JPH0211702A - 銅超微粉の精製方法 - Google Patents
銅超微粉の精製方法Info
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Landscapes
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- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は塩化第1銅の気相水素還元により製造された銅
超微粉の精製方法に関する。
超微粉の精製方法に関する。
〈従来の技術〉
金属ハロゲン化物蒸気を水素やアンモニアなどの反応性
ガスと作用させることにより金属あるいはセラミックス
の超微粉を製造する方法は生産性が高く、しかも優れた
粉体特性を有する超微粉を得るのに適している。しかし
同時に不純物とじてハロゲン化物の混入を避は難いとい
う問題点を持ち、そのため製造後にハロゲン化物系不純
物を除去する精製処理が必要である。
ガスと作用させることにより金属あるいはセラミックス
の超微粉を製造する方法は生産性が高く、しかも優れた
粉体特性を有する超微粉を得るのに適している。しかし
同時に不純物とじてハロゲン化物の混入を避は難いとい
う問題点を持ち、そのため製造後にハロゲン化物系不純
物を除去する精製処理が必要である。
この脱ハロゲン化物方法に関する従来技術を以下に示す
。
。
乾式の方法としてはランブリーら(It、 Lampr
eyand R,L、 R4play、 Journa
l of ElectrochemicalSoc、
、 8 、109 (1962) lにより、塩化タ
ングステンの水素還元により生成したタングステン超微
粉を乾燥水素雰囲気中で800℃で24時間加熱し、塩
素含有量を0.24重量%から0.04重量%へと低減
させた結果が報告されている。しかしこのとき超微粉の
比表面積は12nf/ gから6.4911(/ g
ヘと大きく減少しており、水素雰囲気での加熱・還元に
より脱塩素を行うこの従来技術では加熱中に焼結・粗粒
化が進行するという問題点を有している。
eyand R,L、 R4play、 Journa
l of ElectrochemicalSoc、
、 8 、109 (1962) lにより、塩化タ
ングステンの水素還元により生成したタングステン超微
粉を乾燥水素雰囲気中で800℃で24時間加熱し、塩
素含有量を0.24重量%から0.04重量%へと低減
させた結果が報告されている。しかしこのとき超微粉の
比表面積は12nf/ gから6.4911(/ g
ヘと大きく減少しており、水素雰囲気での加熱・還元に
より脱塩素を行うこの従来技術では加熱中に焼結・粗粒
化が進行するという問題点を有している。
一方、湿式の方法としては、まず特開昭6017480
7号公報および特公昭61−48506号公報に金属ハ
ロゲン化物を気相中でアンモニアや水素等の還元性ガス
と反応させることにより製造した金属あるいは金属窒化
物微粒子について、水、アルコール1酸等の溶媒で洗浄
することにより微粒子中の未反応ハロゲン化物や生成物
から成る不純物を熔解除去し、しかもこの洗浄処理を不
活性ガス雰囲気中で行うことにより酸化を防ぎつつ精製
する方法が開示されている。しかしこの方法の不純物の
低減量は、どの実施例も未反応ハロゲン化物あるいは副
生成物のX線回折ピークが消滅する程度に留まっており
十分とはいえない。
7号公報および特公昭61−48506号公報に金属ハ
ロゲン化物を気相中でアンモニアや水素等の還元性ガス
と反応させることにより製造した金属あるいは金属窒化
物微粒子について、水、アルコール1酸等の溶媒で洗浄
することにより微粒子中の未反応ハロゲン化物や生成物
から成る不純物を熔解除去し、しかもこの洗浄処理を不
活性ガス雰囲気中で行うことにより酸化を防ぎつつ精製
する方法が開示されている。しかしこの方法の不純物の
低減量は、どの実施例も未反応ハロゲン化物あるいは副
生成物のX線回折ピークが消滅する程度に留まっており
十分とはいえない。
また、特公昭60−67603号公報には金属ハロゲン
化物の気相還元法で得られる金属超微粉中の残留ハロゲ
ンの除去方法として、ごれら金属超微粉を水洗して付着
ハロゲン化物を水に溶出させて除き、次いで水和性有機
物で洗浄して残留付着水分を溶媒に移行させて除いた後
、制御された量の酸素を含むガスとの接触により徐酸化
処理を行う方法等が開示されている。しかしこの方法は
鉄−30%コバルト合金超微わ〕の塩素含有量を2.4
3iit%から30ppm以下に低減せしめた実施例に
示されているように、処理が長時間におよび同時に溶媒
を大量に使用する。しかも、除去すべきハロゲン化物の
水に対する溶解度が小さい場合、あるいはハロゲン化物
が元々ある程度の大きさを持つ独立した粒子として存在
する場合には、溶解速度が遅いためさらに大量の溶媒と
長時間の処理を必要とする。
化物の気相還元法で得られる金属超微粉中の残留ハロゲ
ンの除去方法として、ごれら金属超微粉を水洗して付着
ハロゲン化物を水に溶出させて除き、次いで水和性有機
物で洗浄して残留付着水分を溶媒に移行させて除いた後
、制御された量の酸素を含むガスとの接触により徐酸化
処理を行う方法等が開示されている。しかしこの方法は
鉄−30%コバルト合金超微わ〕の塩素含有量を2.4
3iit%から30ppm以下に低減せしめた実施例に
示されているように、処理が長時間におよび同時に溶媒
を大量に使用する。しかも、除去すべきハロゲン化物の
水に対する溶解度が小さい場合、あるいはハロゲン化物
が元々ある程度の大きさを持つ独立した粒子として存在
する場合には、溶解速度が遅いためさらに大量の溶媒と
長時間の処理を必要とする。
このように従来の脱塩素方法(脱ハロゲン化物方法)に
関して試みられてきた乾式の方法は加熱中に超微粉の焼
結・粗粒化が進行するという問題を有していた。また、
湿式の方法は大量の溶媒で長時間の処理が必要であり、
コストアップは避りられなかった。
関して試みられてきた乾式の方法は加熱中に超微粉の焼
結・粗粒化が進行するという問題を有していた。また、
湿式の方法は大量の溶媒で長時間の処理が必要であり、
コストアップは避りられなかった。
そこで本発明者らは既に湿式法よりもコスト的に有利な
乾式法を採用して、塩化第1銅の気相水素還元により製
造された銅超微粉について脱塩素する際に問題となる超
微粉の焼結・粗粒化を抑制する方法を昭62年特許願第
319029号として特許出願している。これは真空中
の加熱処理において焼結・粗粒化し難い総酸素含有量が
0.5wL%以上の銅超微粉を対象としたものである。
乾式法を採用して、塩化第1銅の気相水素還元により製
造された銅超微粉について脱塩素する際に問題となる超
微粉の焼結・粗粒化を抑制する方法を昭62年特許願第
319029号として特許出願している。これは真空中
の加熱処理において焼結・粗粒化し難い総酸素含有量が
0.5wL%以上の銅超微粉を対象としたものである。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の目的は既出願に引続き、乾式加熱による総酸素
含有量が0.5wt%未満の銅超微粉の焼結・粗粒化の
問題を解決した精製方法を提案するものである。
含有量が0.5wt%未満の銅超微粉の焼結・粗粒化の
問題を解決した精製方法を提案するものである。
く課題を解決するための手段〉
即ち、本発明は不純物として塩化物を含み、総酸素台を
量が0.5wt%未満の銅超微粉を、l Torr以下
の真空中で300℃以上350℃以下に加熱処理するこ
とにより、焼結・粗粒化を抑制しつつ該塩化物を除去す
ることを特徴とする銅超微粉の精製方法である。
量が0.5wt%未満の銅超微粉を、l Torr以下
の真空中で300℃以上350℃以下に加熱処理するこ
とにより、焼結・粗粒化を抑制しつつ該塩化物を除去す
ることを特徴とする銅超微粉の精製方法である。
く作 用〉
従来の水素雰囲気中での加熱還元により塩化物系不純物
を除去する方法は、超微粉自体の表面酸化膜の還元も同
時に行い粉末表面を活性化させるため、超微粉の焼結・
粗粒化は不可避であった。
を除去する方法は、超微粉自体の表面酸化膜の還元も同
時に行い粉末表面を活性化させるため、超微粉の焼結・
粗粒化は不可避であった。
本発明者らは金属塩化物の蒸気圧が一般に高いという点
に注目し、真空加熱により除去する方法を検討した。
に注目し、真空加熱により除去する方法を検討した。
その結果、減圧あるいは真空状態での加熱は、その焼結
・粗粒化は還元性雰囲気で加熱した場合と比較して著し
く抑制されたものの、やはり完全には避りられす、超微
粉の酸素含有量が少ない場合あるいは比較的高温で加熱
した場合特に問題があることが判明した。
・粗粒化は還元性雰囲気で加熱した場合と比較して著し
く抑制されたものの、やはり完全には避りられす、超微
粉の酸素含有量が少ない場合あるいは比較的高温で加熱
した場合特に問題があることが判明した。
第1図は塩化第1銅の気相水素還元により得られた総酸
素含有量として0.1〜4.8 wt%の範囲にある銅
超微粉をI Torr以下の真空中で450℃X4時間
加熱保持した後の比表面積前後比を処理前の酸素含有量
に対してプロットしたものである。処理前酸素含有量9
.5wt%を境にそれ以下のものは焼結が著しく進行し
、その結果として比表面積が大きく減少している。
素含有量として0.1〜4.8 wt%の範囲にある銅
超微粉をI Torr以下の真空中で450℃X4時間
加熱保持した後の比表面積前後比を処理前の酸素含有量
に対してプロットしたものである。処理前酸素含有量9
.5wt%を境にそれ以下のものは焼結が著しく進行し
、その結果として比表面積が大きく減少している。
本発明は酸素含を景Q、5wt%未満のものを対象とす
るものである。
るものである。
一般に焼結・粗粒化を避けるためには加熱温度を低く抑
える必要があるが、その場合には塩化物の蒸気も低くな
るので、系を高真空に保って排気中の塩化物蒸気の相対
分圧を高め、長時間保持することが必要になってくる。
える必要があるが、その場合には塩化物の蒸気も低くな
るので、系を高真空に保って排気中の塩化物蒸気の相対
分圧を高め、長時間保持することが必要になってくる。
本発明はこのような観点からなされたものであり、その
結果到達塩素量を低くすることに成功した。
結果到達塩素量を低くすることに成功した。
本発明に用いる装置としては、例えば第2図に示すよう
な装置が挙げられる。図において真空容器1は電気炉2
を備え、その内部には試料搭載ホト3に充填された銅超
微粉が挿入されており、ダストフィルター4と凝縮部5
を備えたポンプ6で真空に排気されている。加熱の前後
に容器をパージし不活性雰囲気にするためにポンプにつ
ながるメインバルブ7を閉め、アルゴンガスリーク弁8
、同導入用バルブ9.同流量計10を用いてアルゴンガ
スを導入する。真空計11は容器内真空度をモニターす
る。熱電対12は電気炉2の発熱体制御に用いる。13
はポンプリーク弁である。
な装置が挙げられる。図において真空容器1は電気炉2
を備え、その内部には試料搭載ホト3に充填された銅超
微粉が挿入されており、ダストフィルター4と凝縮部5
を備えたポンプ6で真空に排気されている。加熱の前後
に容器をパージし不活性雰囲気にするためにポンプにつ
ながるメインバルブ7を閉め、アルゴンガスリーク弁8
、同導入用バルブ9.同流量計10を用いてアルゴンガ
スを導入する。真空計11は容器内真空度をモニターす
る。熱電対12は電気炉2の発熱体制御に用いる。13
はポンプリーク弁である。
次に、本発明による銅超微粉の精製処理の具体的な諸条
件について述べる。
件について述べる。
まず、本発明者らがX線回折等の手段を用いて確認した
ところによれば、塩化第1銅の気相水素還元により得ら
れた銅超微粉が含有する塩化物系不純物の主形態はCu
C4であり、その蒸気圧は、byy、 P CuC1=
−8□56/T+1□、235と表され、例えば20
0℃から400℃の間に約1O−6Torrから0.
ITorrへと増加する。よって系の真空度が同しであ
れば加熱保持温度が高いほどCuCf蒸気の分圧は高く
、大きな除去速度を得て保持時間を短縮することができ
る。また加熱保持温度が同し場合には系の真空度を高く
し、その温度でのCuC1の蒸気圧に近づいた減圧状態
を作ることにより結果的にCuC/g気の相対分圧を高
くし同様に保持時間を短縮することができる。
ところによれば、塩化第1銅の気相水素還元により得ら
れた銅超微粉が含有する塩化物系不純物の主形態はCu
C4であり、その蒸気圧は、byy、 P CuC1=
−8□56/T+1□、235と表され、例えば20
0℃から400℃の間に約1O−6Torrから0.
ITorrへと増加する。よって系の真空度が同しであ
れば加熱保持温度が高いほどCuCf蒸気の分圧は高く
、大きな除去速度を得て保持時間を短縮することができ
る。また加熱保持温度が同し場合には系の真空度を高く
し、その温度でのCuC1の蒸気圧に近づいた減圧状態
を作ることにより結果的にCuC/g気の相対分圧を高
くし同様に保持時間を短縮することができる。
ここで、この加熱保持温度の条件を決定するにあたり、
本発明者らは総酸素含有量が0.5wt%未満の銅超微
わ〕に対し、実際に処理中系内最大圧0.15−1.5
Torrの真空中で250〜450℃の温度で3〜1
0時間の加熱保持を行い、比表面積の変化から焼結・粗
粒化の進行程度を評価した。保持温度に対し比表面積前
後比(−処理後比表面積/処理部比表面積)と加熱処理
後の塩素含有量を第3図に示した。比表面積前後比に関
し300℃前後は臨界領域でありそれ以下の低温側では
比表面積前後比は1で焼結・粗粒化は抑えられているが
、300℃を超えると1以下になり、350℃ではすで
に0.5程度になっている。一方処押後塩素含有量も3
00℃付近で急激に低下し300℃未満の加熱では脱塩
素が十分とはいえない。従って加熱保持温度の範囲を3
00℃以上350℃以下に限定する。
本発明者らは総酸素含有量が0.5wt%未満の銅超微
わ〕に対し、実際に処理中系内最大圧0.15−1.5
Torrの真空中で250〜450℃の温度で3〜1
0時間の加熱保持を行い、比表面積の変化から焼結・粗
粒化の進行程度を評価した。保持温度に対し比表面積前
後比(−処理後比表面積/処理部比表面積)と加熱処理
後の塩素含有量を第3図に示した。比表面積前後比に関
し300℃前後は臨界領域でありそれ以下の低温側では
比表面積前後比は1で焼結・粗粒化は抑えられているが
、300℃を超えると1以下になり、350℃ではすで
に0.5程度になっている。一方処押後塩素含有量も3
00℃付近で急激に低下し300℃未満の加熱では脱塩
素が十分とはいえない。従って加熱保持温度の範囲を3
00℃以上350℃以下に限定する。
次に系の真空度について述べる。
第4図に処理中の真空度として系内最大圧0.15〜2
Torrの範囲で350℃で4時間および300’Cで
10時間の加熱保持を行った時の処理後塩素含有量を示
す。処理後塩素含有量は処理中系内最大圧がI Tor
rを超えると著しく大きくなるため、処理中の系の真空
度はI Torr以下に限定される。
Torrの範囲で350℃で4時間および300’Cで
10時間の加熱保持を行った時の処理後塩素含有量を示
す。処理後塩素含有量は処理中系内最大圧がI Tor
rを超えると著しく大きくなるため、処理中の系の真空
度はI Torr以下に限定される。
最後に保持時間について述べる。銅超微粉Logを0.
1Torr以下の真空中で330℃に加熱し保持時間を
0〜6時間の範囲で変化させたときの処理後の塩素含有
量と比表面積前後比を第5図に示す。
1Torr以下の真空中で330℃に加熱し保持時間を
0〜6時間の範囲で変化させたときの処理後の塩素含有
量と比表面積前後比を第5図に示す。
保持時間を長くすることにより到達塩素量をより小さく
することができるが、あまり長時間に及ぶと焼結・粗粒
化も進行する。従って保持時間は要求される処理後の塩
素量との関係から決定することが望ましい。
することができるが、あまり長時間に及ぶと焼結・粗粒
化も進行する。従って保持時間は要求される処理後の塩
素量との関係から決定することが望ましい。
以上のように塩化第1銅の気相水素還元により製造され
た総酸素含有量0.5wt%未満の銅超微粉でも乾式の
方法で加熱保持温度、真空度に関し本発明の条件を満足
するなら、焼結・粗粒化を抑制しつつ塩化物系不純物を
除去することができる。
た総酸素含有量0.5wt%未満の銅超微粉でも乾式の
方法で加熱保持温度、真空度に関し本発明の条件を満足
するなら、焼結・粗粒化を抑制しつつ塩化物系不純物を
除去することができる。
以下、実施例により更に詳しく説明する。
〈実施例〉
実施例1
塩化第1銅の水素還元により製造された0、2wt%の
酸素を含む銅超微粉12gを処理中の真空度としてQ、
15Torr以下に保ちつつ300℃で5時間加熱し
た。この処理により該銅超微粉の塩素含有量はQ、4
wt%から0.05wt%へと減少し、このとき処理後
の比表面積は1.9On(/gで処理前と同じであった
。
酸素を含む銅超微粉12gを処理中の真空度としてQ、
15Torr以下に保ちつつ300℃で5時間加熱し
た。この処理により該銅超微粉の塩素含有量はQ、4
wt%から0.05wt%へと減少し、このとき処理後
の比表面積は1.9On(/gで処理前と同じであった
。
実施例2
同上方法で製造されたQ、3wt%の酸素を含む銅超微
粉20g(比表面積2.8n!/g、塩素含有量2.0
6−1%)を処理中の真空度として0.72Torr以
下に保ちつつ、350℃で3時間加熱した。この処理後
の塩素含有量は0.05wt%、比表面積は2.0ポ/
gであった。
粉20g(比表面積2.8n!/g、塩素含有量2.0
6−1%)を処理中の真空度として0.72Torr以
下に保ちつつ、350℃で3時間加熱した。この処理後
の塩素含有量は0.05wt%、比表面積は2.0ポ/
gであった。
比較例1
塩化第1銅の水素還元により製造された0、3wt%の
酸素を含む銅超微粉30gを処理中の真空度として0.
8Torr以下に保ちつつ380℃で5時間加熱した。
酸素を含む銅超微粉30gを処理中の真空度として0.
8Torr以下に保ちつつ380℃で5時間加熱した。
この処理により該銅超微粉の塩素含有量は2.06wt
%から0.04i1t%へと減少した。このとき比表面
積は2.8nf/gから1.3n(/ Hに減少し焼結
・粗粒化が著しく進行した。
%から0.04i1t%へと減少した。このとき比表面
積は2.8nf/gから1.3n(/ Hに減少し焼結
・粗粒化が著しく進行した。
比較例2
比較例1と同様の方法で製造された酸素含有量0.2
wt%の銅超微粉(塩素含存景1.06wt%、比表面
積3.0rrf/ g ) 12gを処理中の真空度と
して0.3Torr以下に保ちつつ、290℃で5時間
加熱した。
wt%の銅超微粉(塩素含存景1.06wt%、比表面
積3.0rrf/ g ) 12gを処理中の真空度と
して0.3Torr以下に保ちつつ、290℃で5時間
加熱した。
この処理により比表面積は殆ど変化ゼす、焼結・粗粒化
は抑制されたが塩素含有量も1.0ht%から0.6h
t%に減少したに留まった。
は抑制されたが塩素含有量も1.0ht%から0.6h
t%に減少したに留まった。
比較例3
比較例2と同じ銅超微粉3gを処理中の真空度としてI
Torr超2 Torr以下に保ちつつ350℃で4
時間加熱した。この処理による塩素含有量の変化は処理
前の1.49wt%から0.35wt%に減少したに留
まった。
Torr超2 Torr以下に保ちつつ350℃で4
時間加熱した。この処理による塩素含有量の変化は処理
前の1.49wt%から0.35wt%に減少したに留
まった。
〈発明の効果〉
塩化第1銅の気相水素還元により製造された銅超微粉で
総酸素含有量が0.5wt%未満であるものの塩化物系
不純物を除去する場合に、本発明による精製方法で行う
ことにより超微粉の焼結・粗粒化を抑制しつつ乾式の一
段処理で除去することが可能になった。
総酸素含有量が0.5wt%未満であるものの塩化物系
不純物を除去する場合に、本発明による精製方法で行う
ことにより超微粉の焼結・粗粒化を抑制しつつ乾式の一
段処理で除去することが可能になった。
このような低酸素台を量の銅超微粉は特に焼結しやすい
ため、乾式での塩化物系不純物の除去の適用範囲を広め
た点で本発明は有用である。
ため、乾式での塩化物系不純物の除去の適用範囲を広め
た点で本発明は有用である。
第1図は銅超微粉を加熱した時の銅超微粉の酸素含有量
と比表面積の前後比との関係を示したグラフ、第2図は
本発明に適用される真空加熱装置を示す概要図、第3図
は保持温度と処理後塩素含有量および比表面積前後比と
の関係を示したグラフ、第4図は処理中系内最大圧と処
理後塩素含有量との関係を示したグラフ、第5図は保持
時間と処理後塩素含有量および比表面積前後比との関係
を示したグラフである。 1・・・真空容器、 2・・・電気炉、3・・・
試料搭載ボート、 4・・・フィルター5・・・凝縮
部、 6・・・ポンプ、7・・・メインバルブ
、 8・・・Arガスリーク弁、9・・・Arガス
導入用バルブ、 10・・・静ガス導入用流量計、 11・・・真空計、 12・・・熱電対、13
・・・ポンプリーク弁。
と比表面積の前後比との関係を示したグラフ、第2図は
本発明に適用される真空加熱装置を示す概要図、第3図
は保持温度と処理後塩素含有量および比表面積前後比と
の関係を示したグラフ、第4図は処理中系内最大圧と処
理後塩素含有量との関係を示したグラフ、第5図は保持
時間と処理後塩素含有量および比表面積前後比との関係
を示したグラフである。 1・・・真空容器、 2・・・電気炉、3・・・
試料搭載ボート、 4・・・フィルター5・・・凝縮
部、 6・・・ポンプ、7・・・メインバルブ
、 8・・・Arガスリーク弁、9・・・Arガス
導入用バルブ、 10・・・静ガス導入用流量計、 11・・・真空計、 12・・・熱電対、13
・・・ポンプリーク弁。
Claims (1)
- 不純物として塩化物を含み、総酸素含有量が0.5wt
%未満の銅超微粉を、1Torr以下の真空中で300
℃以上350℃以下に加熱処理することにより、焼結・
粗粒化を抑制しつつ該塩化物を除去することを特徴とす
る銅超微粉の精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63159292A JPH0211702A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 銅超微粉の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63159292A JPH0211702A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 銅超微粉の精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0211702A true JPH0211702A (ja) | 1990-01-16 |
Family
ID=15690607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63159292A Pending JPH0211702A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 銅超微粉の精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0211702A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5172080A (en) * | 1991-06-28 | 1992-12-15 | Radio Frequency Systems, Inc. | Garnet centering ring for circulators and isolators |
| WO2000051767A1 (en) * | 1999-03-03 | 2000-09-08 | Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd. | Porous metal powder and method for production thereof |
| US20100230644A1 (en) * | 2007-11-05 | 2010-09-16 | Kazuomi Ryoshi | Copper fine particles, method for producing the same, and copper fine particle dispersion |
| CN103153503A (zh) * | 2010-10-06 | 2013-06-12 | 旭硝子株式会社 | 导电性铜粒子及导电性铜粒子的制造方法、导电体形成用组合物以及带导电体的基材 |
| CN114505084A (zh) * | 2022-01-18 | 2022-05-17 | 石河子大学 | 一种氯化亚铜催化剂的预处理方法 |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP63159292A patent/JPH0211702A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5172080A (en) * | 1991-06-28 | 1992-12-15 | Radio Frequency Systems, Inc. | Garnet centering ring for circulators and isolators |
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| US6616727B1 (en) | 1999-03-03 | 2003-09-09 | Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd. | Porous metal powder |
| US20100230644A1 (en) * | 2007-11-05 | 2010-09-16 | Kazuomi Ryoshi | Copper fine particles, method for producing the same, and copper fine particle dispersion |
| US8535573B2 (en) * | 2007-11-05 | 2013-09-17 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Copper fine particles, method for producing the same, and copper fine particle dispersion |
| CN103153503A (zh) * | 2010-10-06 | 2013-06-12 | 旭硝子株式会社 | 导电性铜粒子及导电性铜粒子的制造方法、导电体形成用组合物以及带导电体的基材 |
| JPWO2012046666A1 (ja) * | 2010-10-06 | 2014-02-24 | 旭硝子株式会社 | 導電性銅粒子および導電性銅粒子の製造方法、導電体形成用組成物、ならびに導電体付き基材 |
| CN103153503B (zh) * | 2010-10-06 | 2018-01-02 | 旭硝子株式会社 | 导电性铜粒子及导电性铜粒子的制造方法、导电体形成用组合物以及带导电体的基材 |
| CN114505084A (zh) * | 2022-01-18 | 2022-05-17 | 石河子大学 | 一种氯化亚铜催化剂的预处理方法 |
| CN114505084B (zh) * | 2022-01-18 | 2023-09-12 | 石河子大学 | 一种氯化亚铜催化剂的预处理方法 |
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