JPH02117613A - 皮膚外用剤 - Google Patents
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- Cosmetics (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
優れ、かつUV−B領域の波長の紫外線吸収特性を有す
るシリコーン系桂皮酸誘導体を配合することを特徴とし
、日焼は止め効果、優れた使用性、化粧持ちを高める効
果を有する新規な皮膚外用剤に関する。
ている。
のUV−Aと呼ばれる長波長紫外線、320〜290n
mのUV−Bと呼ばれる中波長紫外線、290nm以下
のUV−Cと呼ばれる短波長紫外線とに分けられる。
るが、地上に届く紫外線はUV−AおよびUV−Bで、
UV−Cはオゾン層において吸収されて地上には殆ど達
しない。地上にまで達する紫外線のなかで、UV−Bは
、ある一定量以上の光量が皮膚に照射されると紅斑や水
泡を形成し、またメラニン形成が先進され、色素沈着を
生ずる等の変化をもたらす。
化促進を予防し、シミ、ソバカスの発生や増悪を防ぐ意
味において極めて重要であり、これまでに、種々のUV
−B吸収剤が開発されてきた。
体、桂皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、カンファー誘導
体、ウロカニン酸誘導体、ペンヅフェノン誘導体及び複
素環誘導体が知られている。
の外用剤に配合され利用される。
夏に使用されるために、汗や皮脂によって流れ落ちしや
すく、また、海浜やプールで使用される製品の場合、水
浴によって簡単に流れ落ちしてしまうのでは問題がある
。そのため、化粧品の化粧持ちを高めることへのニーズ
が高まってきており、近年では、外用剤基剤として低分
子量のジメチルシロキンなどのシリコーン系基剤が広く
使用されている。これはシリコーン系基剤のもつ伸びの
良さ、さっばり惑、べとつかない等の使用性、更に耐水
性、耐油性に優れ、汗や水に流れにくいなどの機能性に
よるところが大きい。
基剤に対する相溶性が著しく低い。
性基剤をさらに添加しなければならず、前述のシリコー
ン系基剤の有用性が十分に発揮できないという欠点があ
った。
う欠点があった。
公昭44−29866 、特開昭60−58991およ
び特開昭60−108431がみられる。
本骨格とするものであり、シリコーン油中ではUV−C
側に吸収極大波長を持ち、U VB吸収剤としては不十
分なものであった。(図3に3−ヒス(トリメチルシロ
キシ)メチルシリル−2−メチルプロピ)トシンナメー
トの UV吸収スペクトルを示す。UV−B吸収剤とし
ては、適切な波長領域を存していないことがわかる。)
免肚q且狗 かかる事情から、シリコーン油に溶解し、耐水および耐
油性に優れ、かつU V −B iJf域の波長を十分
に防御するUV−B吸収剤の開発が強く望まれていた。
述の性質を満足する化合物であることを見出し、本発明
を完成するに至った。なお本発明の目的は、UV−B吸
収効果が優れ、また、UV−B吸収剤を安定に配合しう
る皮膚外用剤を提供することにあり、さらには、外用剤
基剤にシリコーン系基剤を用いることにより、使用性に
優、れ、かつ任意のUV−B吸収効果を発揮しうる皮膚
外用剤を提供することにある。
あって、前記シロキサン類中に存在しうる他の単位が、
一般弐0.4〜m1zzsiR3,で表されるごとを特
徴とするシリコーン系桂皮酸誘導体を配合することを特
徴とする皮膚外用剤。
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−7’
チル、フェニル基、トリメチルシロキシ基等があげられ
るが、原料の入手しやすさ等の理由からメチル基または
その一部がフェニル基であること、又はトリメチルシロ
キシ基であることが好ましい。nは、R1の置換数を表
す。R2の例としては、例えば、 (2)外用剤基剤としてシリコーン系基剤を使用するこ
とを特徴とする請求項1記載の皮膚外用剤である。
表される単位と、一般式014−s)/2 S iR3
、で表される単位から構成されるものであり、CHz
(CH3)Z −C)I2CH2CH C1(3 CHzCHzCLCHz−−CH2CH20CH2CI
(2ヘキシレン、ンクロヘキシレン、デシレン基等があ
げられるが、炭素数2〜4のアルキレン基が好ましく、
さらにヒドロシリル化反応の副反応が比較的少ないこと
等から特に −Cl2CH,CHH3 が好ましい。
プロポキシ基等があげられる。いずれも、シリコーン系
基剤に対する溶解性かつUV−B吸収波長に顕著な差は
ないが、試薬の入手し易さ等から特にメトキシ基が好ま
しい。aは、Xの置換数を表す。
徴とするシロキサン単位においてR3は、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t
−ブチル、フェニル基、トリメチルシロキシ基等があげ
られるが、原料の入手しやすさ等の理由からメチル基ま
たはその一部がフェニル基であること、又はトリメチル
シロキシ基であることが好ましい。mは、R3の置換数
である。
中で、触媒の存在下に反応させることによって合成する
ことができる。
を常法により酸クロリドとした後、アミン存在下、オレ
フィン性不飽和結合を有する一価のアルコールと反応さ
せることによって得られるものである。反応溶媒として
は通常の有機溶媒が使用できるが、なかでもトルエン、
ベンゼンおよびキシレンなどの芳香族系を機溶媒が好ま
しく、反応温度は高温でおこなうが、なかでも還流温度
が良い。
は異なるが、少なくとも2個の炭素原子を有し、かつオ
レフィン性不飽和結合を有する一価の炭化水素基(複素
原子0を有するものを含む)である。例えば、直鎖の炭
化水素基として、CH,=CM−、CH2=C)ICl
3−、CIl□=CHCH2CH2、CH2”CHCH
zCHzCHzCH□:CHCH20CH2CH2−等
、分枝の炭化水素基としてCH2=CH−CH(Me)
−、CHz=CH−C(Me) z−。
)zCHz=CHCHzCH(Me) +、 CH2=
CHCH(Me)−CHz−+CHz=C(Me)CL
−等の末端に二重結合を有するものがある。
Me) zC=CH−。
−、MeCHzCH=CH−等の内部に二重結合を有す
るもの及びCH2・CH−CH=CHz−1CH,=C
(Me) CH=CHz−、MeCH=CH−CH=C
Hz−等の二重結合を2個有するものも挙げられるが、
エステル化反応とヒドロシリル化反応の反応の優位性及
びこれらのエステルより誘導されるシリコーン系桂皮酸
誘導体の安定性(光安定性を含む)等から末端に二重結
合を1個有するエステルが望ましい。
キサンとヒドロシリル化反応させることによって、本発
明のシリコーン系桂皮酸誘導体が得られるが、用いるシ
ロキサンは少なくとも1個の5i−Hを有する有機珪素
化合物であり、R’nS i O(3−n)/2単位お
よびR”、Si0.4−、.1)72単位を有するシロ
キサンとして表されるものである。例えば、(CIEt
O) 3SiH,(Me3SiO)JeS iH(Me
iS to) ss iH、(MeJS i )MeP
hS iH、(Me、 O5i)EtMeS iH、(
MezO5i)EtPhSiH、H(Me) 、S 1
O5i (Me) 、05 i (Me)2H等が挙げ
られるが、ヒドロシリル化反応の優位性、シラン、シロ
キサンの入手のしやすさ及びシリコーン系基剤に対する
溶解性などから1,1゜1.3,5,5.5−へブタメ
チルトリシロキサンが好ましい。しかし、本発明のシリ
コーン系桂皮酸誘導体が製造出来ればこれに限定される
ものではない。
でもトルエン、ベンゼンおよびキシレンなどの芳香族系
有機溶媒が好ましく反応温度は高温でおこなうが、なか
でも還流温度が良い。
ウム錯体(Wilkinson complex)、ル
テニウム錯体、白金錯体、塩化白金酸等を用いることが
出来るが、触媒の入手のしやすさ及び合成反応の操作上
の簡便性から塩化白金酸触媒が好ましい。
して、一般式(2)のエステル及び上記のシロキサン類
を種々選択することにより、低分子量のものから、高分
子量のものまで製造でき、性状は、室温において液状の
ものから樹脂状の固体のものまで含まれる。
するものであれば、何れでもよいが、ここで特に、シリ
コーン系基剤を用いると、伸びの良さ、さっばり怒、べ
とつかない等の使用感や優れた耐水性、耐油性、さらに
汗や水に流れにくいなどの機能が得られる。
、例えばジメチルポリシロキサン、メチルポリシロキサ
ン、メチルハイドロジエンポリシロキサン等の鎖状ポリ
シロキサン、デカメチルポリシロキサン、ドデカメチル
ポリシロキサン、テトラメチルテトラハイドロジエンポ
リシロキサンなどの環状ポリシロキサン、ポリエーテル
、脂肪酸変性ポリシロキサン、高級アルコール変性ポリ
シロキサン、アミノ変性ポリシロキサンが用いられる。
等の皮膚外用剤に用いられる他の成分、例えば油分、潤
滑剤、本発明以外の紫外線吸収剤、酸化防止剤、界面活
性剤、防腐剤、香料、水アルコール、増粘剤等を必要に
応じて適宜配合することができる。
のではなく、本発明に用いるシリコーン系桂皮酸誘導体
の特性と目的に応じ、化粧料、医薬部外品等に利用され
うるものである。
ー状、クリーム状、ペースト状、スチンク状、液状、ス
プレー状、ファンデーション等何れの剤型でもかまわず
、また、乳化剤を用いてW2O型及び0/W型に乳化し
ても良い。
般には0.1〜20%、好ましくは0.5〜10%であ
る。
例およびその物理化学的性質をあげて本発明をさらに詳
細に説明する。
化チオニル11m1をベンゼン80m1中で3時間還流
温度で攪拌し、酸クロリドとしたのち、脱溶媒後、7.
20gの1−ブテン−3−オールを含むトルエン80m
1を加え、反応系を水浴中で冷却し5.25gのトリエ
チルアミンを含むトルエン40m1をゆっくり添加し1
時間攪拌した。さらに、室温下で1日撹拌した。濾過し
、トルエン層を水で洗浄し水を除去後、トルエンをン容
媒としシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより3,
4.5−)リメトキシ桂皮酸エステル10.93g(7
4,6%)を得た。
5.77Hz)) 、 6 、36 (li(、d (
J16、14t(z)) 、 6.74 (2H,s)
、5.92 (111,m) 、 5.49 (IH
,m) 。
5.15(LH,d (J=10.64Hz) )
。
.60Hz))。
ン(1,1,1,3,5,5,5−Hepjameth
yltrisiloxane、以下MHMと略す) 2
.2270gをトルエン50m lに注ぎ、さらに0.
1Mの塩化白金酸イソプロピルアルコール溶液を2.3
滴添加し還流温度で5時間攪拌しヒドロシリル化反応を
おこなった。トルエンを溶媒とし、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより生成物を単離し、オイル状の本
発明のシリコーン系桂皮酸誘導体を、3.0880 g
(59,8%)得た。
メチj1プロピル ] −]3.4.5−トリメトキ
ンシンナメー トe GC−MS 阿゛ 514 NMR(CDC13)7.59(LH,d(J=16.
13Hz))、6.35(IHd(J15、77Hz)
) 、 6.75 (2H,s) 、 4.95 (I
H,q) 、3.86 (911,s) 。
=6.23Hz)) 、 0.54 (2H、m) 。
けるUVスペクトルを示した。
酸誘導体はUv−B波長領域に適切な吸収波長を有して
いることがGTI L’lされた。
リル化反応を行った。同様に精製し、生成物を3.15
70g (61,1%)を得た。
リル化反応をおこなった。同様に精製し生成物を3.5
240g (68,2%)得た。
ル11m1をベンゼン200m1中で2時間還流温度で
攪拌し、酸クロリドとしたのち、脱溶媒後、3.63g
の1−ブテン−3−オールを含むトルエン80m l
ヲ加え、反応系を水溶中で冷却し5.10gのトリエチ
ルアミンを含むトルエン40m1をゆっくり添加し1時
間攪拌した。さらに、室温で1日攪拌した。
を溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り3,4−ジメトキシ桂皮酸エステル6.886 g
(52,2%)を得た。
15.62)1z)) 、 6.32 (LH,d (
J=15.62Hz)) 、6.85(LH,d(J=
8.3011z) 、7.05(LH,s) 。
(IH,m)、 5.50(LH,m)。
5.16(IH,d (J=10.75Hz) )。
6.83Hz)) 。
M HM ) 2.2291 gをトルエン50m1に
注ぎ、さらに0.1 Mの塩化白金酸イソプロピルアル
コール溶液を2.3滴添加し還流温度で5時間攪拌しヒ
ドロシリル化反応を行った。トルエンを溶媒として、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより生成物を単離
し、オイル状の2.9157g (60,1%)のシリ
コーン系桂皮酸誘導体を得た。このものは下記の分析値
によって同定した。
メチルプロピル ] −]3.4−ジメトキシシンナ
メー トe GC−MS N ” 484HMR
(CDCI:+)7.63(IH,d(J=15.62
Hz))、6.32(1,H,d(15,62Hz))
6.85(IH,d(J=8.30Hz))、7.05
(LH,s)。
5(IH,q)、 3.90(6t(、s)。
=6.83Hz)) 、 0.54 (2H,m)0.
11(18H,s)、0.09(3H,s)図2に10
ppmの濃度(溶媒、エタノール)におけるUVスペク
トルを示した。
酸誘導体はUV−B波長領域に適切な吸収波長を有して
いることが確認された。
化チオニル22m1をベンゼン160m1中で4時間還
流温度で攪拌し、酸クロリドとした後、脱溶媒後、5.
8550gのアリルアルコールを含むトルエン160m
1を加え、反応系を水浴中で冷却し、10.111gの
トリエチルアミンを含むトルエン80m1をゆっくり添
加し12時間攪拌した。′6.過し、トルエン層を水で
洗浄し、水を除去後、トルエンを溶媒としシリカゲルク
ロマトグラフィーにより3,4.5−1−ジメトキシ桂
皮酸エステル20.3039g (72,0%)を得た
。融点67.0−68.2°Cの白色結晶であり、MS
(M”278)であった。
7 (MHM) 、4.4713gをヘンゼア100m
1ニ注ぎ、さらにHzP LCI bイソプロピルアル
コール溶液を数滴添加し還流温度で4時間攪拌し、ヒド
ロシリル化反応を行なった。トルエンを溶媒とし、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより生成物を単離し
、オイル状の本発明のシリコーン誘導体を2゜7846
g(27,6Z)得た。このものは下記の分析値によっ
て同定した。
ル l −3,4,5,−)リメトキンンンナシメー
ト GC−MS N” 500 HNMR(CDCI++)7.55(IH,d(J=1
6.12Hz))、6.31(LH,d(J=15.6
3t(z))、6.70(2H,s)、4.11(2H
,t)、 3.82(9H。
)、0.06 (18H、S ) 。
UVスペクトルは合成例2で得られた化合物のそれ(図
1)と殆ど変わらなかった。
H5i(O5iMe+)s5.500 gをベンゼン1
00m1に注ぎ、さらにH,PtC1、イソプロピルア
ルコール溶液を数滴添加し還流温度で4時間攪拌し、ヒ
ドロシリル化反応を行なった。トルエンを溶媒とし、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより生成物を単離
し、オイル状の本発明のシリコーン誘導体を2.077
g (20,1%)得た。このものは下記の分析値に
よって同定した。
] −3,4,5−)リメトキシシンナメート GC−MS 、単一成分 M” 574H−NMR(
CDC1,)7.61 (IH、d (J=15.87
)1z) ) 、 6.36 (LH、d(J=15.
87Hz))、6.77(2H,s)、4.17(2H
,t)、 3.90(9Hs)、1.74(2H,m
)、0.53(2H,t)、0.13(18)1.S)
。
)を標準とした。この誘導体のUVスペクトル(エタノ
ールloppm 濃度)合成例2で得られた化合物のそ
れ(図1)と殆ど変わらなかった。
化チオニル]、1mlをベンゼン80m1中で3時間還
流温度で攪拌し、酸クロリドとした後、脱溶媒後、3.
640 gの1−ブテン−4−オールを含むトルエン8
0m lを加え、反応系を水溶中で冷却し、5.340
gのトリエチルアミンを含むトルエン40m1をゆっ
くり添加し24時間撹拌した。濾過し、トルエン層を水
で洗浄し、水を除去後、トルエンを溶媒としシリカゲル
クロマトグラフィーにより3.4.5−)リメトキシ桂
皮酸エステル10.0342g (68,4%)を得た
。融点61.8−63.8°Cの白色結晶であり、qs
(M゛292)であった。
キサン(M HM ) 2.2289 gをベンゼン1
00m1に注ぎ、さらにH2PtCI 6イソプロビル
アルコール溶液を数滴添加し還流温度で2時間攪拌し、
ヒドロシリル化反応を行なった。トルエンを溶媒とし、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより生成物を単
離し、オイル状の本発明のシリコーン誘導体を3.14
88g (61,0%)得た。このものは下記の分析値
によって同定した。
ル] −3,4,5,−)リメトキシシンナメート H,S)、0.01(3H,s)。
度)は合成例2で得られた化合物のそれ(図1)と殆ど
変わらなかった。
3を用い、ヒドロシリル化反応を行なった。シリカゲル
カラムクロマトグラフィーによりオイル状の本発明のシ
リコーンF5i 4体を得た。このものは下記の分析値
によって同定した。
−3,4,5−)リメトキソシンナメート GC−MS N”514 H−NMR(CDCI 3 )7.59 (LH、d
(J= 15.62t(z))、 6.35 (IH、
d(J=16.11Hz))、6.74(2H,s)、
4.21(2H,t)、 3.87(9H。
m)、0.51(211,m) 、0.10(18GC
−MS M’ 588 ’HNMR(CDCI3)7.59(LH,d(J=1
5.62Hz))、6.35(II、d(J=16.1
1Hz))、6.74(28,s)、4.21(2H,
t)、 3.87(9H。
0.51(2H,m) 、0.10(27H,S)。
度)合成例2で得られた化合物のそれ(図1)と殆ど変
わらなかった。
(O5iMez)zを用いヒドロシリル化反応を行なっ
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーによりオイル
状の本発明のシリコーン誘導体を得た。このものは下記
の分析値によって同定した。
ルブ■ビル ] −]3.4−ジメトキシシンナメー ト GC−MS N”558 ’ H−NMR(CDCI i)7.63 (LH,d
(J= 15.62Hz) ) 、 6.32 (I
H、d(J=15.62Hz))、6.85(IH,d
(J=8.30 Hz))、 7.05(IH。
4.95((IH,q)、3.90(6H,s) 、
1.65(2H,m) 、 1.29(3H,d (J
=6.83 Hz) )。
度)は合成例6で得られた化合物のそれ(図2)と殆ど
変わらなかった。
チオニル22m1をベンゼン700m I中で2時間還
流温度で撹拌し、酸クロリドとした後、脱溶媒後、10
.332gのエチレングリコールモノアリルエーテル(
CL=Ct(CHzOCIIzCHzOH)を含むトル
エン160m1を加え、反応系を水浴中で冷却し、lO
,233gのトリエチルアミンを含むトルエン80m1
をゆっくり添加し24時間攪拌した。濾過し、トルエン
層を水で洗浄し、水を除去後、トルエンを溶媒としシリ
カゲルクロマトグラフィーにより3,4.5−)リメト
キシ桂皮酸エステル23.189g (71,7%)を
得た。
15.63Hz))、6.39(LH,d(J=16.
12Hz) ) 、 6.76(2H,s) 、5.9
2(E 、m) 、5.31 (LH,d(J=17.
09 Hz))、5.21(LH,d(J=10.74
Hz))、4.37(2H,t)。
8(9t(、s)、3.72(2H,t)。
シロキサンMHM(2,2896g )でトルエン?容
媒中(50ml) 2時間還流しヒドロシリル化反応を
行なった。
本発明のシリコーンHM 導体を3.9251 g(7
1,8%)得た。このものは下記の分析値によって同定
した。
度)合成例2で得られた化合物のそれ(図1)と殆ど変
わらなかった。
.13.15で得られたシリコーン系桂皮酸誘導体(ジ
メトキシ、トリメトキシ置換体)のシリコーン基剤に対
する溶解性については、25゛Cにおいて、ジメチルポ
リシロキサン、メチルフェニルポリシロキサンに対する
溶解性試験を行なった。いずれにおいても、10重量%
以上溶解し、優れた溶解性を示した。
た。
ル、流動パラフィン等の油に、本発明のシリコーン系桂
皮酸誘導体(ジメトキシ、トリメトキシ置換体)を攪拌
混合し、50″Cに60日間放置し、加水分解等が起こ
らないことから耐水性、耐油性が優れていることを確認
した。
その電子スペクトルが10〜20nm程シフトすること
がある。例えばN、N−ジメチル2−エチルへキシルシ
ンナメートはエタノール中とジメチルポリシロキサン中
では10nmシフトする。紫外線吸収剤は溶媒依存性が
少ないことが要求されている。
い。
する安定性が要求される。
性、光惑作性及び光毒性等の安全性では全く問題がなく
、熱(加水分解を含む)対する安定性も良好である。光
に対する安定性では通常の太陽光線照射では全く安定で
あり、超高圧水銀灯照射で初めて光異性化(トランス−
シス)反応を起こすが、U V −B pJf域には吸
収が認められており、優れた紫外線吸収剤といえる。
ルシクロペンタシロキサン 48.0%■ジメチルポ
リシロキサン(l0cs/25°C)20.0■メチル
フエニルポリシロキサン (20C5/25°C) 20.0■シリコーン
樹脂 10.0■シリコ一ン系
桂皮酸誘導体11 2.01) Me (製法)■〜■を混合し、十分に溶解した後濾過して製
品とする 比較例1 実施例1の処方中、■を除く以外は実施例1同様の方法
で製品を得た。
タメチルシクロテトラシロキサン 28.0%■ジメチ
ルポリシロキサン 5.0(100C5
/25°C) ■ジメチルポリシロキサン (2,500,0OOC5/25°C) 3.0■
流動パラフイン 5・0■シリコ
一ン系桂皮酸誘導体2) 1.5■ポリエ
ーテル変性シリコーン 6.0(400C5
/25°C) (ポリオキシエチレン基含量 20重量%)■精製水
43.1■L−グルタミ
ン酸ナトリウム 3.0■1.3−ブチレン
グリコール 5.0[相]防腐剤
0.20香料
0.2(製法)■〜■、■を混合し
、加熱溶解して70″Cに保ち油相部とする。別に■〜
■を加熱溶解して70°Cに保ち水相部とする。この油
田部に水相部を添加して乳化機により十分に乳化する。
ら容器に流し込み放冷して固める。
製品を得た。
メチルシクロペンタシロキサン 9.0%■流動パ
ラフィン 3.0■イソプロピ
ルミリステート 2.0■ワセリン
5.0■セタノール
5.0■ステアリン酸
3.0■グリセリルモノイソ
ステアレート ■シリコーン系桂皮酸誘導体3) ■防腐剤 [相]香料 ■グリセリン @プロピレングリコール ■ヒアルロン酸 ■水酸化カリウム ■精製水 3.0 1.0 0.2 0.2 10.0 5.0 0.01 0.2 53.39 (以下余白) 阿e (製法)■〜■を70°Cで加熱撹拌して油相部とする
。0〜[相]を70°Cに加熱し完全溶解した後水相部
とする。油相部を水相部に添加し乳化機にて乳化する。
製品を得る。
て製品を得た。
0.0%■メチルフェニルポリシロキサン (20C5/25°C) 7.0 ■ステアリン酸 1.0■
シリコ一ン系桂皮酸誘導体4ゝ 1o、0■防
腐剤 ■香料 ■グリセリン ■モンモリロナイト ■水酸化カリウム [相]端製氷 ” Me 0.2 0.2 5.0 0.5 0.2 65.9 (製法)■〜■を70°Cで加熱攪拌して油相部とする
。■〜[相]を70°Cに加熱溶解し水相部とする。油
相部を水相部中に添加し、乳化機にて乳化する。
焼は止めローションを得る。
て製品を得た。
〜4について紫外線防止効果の測定を行った。
用いて行った。
報に記載0紫外線感受性組成物を用いて行った。以下に
紫外線感受性組成物の製法を述べる。
ジメチルスルフォン0.1g、エチレン−酢酸ビニル共
重合体10g、トルエン 100m1からなる液を調製
しI液とする。これとは別に、N、 Nジメチルバラ
アミノ安息香酸−2−エチルへキシルエステル7g1エ
チレン−酢酸ビニル共重合体Log、 )ルエン 1
00m1からなる液を調整し、■液とする。
なるように塗布し乾燥後、其の上に■液を固形分で5g
/rdのなるように塗布して紫外線感受性組成物を得る
。
てその紫外線照射線量の増加に従って白色→淡紫色→紫
色→濃紫色へと呈色する紙である。
、ローラー処理を行ない均一に分散する。直径5cmの
円形の上記紫外線感受性組成物の上に透明PETフィル
ムを乗せ其の上にこれの 1.5 gを均一の厚さにな
るように塗布し、紫外線ランプを8分間照射しPETフ
ィルムをサンプルごと除去し呈色した紫外線感受性組成
物を、日立607分光光度計を用い、紫外線照射量が零
の時の紫外線感受性組成物の色を基準にしてLAB座標
系で色差を計算した。
比較例の色差よりも小さく紫外線防止効果が高くなって
いることがわかる。すなわち、本発明のシリコーン系桂
皮酸誘導体を配合することにより優れた紫外線防止効果
が得られることがわかる。
ン処理酸化チタン 9.5%■シリコーン処
理マイカ 40,0■シリコーン処理タ
ルク 20.45■シリコーン処理酸化
鉄 7.5■球状ナイロンパウダー
10.0■トリメチロールプロパン
5.0トリイソステアレート ■スクワラン 3・0■ピー
スワツクス 2.0■シリコ一
ン系桂皮酸誘導体5) 0.5■ソルビタン
トリオレート 1.0■防腐剤
0.50ビタミンE
O,05■香料 e 0.5 (製法)■〜■をヘンシェルミキサーで混合し、これに
■〜@を加熱溶解混合したものを添加混合した後粉砕し
、これを中皿に成型し日焼は止め両用ファンデーション
を得た。
が良く、紫外線防止効果が持続するものであった。
■酸化亜鉛 7.0■マイ
カ 16.。
色酸化鉄 1.5■黒色酸
化鉄 1.0■ジメチルポ
リシロキサ7 (20C5/25°C)29.4■トリ
メチロールプロパン トリー2−エチルヘキサノエート ■流動パラフィン [相]マイクロウリスタリンワンクス ■セレシン @固形パラフィン ■シリコーン系桂皮酸誘導体6) ■香料 ■酸化防止剤 ■ソルビタンセスキオレート 6) Me 10.0 ■0.0 2.0 1.0 6.0 3.0 0.5 0.1 1.0 (?!法)■〜■をヘンシェルミキサーで混合し、■〜
■■■[相]を加熱攪拌溶解したものに加え、混合する
。次に[相]〜@0を溶融したものを上記混合物に添加
し、十分混合した後、スチツク状に成型し、日焼は止め
スチソク化粧料を得た。
に優れるものであった。
リルトリイソステアレート ■アイソパー(登録商標)G ■ソルビタンセスキオレート ■ポリオキシエチレン変性 オルガノポリシロキサン ■精製水 ■1.3−ブチレングリコール ■微粒子酸化チタン ■シリコーン系桂皮酸誘導体7) [相]防腐剤 ■酸化防止剤 ■香料 ” Me 19.0% 10.0 5.0 1゜0 3.0 45.0 5.0 10.0 2.0 適量 適量 適量 (製法)■〜■■0@を70°Cで撹拌溶解し、これに
あらかじめ70°Cに加熱した■〜■[相]を添加し、
乳化分散後冷却して目的の日焼は止め化粧下地を得た。
こ優れるものであった。
■酸化亜鉛 7.0■マ
イカ 16,0■赤
色酸化鉄 1.5■黄色酸
化鉄 1.5■黒色酸化鉄
1.0■ジメチルポリシ
ロキサン(20C5/25 ”C) 29.4■トリ
メチロールプロパン 10.0トリー2
−エチルヘキサノエート ■流動パラフィン 10.0[
相]マイクロクリスタリンワックス 2.00
セレシン 1.0@固形
パラフイン 6.0@シリコ一
ン系桂皮酸誘導体!l) 3.Q■香料 ■酸化防止剤 [相]ソルビタンセスキオレート ” O5+Me、。
■0■を加熱攪拌溶解したものに加え、混合する。次に
[相]〜@0を溶融したものを上記混合物に添加し、十
分混合した後、スチソク状に成型し、日焼は止めスチッ
ク化粧料を得た。
且つ、化粧持ちに優れるものであった。
%■グリセリルトリイソステアレート 10.0■
アイソパー(登録商標) G 5.0■
ソルビタンセスキオレート 1.0■ポリ
オキシエチレン変性 3.0オルガノポ
リシロキサン ■精製水 ■1.3−ブチレングリコール ■微粒子酸化チタン ■シリコーン系桂皮酸誘導体9) [相]防腐剤 ■酸化防止剤 ■香料 ” O5iMe。
あらかじめ70’Cに加熱した■〜■[相]を添加し、
乳化分散後冷却して目的の日焼は止め化粧下地を得た。
且つ化粧持ちに優れるものであった。
に防御するものである。また本発明に用いるUV−B吸
収剤は、耐水性および耐油性にも優れているので、基剤
や他の配合成分を自由に選べる皮膚外用剤を提供するこ
とができると同時に、日焼上化粧料などとして炎天下な
どの過酷な条件下に放置した場合においても安定性に優
れているという利点を有する。請求項2記載の皮膚外用
剤はシリコーン系基剤を用いているので上記効果の他に
、伸びが良(、さっばり感があり、べとつかない等の極
めて優れた使用性、且つ汗や水に流れにくいという利点
(化粧持ちの良さ)をもち、さらにUV−B吸収剤を任
意量配合できるので自由に意図する紫外線防止効果を有
する皮膚外用剤を提供すると言う効果を有する。
体の10ppmの濃度(溶媒、エタノール)におけるU
Vスペクトルを示す。 図2は、合成例6より得られたシリコーン系桂皮酸誘導
体の10ppmの濃度(溶媒、エタノール)におけるU
Vスペクトルを示す。 図3は既知化合物である無置換のシリコーンのlop
p mの濃度(溶媒、エタノール)におけるUVスペク
トルを示す。 特許出願人 株式会社 資 生 堂 WAVELENGTH(nm) WAVELENGTH(nm) WAVELENGTH(nm)
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表わされる単位を少なくとも1個もつシロキサン類で
あって、前記シロキサン類中に存在しうる他の単位が、
一般式O_(_4_−_m_)_/_2SiR^3mで
表されることを特徴とするシリコーン系桂皮酸誘導体を
配合することを特徴とする皮膚外用剤。 [前記一般式においてR^1は炭素数1〜4のアルキル
基又はフェニル基又はトリメチルシロキシ基、R^2は
少なくとも2個の炭素原子を有する二価の炭化水素基(
複素原子Oを有するものを含む)、Xはアルコキシ基、
nは0〜3の整数、aは2または3の整数、R^3は炭
素数1〜4のアルキル基またはフェニル基又はトリメチ
ルシロキシ基、mは0〜3の整数を表す。] - (2)外用剤基剤としてシリコーン系基剤を使用するこ
とを特徴とする請求項1記載の皮膚外用剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18150088 | 1988-07-22 | ||
| JP63-181500 | 1988-07-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02117613A true JPH02117613A (ja) | 1990-05-02 |
| JP2860305B2 JP2860305B2 (ja) | 1999-02-24 |
Family
ID=16101846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17480089A Expired - Lifetime JP2860305B2 (ja) | 1988-07-22 | 1989-07-06 | 皮膚外用剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2860305B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05202071A (ja) * | 1991-05-16 | 1993-08-10 | Wacker Chemie Gmbh | (メタ)アクリルオキシ基含有有機ケイ素化合物、その製法、光照射により架橋可能な組成物及び被覆の製法 |
| US6080880A (en) * | 1997-11-28 | 2000-06-27 | Societe L'oreal S.A. | Silicone-substituted cinnamamide/malonamide/malonate compounds and photoprotective compositions comprised thereof |
| JP2006225358A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Shiseido Co Ltd | シロキサンエステル化合物、皮膚外用剤油分又は毛髪化粧料油分及びこれを配合した皮膚外用剤又は毛髪化粧料 |
| KR100684367B1 (ko) * | 2005-03-23 | 2007-02-20 | 주식회사 사임당화장품 | 자외선차단 폴리실세스퀴옥산 구형 입자를 함유하는 화장료조성물 |
| WO2025069235A1 (ja) * | 2023-09-27 | 2025-04-03 | 株式会社ニコン | 化合物、感光性表面処理剤、積層体の製造方法及びトランジスタの製造方法 |
-
1989
- 1989-07-06 JP JP17480089A patent/JP2860305B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05202071A (ja) * | 1991-05-16 | 1993-08-10 | Wacker Chemie Gmbh | (メタ)アクリルオキシ基含有有機ケイ素化合物、その製法、光照射により架橋可能な組成物及び被覆の製法 |
| US6080880A (en) * | 1997-11-28 | 2000-06-27 | Societe L'oreal S.A. | Silicone-substituted cinnamamide/malonamide/malonate compounds and photoprotective compositions comprised thereof |
| JP2006225358A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Shiseido Co Ltd | シロキサンエステル化合物、皮膚外用剤油分又は毛髪化粧料油分及びこれを配合した皮膚外用剤又は毛髪化粧料 |
| KR100684367B1 (ko) * | 2005-03-23 | 2007-02-20 | 주식회사 사임당화장품 | 자외선차단 폴리실세스퀴옥산 구형 입자를 함유하는 화장료조성물 |
| WO2025069235A1 (ja) * | 2023-09-27 | 2025-04-03 | 株式会社ニコン | 化合物、感光性表面処理剤、積層体の製造方法及びトランジスタの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2860305B2 (ja) | 1999-02-24 |
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