JPH0211611A - 樹脂組成物及び光学ガラスファイバ用被覆材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、樹脂組成物、特に光伝送用の光学ガラスファ
イバを被覆するのに適する被覆材料に関する。

（従来の技術） 光ファイバは、もろ（傷がつきやすい上に可と５性にと
ぼしく、わずか−な外力によって容易に破断し、又力学
的側圧が加わるとマイクロベンディングにより伝送され
る光は弱められ、伝送損失を生ずる。このためガラス表
面には、マイクロベンディングを最低に抑えるためにき
わめて低い弾性率を有する材料で１次被覆を行ったのち
、可と５性を有しかつ高い弾性率を有する材料で２次被
覆が行われており、い（つかの提案もなされている。例
えば、特開昭５８−２２３６３８、特開昭５９−１７０
１５４など。

（発明が解決しようとする課題） 伝送損失を生ずる原因としては、前記のマイクロベンデ
ィングと水素ガス等が挙げられる。

マイクロベンディングは、低い弾性率を有する杓科で被
覆を行うことによって、抑えることができるが水素の問
題は、十分に解決されていない。従来の紫外線硬化型被
覆材料でも高温下におし・た場合や螢光灯の下に長期間
貯蔵後、高温下におし・た場合等に多量に発生し、伝送
損失の原因となって見・る。この発明は、螢光灯の下に
長期間貯蔵しても、水素の発生量が小さく、硬ｆヒ性に
すぐれた光学ガラスファイバ用被覆材料に適する樹脂組
成物を提供しようとするもである。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検討し
た結果、特定のアクリレート化合物（■３）と酸化防止
剤（Ｃｌを添加することによって、水素の発生量が小さ
く、硬化速度が速し・光学ガラスファイバ用被覆材料に
適する樹脂組成物を提供することに成功し本発明を完成
した。

すなわち、本発明は（１）エチレン性不飽和基を有する
化合物Ｇ〜）と−数式Ｅｌ） （式中、Ｒ１はＨ又はＣＦＬを、Ｒ２はＩ−１又は低級
アルキル基を、Ｒ３，Ｉｔ、ｌ、　Ｒ５＋　Ｒｓはそれ
ぞれ、メチル基、エチル基、プロピル基等の低級アルキ
ル基を示す。） を有する化合物（Ｂｌと酸化防止剤（Ｃ）を含むことを
特徴とする樹脂組成物、及び に）　エチレン性不飽和基を有する化合物置と一般式〔
ｌ）を有する化合物ｆＢ］と酸化防止剤（Ｃ１を含むこ
とを特徴とする光学ガラスファイバ用被覆材料に関する
ものである。

本発明において使用する（Ａ）成分としてのエチレン性
不飽和基を有する化合物としては、例えば、ウレタンア
クリレート〔ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ポリテトラメチレングリコール等の分子中
にエーテル基を持つポリエーテルポリオール、エチレン
グリコール　プロピレングリコール　ジエチレングリコ
ール、１，５−ベンタンジオール、１．６−ヘキサンジ
オール等のジオール化合物とコハク酸、アン７ピン酸、
フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等の２塩基酸の反応物
あるいは前記ジオール化合物と前記２塩基酸とε−カプ
ロラクトン等のラクトン化合物との反応物あるいは前記
、ジオール化合物とε−カプロラクトンあるいはβ−メ
チル−δ−バレロラクトン等のラクトン化合物との反応
物等の分子中にエステル基を持つポリエステルポリオー
ル、分子中にカーボネート基を持つカーボネートポリオ
ール、分子中にエーテル基及びエステル基の両方を゛も
つポリオール、ポリマーポリオール等のポリオールとポ
リイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート
、ヘキサメチレンジイノシアネート、トリメチルへキサ
メチレンジイソシアネート、ジンクロヘキシルメタンジ
イノシアネ−１・、イノホロンジイソシアメート、ジフ
ェニルメタンジイノシアネート等）とモノヒドロキシ含
有アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチルアクリ
レート、２−ヒドロキシプロピルアクリし・−ト、１−
ヒドロキシブチルアクリレ−１，，２−ヒドロキシエチ
ルアクリレートのε−カフロラクトン付加物等）とを反
応させて得られろ。〕エポキシアクリレート〔ビスフェ
ノールＡ　型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールＦ型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂とアク
リル酸との反応物〕、フェノキシエチルアクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、Ｎ−ビニルピロ
リドン、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニル力グロラ
クタム、テトラヒドロフルフリルアルコールのε−カフ
ロラクトン付加物のアクリレート、ノニルフェノールの
エチレンオキザイド付加物のアクリレート、ノニルフェ
ノールのエチレンオキサイド付加物のε−カプロラクト
ン付加物のアクリレート、トリシクロデカノールのアク
リレート、イソボルニルアクリレート、アダマンチルア
クリレート、トリシクロデカンジメチロールのジアクリ
レート、ジオキサングリコールジアクリレート（日本化
薬■製、ＫＡＹＡＲＡＤ　　Ｒ−６０４）、トリスアク
リロイルオキシエチルインシアネート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ（又はへキサ）アクリレート等を挙げることができ
る。エチレン性不飽和基を有する化合動因の使用量は、
樹脂組成物又は被覆材料中好ましくは７５〜９９重景％
、重量好ましくは９０〜９８重量％である。

本発明において［Ｆ］）成分として用いられる一般式（
１）で表わされる化合物（Ｄは、市場より容易に人手す
ることができる。例えば、日立化成工業■製、ファンク
リルＦＡ−７１１ＭＡ　、　ＦＡ　−７１１ＭＭ、ＦＡ
−７１２ＨＭ、ＦＡ−７１２ＨＡ等である。

−数式（１〕で表わされる化合物ＩＢＩと酸化防止剤（
０を添加することによって、樹脂組成物及び光学ガラス
ファイバ被覆材料（以後いずれも組成物という。）を螢
光打丁に長期間貯蔵後、高温（１００〜１５０℃）に加
熱しても、水素の発生量を小さくおさえることができる
。化合物（Ｂｌの使用量は、組成物中好ましくは０．０
１〜２５重量％、特に好ましくは０．０５〜１０重量％
である。

次に酸化防止剤（０としては、例えばフェノール系酸化
防止剤である２、６−ジ−ターシャリ−ブチル−４−フ
ェノールやイオウ系酸化防止剤であるジラウリル−８，
８′−チオジプロピオネート、シミリスチル−８，８′
−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダ
ゾール等を挙げることができる。その使用量は組成物中
好ましくは０．１〜５重量％、特に好ましくは０．５〜
３重量％である。

本発明の組成物は、紫外線で硬化するのが好ましく、そ
の場合、光重合開始剤を添加するのが好ましい。光重合
開始剤としては１例えば、１−ヒドロキシシクロへキシ
ルフェニルケトン、２、４．６−　）リメチルベンゾイ
ルージフエノイルフォスフィンオキシド（ＢＡＳＦ製、
ルシリンＬＲ８７２８）、ベンジルジエチルケタール、
ジクロロアセトフェノン、ジェトキシアセトフェノン、
ベンゾフェノン等が挙げられる。光重合開始剤を使用す
る場合、その使用量は組成物中０．１〜１０重量％が好
ましく、特に１〜５重量％が好ましい。更に必要に応じ
て、シランカップリング剤、ノ・クリ剤、酸化防止剤、
重合禁止剤等を配合することができる。

本発明の光学ガラスファイバ用被覆材料を用いて光学ガ
ラスファイバを被覆する場合、光学ガラス母材を例えば
１〜５ｍ／秒の速度で線弓きし、被覆材料（１次被覆用
）を被覆し、紫外線照射により硬化し、次いで、被覆材
料（２次被覆用）を被覆する。被覆材料を被覆する場合
のコーティング法としては、ダイスコーティング法が適
当である。

本発明の被覆材料は、紫外線照射により容易に硬化する
。本発明の被覆材料の紫外線照射による硬化は常法によ
り行うことができる。例えば、低圧又は高圧水銀灯、キ
セノン灯を用い紫外線を照射すればよい。本発明の樹脂
組成物は光学ガラスファイバ用被覆材料として有用であ
るが、その他に、プラスチック、ガラス、セラミック等
の被覆材料としても使用できる。

（実施例） 以下本発明を実施例によって更に詳細忙説明するが、本
発明は、実施例に限定されるものでない。

実施例１゜ 平均分子１２ｏｏｏのポリプロピレングリコール２００
ｇ、平均分子量２０００のε−カプロラクトン変性ポリ
エステルジオール（ダイセル化学工業■、プラクセルＬ
−２２０ＡＬ　（２００ｇ。

インホロンジイノシアネート６６．７ｇとを仕込み８０
℃で８時間反応させたのち、２−ヒドロキシエチルアク
リレ−）２３．９ｇを加え８０°Ｃで１０時間反応させ
冷却後４９０ｇのウレタンアクリレートを得た。得られ
たウレタンアクリレート４７ｇ、テトラヒドロフルフリ
ルアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレー
ト（日本化薬■製、ＫＡＹＡＲＡＤ　　ＴＣ−１１Ｏ８
）５０ｇ、構造式 （日立化成工業■、ファンクリルＦ　Ａ　−７１１ＭＡ
）で表わされる化合物０５ｇ、２，６−ジ−ターシャリ
−ブチル−４−メチルフェノール２ｇ、２゜４６−ドリ
メチルベンゾイルジフエノイルフオスフインオキシド（
ＢＡＳＦ製、ルシリンＬＲ８７２８）２．５ｇを溶解、
混合し、目的の被覆材もト（１次被覆用）を得た。この
被覆材料をガラス板上に５０μｍの厚さで塗布したのち
、８０Ｗ／ＣＩｎのメタルハライドランプを用いてコン
ベアスピー　ド２０ｍ／′分で硬化させた。その硬化皮
膜の物性測定結果を表−１に示す。

実施例２゜ 平均分子［２０００のポリテトラメチレンエーテルグリ
コール２０ｇ１．エチレンクリコール２４．８ｇ、イソ
ホロンジインシアネート２２２、３　ｇとを仕込み、８
０℃で８時間反応させたのち、２−ヒドロギシエチルア
クリレート１１９ｇを加え、８０℃で１０時間反応させ
た。

冷却後５６６ｇのウレタンアクリレートを得た。

得られたウレタンアクリレート４０ｇ、）リスアクリロ
イルオキシエチルイソシアネート１５ｇ、トリシクロデ
カンジメチロールジアクリレ−）１５ｇ、アクリロイル
モルホリン１０ｇ。

インボルニルアクリレート１７ｇ及び、構造式（日立化
成工業■製、ファンクリルＦＡ−７１２１１Ａ）で示さ
れる化合物０．５ｇ、２，６−ジ−ターシャリ−ブチル
−４−フェノール２ｇ、２，４．６トリメチルペンゾイ
ルジフエノイルフオスフインオキシド（ＢＡＳＦ製、ル
シリンＬＲ８７２８）２．５ｇを混合し目的の被覆材料
（２次被覆用）を得た。この被覆材料をガラス板上に５
トタｍの厚さで塗布したのち、硬化させた。その硬化皮
膜の物性測定結果を表−１に示す。

実施例３゜ 実施例１の中で、構造式 で示される化合物と変えた以外は、実施例１と同様にし
て被覆材料を作り、同様にして、硬化皮膜の物性測定結
果を表−１に示す。

比較例１゜ 実施例１の中で、構造式 で示される化合物を、構造式 で示される化合物０．５ｇをのぞいて被覆材料を作り同
様にして、硬化皮膜の物性測定結果を表−１に示す。

比較例２゜ 実施例１の中で、２，６−ジ−ターシャリ−フチルー４
−メチルフェノール２ｇをのぞいて被覆材料を作り、同
様にして、硬化皮膜の物性測定結果を表−１に示す。

（、’ｌ１３ＣＨ３ 上記衣−１において、 水素発生量（ｃｃ／ｇ”）の測定：硬化皮膜を螢光打丁
３　Ｑ　ｃｍの所に室温で１０日間放置し、次いでヘッ
ドスペースボトルに入れ１２０’ＧＫ加熱し、２４時間
放置後、ガスクロマトグラフィーで測定した。

実施例４゜ 光学ガラスファイバ用母材を約２０００℃に加熱し、５
ｍ／秒の速度で外径１２５ミクロンの光学ガラスファイ
バを紡糸した。連続する次の工程で、ダイスコーティン
グ法により実施例１、３の樹脂組成物をそれぞれ被覆し
、紫外線を照射して硬化した。次いで実施例２の樹脂組
成物を被覆し、紫外線を照射して硬化した。得られた被
覆光学ガラスファイバは、いづれも、４０℃まで伝送損
失の変化は認められなかった。

（発明の効果） 本発明の樹脂組成物及び光学ガラスファイバ用被覆材料
は、硬化速度が速く、螢光打丁に放置しても水素の発生
量が小さく、光ファイバの長期信頼性の向上に有用であ
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、エチレン性不飽和基を有する化合物（Ａ）と一般式
   〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 （式中、Ｒ＿１はＨ又はＣＨ＿３を、Ｒ＿２はＨ又は低
   級アルキル基を、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５、Ｒ＿６はそ
   れぞれ低級アルキル基を示す。） を有する化合物（Ｂ）と酸化防止剤（Ｃ）を含むことを
   特徴とする樹脂組成物。 ２、エチレン性不飽和基を有する化合物（Ａ）と第１項
   記載の一般式〔 I 〕を有する化合物（Ｂ）と酸化防止
   剤（Ｃ）を含むことを特徴とする光学ガラスファイバ用
   被覆材料。