ゲラニル−３，４−ジ
メトキシ−２°、４゛−ジヒドロキシジヒドロカルコン
（１）は、２−ゲラニル−３，４，２°、４°−テトラ
ヒドロキシジヒドロカルコン（１）の合成中間体として
用いたばあい、包含される各工程において、収率よく目
的物を与えるのできわめて有用である。さらに、本発明
によれば上記各中間体を容易に、かつ効率よく製造する
ことができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式（IX）： ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） で示される３，４−ジメトキシ安息香酸を塩化チオニル
と反応させて酸クロリドにし、２−アミノ−２−メチル
−１−プロパノールと反応させて酸アミドにし、ついで
塩化チオニルによって縮合閉環させて式（VIII）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） で示される２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，
４−ジメチル−２−オキサゾリンに変換し、強塩基で処
理したのち、一般式（ＸＸ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸ） （式中、Ｘ＾３はハロゲン原子またはスルホン酸エステ
ル基を表わす）で示されるゲラニル誘導体と反応させて
、式（VII）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） で示される２−（２−ゲラニル−３，４−ジメトキシフ
ェニル）−４，４−ジメチル−２−オキサゾリンに変換
し、オキサゾリン環の窒素原子を低級アルキルヨージド
で四級塩化し、ついで金属水素化物で還元してえられる
２−（２−ゲラニル−３，４−ジメトキシフェニル）−
３，４，４−トリメチルオキサゾリジンを鉱酸または有
機酸で処理して式（VI）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンズア
ルデヒドに変換し、金属水素化物により還元して式（Ｘ
）： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンジル
アルコールに変換し、三臭化リンまたは三塩化リンと反
応させて、一般式（IV）： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｘ＾１は塩素原子または臭素原子を表わす）で
示されるハロゲン化ベンジル誘導体に変換し、一方、式
（Ｘ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） で示される２，４−ジヒドロキシアセトフェノンを塩基
存在下、一般式（ＸＸ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸ I ） （式中、Ｘ＾４は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子
を表わす）で示されるハロゲン化メトキシメチル誘導体
と反応させて式（ＸII）：▲数式、化学式、表等があり
ます▼（ＸII） で示される２，４−ビス（メトキシメチルオキシ）アセ
トフェノンに変換し、塩基存在下、炭酸ジエチルと反応
させて式（Ｖ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） で示されるエチル２，４−ビス（メトキシメチルオキシ
）ベンゾイルアセテートに変換し、塩基を用いて活性メ
チレン基の炭素原子を炭素陰イオンとしたのち前記式（
IV）で示されるハロゲン化ベンジル誘導体と反応させ、
ひきつづいて、えられる縮合成績体をアルカリ溶液中で
処理して加水分解および脱炭酸させることにより式（I
II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２′，
４′−ビス（メトキシメチルオキシ）ジヒドロカルコン
に変換し、鉱酸または有機酸で処理して式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２′，
４′−ジヒドロキシジヒドロカルコンに変換し、ルイス
酸で処理して式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） で示される２−ゲラニル−３，４，２′，４′−テトラ
ヒドロキシジヒドロカルコンに変換することからなる２
−ゲラニル−３，４，２′，４′−テトラヒドロキシジ
ヒドロカルコンの製造方法。 ２ 式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２′，
４′−ジヒドロキシジヒドロカルコンをルイス酸で処理
することからなる式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） で示される２−ゲラニル−３，４，２′，４′−テトラ
ヒドロキシジヒドロカルコンの製造方法。 ３ 式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２′，
４′−ジヒドロキシジヒドロカルコン。 ４ 式（III）： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２′，
４′−ビス（メトキシメチルオキシ）ジヒドロカルコン
を鉱酸または有機酸で処理することからなる式（ I ）
： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２′，
４′−ジヒドロキシジヒドロカルコンの製造方法。 ５ 式（III）： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２′，
４′−ビス（メトキシメチルオキシ）ジヒドロカルコン
。 ６ 一般式（IV）： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｘ＾１は塩素原子または臭素原子を表わす）で
示されるハロゲン化ベンジル誘導体と式（Ｖ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） で示されるエチル２，４−ビス（メトキシメチルオキシ
）ベンゾイルアセテートとを塩基の存在下で縮合させ、
さらには縮合成績体をアルカリ溶液中で処理して加水分
解および脱炭酸させることからなる式（III）： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシ−２′，
４′−ビス（メトキシメチルオキシ）ジヒドロカルコン
の製造方法。 ７ 式（VI）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンズア
ルデヒド。 ８ 式（VII）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） で示される２−（２−ゲラニル−３，４−ジメトキシフ
ェニル）−４，４−ジメチル−２−オキサゾリンのオキ
サゾリン環の窒素原子を低級アルキルヨージドで四級塩
化し、ついで金属水素化物で還元してえられる２−（２
−ゲラニル−３，４−ジメトキシフェニル）−３，４，
４−トリメチルオキサゾリジンを鉱酸または有機酸で処
理することからなる式（VI）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） で示される２−ゲラニル−３，４−ジメトキシベンズア
ルデヒドの製造方法。 ９ 式（VIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） で示される２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，
４−ジメチル−２−オキサゾリンを強塩基で処理して、
ベンゼン環の２位の炭素原子を炭素陰イオンとしたのち
、該炭素陰イオンと一般式（１）： Ｒ＾１−Ｘ＾２（１） （式中、Ｒ＾１はアルキル基、アルケニル基またはアラ
ルキル基、およびＸ＾２はハロゲン原子またはスルホン
酸エステル基を表わす）で示される親電子反応剤とを反
応させることからなる一般式（２）： ▲数式、化学式、表等があります▼（２） （式中、Ｒ＾１は前記と同じ）で示される２−（３，４
−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−２−オキ
サゾリン誘導体の製造方法。 １０ 一般式（１）で示される親電子反応剤のＲ＾１が
ゲラニル基、およびＸ＾２が臭素原子を表わすものであ
る請求項９記載の２−（３，４−ジメトキシフェニル）
−４，４−ジメチル−２−オキサゾリン誘導体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63164577A JPH0211537A (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | ジヒドロカルコン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63164577A JPH0211537A (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | ジヒドロカルコン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0211537A true JPH0211537A (ja) | 1990-01-16 |
Family
ID=15795814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63164577A Pending JPH0211537A (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | ジヒドロカルコン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0211537A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6027622A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-12 | Asahi Glass Co Ltd | フオルステライト系結晶化ガラス |
| JP2020015740A (ja) * | 2008-07-21 | 2020-01-30 | ユニゲン・インコーポレーテッド | スキンホワイトニング（色を薄くする）化合物系列 |
-
1988
- 1988-06-30 JP JP63164577A patent/JPH0211537A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6027622A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-12 | Asahi Glass Co Ltd | フオルステライト系結晶化ガラス |
| JP2020015740A (ja) * | 2008-07-21 | 2020-01-30 | ユニゲン・インコーポレーテッド | スキンホワイトニング（色を薄くする）化合物系列 |
| JP2021098712A (ja) * | 2008-07-21 | 2021-07-01 | ユニゲン・インコーポレーテッド | スキンホワイトニング（色を薄くする）化合物系列 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FR2958289A1 (fr) | Procede de preparation de derives de 3-ceto-benzofurane | |
| CA1338433C (en) | Preparation of ó-arylalkanoic acids | |
| JPH0134980B2 (ja) | ||
| US4605758A (en) | Preparation of α-arylalkanoic acids | |
| US5780675A (en) | Deoxygossylic compounds | |
| NO824255L (no) | Ketal-mellomprodukter. | |
| JPH0211537A (ja) | ジヒドロカルコン誘導体の製造方法 | |
| JP5376939B2 (ja) | 触媒スクリャービン反応 | |
| JP4881298B2 (ja) | インデノールエステルまたはエーテルの製造方法 | |
| JPS6341909B2 (ja) | ||
| US4007217A (en) | Process for producing 2-hydroxy-3-butenoic acid derivatives | |
| US4016196A (en) | Butenoic and pyruvic acid derivatives | |
| JP4418048B2 (ja) | １３−シス−レチノイン酸の製造方法 | |
| US4749804A (en) | Preparation of stereoisomers of ketals | |
| JPH053859B2 (ja) | ||
| JPS5821626B2 (ja) | チカンサクサンユウドウタイ ノ セイゾウホウ | |
| US5936120A (en) | Deoxygossylic compounds | |
| US5026918A (en) | Synthesis of 2,3,5-trisubstituted-2-cyclopentenones via base induced cyclization of alpha-chloro unsaturated ketones | |
| US4912254A (en) | Preparation of α-arylalkanoic acids | |
| US5210258A (en) | Optically active alpha-naththylalkyl ketones | |
| US4096338A (en) | Butenoic and pyruvic acid derivatives | |
| JP2005200366A (ja) | テトラヒドロナフタレン及びナフタレン誘導体の製造方法及び製造中間体 | |
| JPH0363247A (ja) | ２―アルキル―３―アルコキシカルボニルメチルシクロペンタノンの製造法 | |
| JPS63122647A (ja) | 光学活性シクロペンテン誘導体とその製法 | |
| JPH02282344A (ja) | １―（２―ハロエトキシ）―４―（２―アルコキシエチル）ジアルキルベンゼン類及びその合成中間体並びにそれらの製造法 |