JPH03220153A - ベンゾイルピナコロン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 - Google Patents
ベンゾイルピナコロン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料Info
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- JPH03220153A JPH03220153A JP1219690A JP1219690A JPH03220153A JP H03220153 A JPH03220153 A JP H03220153A JP 1219690 A JP1219690 A JP 1219690A JP 1219690 A JP1219690 A JP 1219690A JP H03220153 A JPH03220153 A JP H03220153A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、紫外線吸収作用を有し、かつ卓越した光安定
性を有する新規なベンゾイルビナコロン誘導体、及びそ
れを含有し、日焼は防止効果の優れた紫外線吸収剤及び
化粧料に関する。
性を有する新規なベンゾイルビナコロン誘導体、及びそ
れを含有し、日焼は防止効果の優れた紫外線吸収剤及び
化粧料に関する。
紫外線はさまざまな変化を皮膚にもたらすことが知られ
ている。皮膚科学的には作用波長を、４００〜３２０
ｎｍの長波長紫外線、３２０〜２９０、ｎｍの中波長紫
外線及び２９０ ｎｍ以下の短波長紫外線に分け、それ
ぞれＩＩＶ−Ａ、 ｔｌＶ−８及びＵＶ−Ｃと呼んでい
る。太陽光線中の紫外線はＩＩＶ−Ａ及びＵＶ−８であ
り、ＵＶ−Ｃはオゾン層において吸収され地上にはほと
んど達しない。
ている。皮膚科学的には作用波長を、４００〜３２０
ｎｍの長波長紫外線、３２０〜２９０、ｎｍの中波長紫
外線及び２９０ ｎｍ以下の短波長紫外線に分け、それ
ぞれＩＩＶ−Ａ、 ｔｌＶ−８及びＵＶ−Ｃと呼んでい
る。太陽光線中の紫外線はＩＩＶ−Ａ及びＵＶ−８であ
り、ＵＶ−Ｃはオゾン層において吸収され地上にはほと
んど達しない。
ｔｌＶ−８はある一定以上の光量が皮膚に照射されると
紅斑や水痘を形成し、またメラニン形成を冗進し、色素
沈着を生ずる等の変化を皮膚にもたらす。
紅斑や水痘を形成し、またメラニン形成を冗進し、色素
沈着を生ずる等の変化を皮膚にもたらす。
これに対しＵＶ−Ａは照射直後に皮膚を黒化させる作用
（即時黒化）を引き起こし、またそのエネルギーは真皮
にまで到達するため、血管壁や結合組織中の弾性線維に
変化をもたらす。このようなＵＶ−Ａ及びＵＶ−８の両
方の作用は、皮膚の老化を促進し、しみ、しわ、ソバカ
スなどの一因子になっていると考えられている。
（即時黒化）を引き起こし、またそのエネルギーは真皮
にまで到達するため、血管壁や結合組織中の弾性線維に
変化をもたらす。このようなＵＶ−Ａ及びＵＶ−８の両
方の作用は、皮膚の老化を促進し、しみ、しわ、ソバカ
スなどの一因子になっていると考えられている。
この様に紫外線のヒトの皮膚に及ぼす影響が明らかにな
るに従い、ＩＩＶ−Ａ及びＵＶ−８を吸収する化合物の
開発が行われるようになって来た。こうした紫外線吸収
剤は次の条件をすべて満足することが望ましいとされて
いる。
るに従い、ＩＩＶ−Ａ及びＵＶ−８を吸収する化合物の
開発が行われるようになって来た。こうした紫外線吸収
剤は次の条件をすべて満足することが望ましいとされて
いる。
■ ＵＶ−Ｂ又はＵＶ−Ａの光を可能な限り完全に吸収
すること。
すること。
■ 光や熱に対して安定であること。
■ 皮膚に対する毒性、刺激性、更に他の有害作用がな
いこと。
いこと。
■ 効果が持続すること。
■ 化粧品基剤との相溶性に優れていること。
従来、Ｕｖ−＾吸収剤としては例えばジベンゾイルメタ
ン誘導体が、ｔｌＶ−８１１１収剤としては例えば桂皮
酸エステル、ベンゾフェノン、ｐ−アミノ安息香酸、サ
リチル酸等の誘導体が用いられている。
ン誘導体が、ｔｌＶ−８１１１収剤としては例えば桂皮
酸エステル、ベンゾフェノン、ｐ−アミノ安息香酸、サ
リチル酸等の誘導体が用いられている。
しかし、これら従来の紫外線吸収剤は必ずしも上記の条
件を充分満足するものではなく、特に光に対する安定性
は不充分であり、紫外線による分解や反応が起こる事が
知られている［Ｉｎｔ、Ｊ。
件を充分満足するものではなく、特に光に対する安定性
は不充分であり、紫外線による分解や反応が起こる事が
知られている［Ｉｎｔ、Ｊ。
Ｃｏｓｍｅｔｉｃ ５ｃｉｅｎｃｅ、 １０．５３（１
９８Ｂ）） ｏこつした紫外線吸収剤の分解は、効果の
持続の低下を招くのみならず、分解物自身あるいは配合
物との反応によって生成した生成物の皮膚への影響も無
視できない〔フレグランス ジャーナル、 ８４．３４
（１９８７） ］。
９８Ｂ）） ｏこつした紫外線吸収剤の分解は、効果の
持続の低下を招くのみならず、分解物自身あるいは配合
物との反応によって生成した生成物の皮膚への影響も無
視できない〔フレグランス ジャーナル、 ８４．３４
（１９８７） ］。
従って、前記条件を満足する紫外線吸収剤、特に光に対
する安定性に優れた紫外線吸収剤が望まれていた。
する安定性に優れた紫外線吸収剤が望まれていた。
斯かる実情に鑑み、本発明者らは数多くのベンゾイルケ
トン誘導体を合成し、その性質を検討してきたところ、
後記一般式（Ｉ）で表わされるベンゾイルビナコロン誘
導体が優れたｕｖ−八及びＵＶ−８吸収作用を有し、か
つ光に対して極めて安定であること、更にこれを配合す
れば優れた日焼は防止効果を有する化粧料が得られるこ
とを見出し、本発明を完成した。
トン誘導体を合成し、その性質を検討してきたところ、
後記一般式（Ｉ）で表わされるベンゾイルビナコロン誘
導体が優れたｕｖ−八及びＵＶ−８吸収作用を有し、か
つ光に対して極めて安定であること、更にこれを配合す
れば優れた日焼は防止効果を有する化粧料が得られるこ
とを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は次の一般式（１）
（）
〔式中、Ｒは水酸基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭
素数１〜８のアルケニルオキシ基若しくは（ポリオキシ
アルキレン）オキシ基を示し、又は２個のＲでα−メチ
レンジオキシ基を形成してもよく、ｎは１〜３の整数を
示す〕 で表わされるベンゾイルビナコロン誘導体を含有するこ
とを特徴とする紫外線吸収剤並びに該紫外線吸収剤を含
有することを特徴とする化粧料を提供するものである。
素数１〜８のアルケニルオキシ基若しくは（ポリオキシ
アルキレン）オキシ基を示し、又は２個のＲでα−メチ
レンジオキシ基を形成してもよく、ｎは１〜３の整数を
示す〕 で表わされるベンゾイルビナコロン誘導体を含有するこ
とを特徴とする紫外線吸収剤並びに該紫外線吸収剤を含
有することを特徴とする化粧料を提供するものである。
また、一般式（Ｉ）の化合物のうち、下記一般式（Ｉ）
′で表わされる化合物は新規である。従って、本発明は
次の一般式（Ｉ）′ （Ｒ）。
′で表わされる化合物は新規である。従って、本発明は
次の一般式（Ｉ）′ （Ｒ）。
〔式中、Ｒは水酸基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭
素数１〜８のアルケニルオキシ基若しくは（ポリオキシ
アルキレン）オキシ基を示し、又は２個のＲでα−メチ
レンジオキシ基を形成してもよく、ｎは１〜３の整数を
示す（但し、ｎ＝１で基ＣＨ３０−がベンゼン核上の２
位又は３位に結合している場合、及び口＝１で水酸基が
ベンゼン核上の２位に結合している場合を除＜）〕 で表わされるベンゾイルビナコロン誘導体をも提供する
ものである。
素数１〜８のアルケニルオキシ基若しくは（ポリオキシ
アルキレン）オキシ基を示し、又は２個のＲでα−メチ
レンジオキシ基を形成してもよく、ｎは１〜３の整数を
示す（但し、ｎ＝１で基ＣＨ３０−がベンゼン核上の２
位又は３位に結合している場合、及び口＝１で水酸基が
ベンゼン核上の２位に結合している場合を除＜）〕 で表わされるベンゾイルビナコロン誘導体をも提供する
ものである。
上記一般式（Ｉ）及び（Ｉ）′中、Ｒで示される炭素数
１〜８のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ
−ブトキシ基等が挙げられ：炭素数１〜８のアルケニル
オキシ基としては、例えばアリルオキシ基、ブテニルオ
キシ基、ペンテニルオキシ基、ヘキセニルオキシ基等が
挙げられ； （ポリオキシアルキレン）オキシ基として
は、例えばメトキシメトキシ基、メトキシエトキシメト
キシ基等が挙げられる。
１〜８のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ
−ブトキシ基等が挙げられ：炭素数１〜８のアルケニル
オキシ基としては、例えばアリルオキシ基、ブテニルオ
キシ基、ペンテニルオキシ基、ヘキセニルオキシ基等が
挙げられ； （ポリオキシアルキレン）オキシ基として
は、例えばメトキシメトキシ基、メトキシエトキシメト
キシ基等が挙げられる。
また、２個のＲでα−メチレンジオキシ基を形成するこ
ともできる。
ともできる。
これらのＲのうち、特に炭素数１〜３アルコキシ基又は
アルケニルオキシ基が好ましく、その具体例としては、
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、アリ
ルオキシ基が挙げられる。
アルケニルオキシ基が好ましく、その具体例としては、
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、アリ
ルオキシ基が挙げられる。
また、ｎは１〜３の整数であるが、２又は３が好ましい
。
。
本発明のベンゾイルビナコロン誘導体（１）は、例えば
公知の方法（Ｊ、 Ａｍ、 ［：ｈｅｍ、 Ｓｏｃ、、
８０゜４８９１（１９５８）； Ｊ、 Ｃｈｒｏｍａ
ｔｏｇｒ、、 ３１２．１０９（１９８４＞：Ｊ、 Ｐ
ａｌ）ｍ、 Ｓｃｉ、Ｐｏｌｙｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｂｄ
９．２０．３０７９（１９８２） ］に従い、次に示す
（ａ）又は（ｂ）の方法によって製造することができる
。
公知の方法（Ｊ、 Ａｍ、 ［：ｈｅｍ、 Ｓｏｃ、、
８０゜４８９１（１９５８）； Ｊ、 Ｃｈｒｏｍａ
ｔｏｇｒ、、 ３１２．１０９（１９８４＞：Ｊ、 Ｐ
ａｌ）ｍ、 Ｓｃｉ、Ｐｏｌｙｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｂｄ
９．２０．３０７９（１９８２） ］に従い、次に示す
（ａ）又は（ｂ）の方法によって製造することができる
。
〔式中、Ｒ１はメチル基、エチル基又はｎ−プロピル基
又はｎ−ブチル基を示し、Ｒ及びｎは前記と同じものを
示す］ すなわち、ベンゾエート（ＩＩ）とビナコロン（Ｉ［ｌ
）とを縮合させることによりベンゾビナコロン誘導体（
Ｉ）が製造される。（ａ）法の反応は無水テトラヒドロ
フラン、トルエン、キシレン等の溶媒中、塩基を触媒と
して用い、２０〜１５０℃で数十分〜１０時間行うのが
好ましい。ここで用いられる塩基としては水素化ナトリ
ウムなどの金属水素化物；ブチルリチウムなどの金属ア
ルキル化物；トリエチルアミンなどのアミン類；ナトリ
ウムアミドなどの金属アミド類；ナトリウムメトキシド
のような金属アルコキシド化合物などが挙げられる。
又はｎ−ブチル基を示し、Ｒ及びｎは前記と同じものを
示す］ すなわち、ベンゾエート（ＩＩ）とビナコロン（Ｉ［ｌ
）とを縮合させることによりベンゾビナコロン誘導体（
Ｉ）が製造される。（ａ）法の反応は無水テトラヒドロ
フラン、トルエン、キシレン等の溶媒中、塩基を触媒と
して用い、２０〜１５０℃で数十分〜１０時間行うのが
好ましい。ここで用いられる塩基としては水素化ナトリ
ウムなどの金属水素化物；ブチルリチウムなどの金属ア
ルキル化物；トリエチルアミンなどのアミン類；ナトリ
ウムアミドなどの金属アミド類；ナトリウムメトキシド
のような金属アルコキシド化合物などが挙げられる。
〔式中、Ｒ，Ｒ，及びｎは前記と同じものを示す〕すな
わち、アセチルベンゼン誘導体（ｒＶ）とエステル（Ｖ
）を縮合させることにより、ベンゾイルビナコロン誘導
体（Ｉ）が製造される。この反応に用いられるエステル
（Ｖ）としては、ピバリン酸メチル、ピバリン酸エチル
、ピバリン酸プロピル、ピバリン酸ブチル等が挙げられ
る。（ｂ）法の反応は前記（ａ）法と同様の条件下で行
われる。
わち、アセチルベンゼン誘導体（ｒＶ）とエステル（Ｖ
）を縮合させることにより、ベンゾイルビナコロン誘導
体（Ｉ）が製造される。この反応に用いられるエステル
（Ｖ）としては、ピバリン酸メチル、ピバリン酸エチル
、ピバリン酸プロピル、ピバリン酸ブチル等が挙げられ
る。（ｂ）法の反応は前記（ａ）法と同様の条件下で行
われる。
かくして得られるベンゾイルビナコロン誘導体（１）を
含有する本発明紫外線吸収剤は、これらのベンゾイルビ
ナコロン誘導体（１）の１種あるいは２種以上をそのま
ま使用してもよいが、担体に加えて混和せしめた形態の
ものが好ましい。担体は上記ベンゾイルビナコロン誘導
体（Ｉ）に対して不活性なものであればよく、固体、液
体、乳剤、泡状体、ゲル等のいずれであってもよい。そ
の代表的なものとしては、例えば水、アルコール、油脂
（例えば炭化水素オイル、脂肪酸エステノペ長鎮アルコ
ール、シリコーン油）、澱粉又はタルク等の微粉末、エ
アゾール噴射剤として使用される低沸点炭化水素又はハ
ロゲン化炭素水素等が挙げられる。本発明の紫外線吸収
剤には、更に本発明ベンゾイルビナコロン誘導体（１）
の紫外線吸収作用を損わない限りにおいて、他の成分、
例えば防腐剤、香料、着色料、界面活性剤等を添加配合
することができる。
含有する本発明紫外線吸収剤は、これらのベンゾイルビ
ナコロン誘導体（１）の１種あるいは２種以上をそのま
ま使用してもよいが、担体に加えて混和せしめた形態の
ものが好ましい。担体は上記ベンゾイルビナコロン誘導
体（Ｉ）に対して不活性なものであればよく、固体、液
体、乳剤、泡状体、ゲル等のいずれであってもよい。そ
の代表的なものとしては、例えば水、アルコール、油脂
（例えば炭化水素オイル、脂肪酸エステノペ長鎮アルコ
ール、シリコーン油）、澱粉又はタルク等の微粉末、エ
アゾール噴射剤として使用される低沸点炭化水素又はハ
ロゲン化炭素水素等が挙げられる。本発明の紫外線吸収
剤には、更に本発明ベンゾイルビナコロン誘導体（１）
の紫外線吸収作用を損わない限りにおいて、他の成分、
例えば防腐剤、香料、着色料、界面活性剤等を添加配合
することができる。
ベンゾイルビナコロン誘導体（１）を含有する化粧料（
以下、「本発明化粧料」と称する）は、その化粧料基剤
に対して親和性を有するベンゾイルビナコロン誘導体（
Ｉ）の１種又は２種以上を適宜選択し、これを常法によ
り公知の化粧料基剤に配合し、クリーム、溶液、油剤、
スプレー、スティック、乳液、ファンデーション、軟膏
等の剤型にすることにより調製される。
以下、「本発明化粧料」と称する）は、その化粧料基剤
に対して親和性を有するベンゾイルビナコロン誘導体（
Ｉ）の１種又は２種以上を適宜選択し、これを常法によ
り公知の化粧料基剤に配合し、クリーム、溶液、油剤、
スプレー、スティック、乳液、ファンデーション、軟膏
等の剤型にすることにより調製される。
すなわち、ベンゾイルビナコロン誘導体（１）を化粧料
基剤に合わせて選択使用することにより、オイル基剤の
化粧油、多量にオイルを配合する油性クリームや油性乳
液、水を多量に配合する弱油性クリームや弱油性乳液、
水ベースの化粧水等の基礎化粧品から油剤を基剤とする
ファンデーションやリップスティック等のメイクアップ
化粧料に至るまで、Ｕｖ吸収作用を有するあらゆる形態
の化粧品を製造することができる。これに適した基剤及
び溶剤としては、固体状あるいは液状パラフィン、クリ
スタルオイル、セレシン、オシケライト又はモンタンろ
うなどの炭化水素類；オリーブ、地ろう、カルナウバろ
う、ラノリン又は鯨ろうなどの植物油もしくは動物性油
脂やろう；更にステアリン酸、パルミチン酸、オレイン
酸、グリセリン千ノステアリン酸エステル、グリセリン
ジステアリン酸エステル、グリセリンモノオレイン酸エ
ステル、イソプロピルミリスチン酸エステル、イソプロ
ピルステアリン酸エステル又はブチルステアリン酸エス
テル等の脂肪酸及びそのエステル類；エチルアルコール
、イソプロピルアルコール、七チルアルコール、ステア
リルアルコール、バルミチルアルコール又はヘキシルド
デシルアルコール等のアルコール類などが挙げられる。
基剤に合わせて選択使用することにより、オイル基剤の
化粧油、多量にオイルを配合する油性クリームや油性乳
液、水を多量に配合する弱油性クリームや弱油性乳液、
水ベースの化粧水等の基礎化粧品から油剤を基剤とする
ファンデーションやリップスティック等のメイクアップ
化粧料に至るまで、Ｕｖ吸収作用を有するあらゆる形態
の化粧品を製造することができる。これに適した基剤及
び溶剤としては、固体状あるいは液状パラフィン、クリ
スタルオイル、セレシン、オシケライト又はモンタンろ
うなどの炭化水素類；オリーブ、地ろう、カルナウバろ
う、ラノリン又は鯨ろうなどの植物油もしくは動物性油
脂やろう；更にステアリン酸、パルミチン酸、オレイン
酸、グリセリン千ノステアリン酸エステル、グリセリン
ジステアリン酸エステル、グリセリンモノオレイン酸エ
ステル、イソプロピルミリスチン酸エステル、イソプロ
ピルステアリン酸エステル又はブチルステアリン酸エス
テル等の脂肪酸及びそのエステル類；エチルアルコール
、イソプロピルアルコール、七チルアルコール、ステア
リルアルコール、バルミチルアルコール又はヘキシルド
デシルアルコール等のアルコール類などが挙げられる。
また、グリコール、グリセリン又はソルビトールなどの
保湿作用を有する多価アルコール類も使用することがで
きる。
保湿作用を有する多価アルコール類も使用することがで
きる。
本発明紫外線吸収剤及び化粧料中のベンゾイルビナコロ
ン誘導体の配合量は、使用形態により変動し得るので特
に限定されず、有効量存在すればよいが、一般には全組
成物中に０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜ｌＯ
重量％となるように配合するのがよい。
ン誘導体の配合量は、使用形態により変動し得るので特
に限定されず、有効量存在すればよいが、一般には全組
成物中に０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜ｌＯ
重量％となるように配合するのがよい。
本発明紫外線吸収剤及び化粧料はベンゾイルビナコロン
誘導体（Ｉ）を配合したのみでもよいが、更に他の［Ｉ
Ｖ−８吸収剤あるいはＵＶ−Ａ吸収剤と組み合わせて、
通常の日焼は止め化粧料として使用するのがより好まし
い。このようなｕｖ−ｅ吸収剤としては、例えばｐ−メ
チルベンジリデン−Ｄ、Ｌ−ショウノウ又はそのスルホ
ン酸ナトリウム塩；２−フェニルベンズイミダゾール−
５−スルホン酸ナトリウム塩、３．４−ジメチルフェニ
ルグリオキシル酸ナトリウム塩、４−フェニルベンゾフ
ェノン、４−フェニルベンゾフェノン−２７−カルボン
酸イソオクチルエステル、ｐ−メトキシ桂皮酸エステル
、２−フェニル−５−メチルベンズオキサゾール又はｐ
−ジメチルアミノ安息香酸エステル類などが挙げられる
。ＵＶ−Ａ吸収剤としては４−メトキシ−２′−カルボ
キシジベンゾイルメタン、４−メトキシ−４′−ｔ−ブ
チルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイ
ルメタン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン又はジベンジリデンカンファー類などが挙げられる。
誘導体（Ｉ）を配合したのみでもよいが、更に他の［Ｉ
Ｖ−８吸収剤あるいはＵＶ−Ａ吸収剤と組み合わせて、
通常の日焼は止め化粧料として使用するのがより好まし
い。このようなｕｖ−ｅ吸収剤としては、例えばｐ−メ
チルベンジリデン−Ｄ、Ｌ−ショウノウ又はそのスルホ
ン酸ナトリウム塩；２−フェニルベンズイミダゾール−
５−スルホン酸ナトリウム塩、３．４−ジメチルフェニ
ルグリオキシル酸ナトリウム塩、４−フェニルベンゾフ
ェノン、４−フェニルベンゾフェノン−２７−カルボン
酸イソオクチルエステル、ｐ−メトキシ桂皮酸エステル
、２−フェニル−５−メチルベンズオキサゾール又はｐ
−ジメチルアミノ安息香酸エステル類などが挙げられる
。ＵＶ−Ａ吸収剤としては４−メトキシ−２′−カルボ
キシジベンゾイルメタン、４−メトキシ−４′−ｔ−ブ
チルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイ
ルメタン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン又はジベンジリデンカンファー類などが挙げられる。
本発明化粧料には、上記成分のほか、種々の添加剤を加
えることができる。適当な添加剤としては、例えばＷ２
Ｏ型及び０／Ｗ型の乳化剤が挙げられる。乳化剤として
は、市販の乳化剤が使用できる。またメチルセルロース
、エチルセルロース又はカルボキシメチルセルロース、
ポリアクリル酸、トラガカント、寒天又はゼラチン等の
増粘剤も添加剤として加えることもできる。更に、必要
に応じて、香料、防腐剤、保湿剤、乳化安定剤、薬効成
分及び／又は生理的に許容し得る着色剤を添加してもよ
い。
えることができる。適当な添加剤としては、例えばＷ２
Ｏ型及び０／Ｗ型の乳化剤が挙げられる。乳化剤として
は、市販の乳化剤が使用できる。またメチルセルロース
、エチルセルロース又はカルボキシメチルセルロース、
ポリアクリル酸、トラガカント、寒天又はゼラチン等の
増粘剤も添加剤として加えることもできる。更に、必要
に応じて、香料、防腐剤、保湿剤、乳化安定剤、薬効成
分及び／又は生理的に許容し得る着色剤を添加してもよ
い。
本発明について実施例及び試験例を挙げて更に具体的に
説明する。
説明する。
実施例１
３．４−ジメトキシピバロイルアセチルベンゼン〔一般
式（Ｉ）におイテ、Ｒ＝ＯＣＨ３，ｎ＝２（Ｄもの〕（
Ｉ ａ）の合・成： 攪拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備
えた２００艷容三ツロフラスコ中にて、６０％水素化ナ
トリウム２．４５ｇ （６１ｍｍｏｌ） 、３゜４−ジ
メトキシ安息香酸メチル１０ ｇ （５１ｍｍａｌｌ）
及び無水テトラヒドロフラン１００ｍ１を窒素気流下、
攪拌混合し、加熱還流下ビナコロン６．１ｇ（６１ｍｍ
ｏｌ）を滴下した。７時間加熱還流後放冷し、２Ｎ−塩
酸３０ｍｊ！を加えた後、クロロホルムで２回抽出した
。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し、
粗生成物を得た。これにベキサンを加え、不溶物を濾過
後、濾液を濃縮し再結晶を行い、目的化合物の無色針状
結晶８．９ｇを得た（収率６５％）。
式（Ｉ）におイテ、Ｒ＝ＯＣＨ３，ｎ＝２（Ｄもの〕（
Ｉ ａ）の合・成： 攪拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備
えた２００艷容三ツロフラスコ中にて、６０％水素化ナ
トリウム２．４５ｇ （６１ｍｍｏｌ） 、３゜４−ジ
メトキシ安息香酸メチル１０ ｇ （５１ｍｍａｌｌ）
及び無水テトラヒドロフラン１００ｍ１を窒素気流下、
攪拌混合し、加熱還流下ビナコロン６．１ｇ（６１ｍｍ
ｏｌ）を滴下した。７時間加熱還流後放冷し、２Ｎ−塩
酸３０ｍｊ！を加えた後、クロロホルムで２回抽出した
。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し、
粗生成物を得た。これにベキサンを加え、不溶物を濾過
後、濾液を濃縮し再結晶を行い、目的化合物の無色針状
結晶８．９ｇを得た（収率６５％）。
融点：５２．３〜５３．３℃
ＩＲ（１’Ｋｌｒ、Ｃｌ１ｌ−’） ： １６０２．
１５２１．１４７０．１４４６゜１３６５、１２９９．
１２６６、１２１Ｂ。
１５２１．１４７０．１４４６゜１３６５、１２９９．
１２６６、１２１Ｂ。
１１８８、１１３１．８８５．７８６゜２９
’ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） ： １．２６（
９Ｈ，ｓ、ｔ−ＣＪｓ）。
９Ｈ，ｓ、ｔ−ＣＪｓ）。
３、９５ （３）１． ｓ、 ＯＣＨ，）。
３、９６ （３Ｈ，ｓ、 ０ＣＨｓ）。
６、２４（ＩＨ，ｓ）。
６、９０ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝８．４Ｈｚ） 。
７．４９ （Ｉ Ｈ，ｓ）。
７、５１ （ｌｆｔ、 ｄ、 Ｊ＝８．４Ｈｚ）元素分
析 計算値（％） Ｃ；６８．１６．Ｈ；７．６３実測値
（％） Ｃ；６８．２３．Ｈ；７．６０実施例２ ３．４．５−）ジメトキシピバロイルアセチルベンゼン
〔一般式（１）におイテ、Ｒ＝ＯＣＨ３，ｎ＝２（７）
もの）（Ｉｂ）の合成： 攪拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備
えた２００ｗｄ！容三ツロフラスコ中にて、６０％水素
化ナトリウム３．０ｇ （？ ５ｍｍｏ１） 、３゜４
．５−）ジメトキシ安息香酸メチル１０ｇ（４４，３ｍ
ｍｏ１ｔ）及び無水テトラヒドロフラン８０ｒｒｆ。
析 計算値（％） Ｃ；６８．１６．Ｈ；７．６３実測値
（％） Ｃ；６８．２３．Ｈ；７．６０実施例２ ３．４．５−）ジメトキシピバロイルアセチルベンゼン
〔一般式（１）におイテ、Ｒ＝ＯＣＨ３，ｎ＝２（７）
もの）（Ｉｂ）の合成： 攪拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備
えた２００ｗｄ！容三ツロフラスコ中にて、６０％水素
化ナトリウム３．０ｇ （？ ５ｍｍｏ１） 、３゜４
．５−）ジメトキシ安息香酸メチル１０ｇ（４４，３ｍ
ｍｏ１ｔ）及び無水テトラヒドロフラン８０ｒｒｆ。
を窒素気流下攪拌混合し、加熱還流下ビナコロン５、３
ｇ （５３，２ｍｍｏｆ）を滴下した。５時間加熱還流
後放冷し、２Ｎ＝塩酸４５−を加えた後、クロロポルム
で２回抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後
溶媒を留去し、粗生成物を得た。これにヘキサンを加え
、不溶物を濾過後、濾液を濃縮し再結晶を行い、目的化
合物の無色針状結晶９．６ｇを得た（収率７４％）。
ｇ （５３，２ｍｍｏｆ）を滴下した。５時間加熱還流
後放冷し、２Ｎ＝塩酸４５−を加えた後、クロロポルム
で２回抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後
溶媒を留去し、粗生成物を得た。これにヘキサンを加え
、不溶物を濾過後、濾液を濃縮し再結晶を行い、目的化
合物の無色針状結晶９．６ｇを得た（収率７４％）。
融点：６７．３〜６８．４℃
ＩＲ（シ、、、、ｃｍ−’） ： ２９６８．１５９
３．１５６０．１５０９゜１４７３、１４３４．１３３
５．１２３３゜１２１ｇ、 １１７６、１１３１．９９
３゜０１ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｊ！ ５．δ） ：１．２６（
９１（、ｓ、ｔ−Ｃ４Ｌ）。
３．１５６０．１５０９゜１４７３、１４３４．１３３
５．１２３３゜１２１ｇ、 １１７６、１１３１．９９
３゜０１ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｊ！ ５．δ） ：１．２６（
９１（、ｓ、ｔ−Ｃ４Ｌ）。
３、９１ （３Ｈ，ｓ、 ０ＣＨ３）。
３、９３ （６Ｈ，ｓ、 ＱＣ）１．）。
６、２１ （ＩＨ，ｓ） 。
７、１３ （２）１． ｓ）
元素分析
計算値（％’） Ｃ；６５．２９．Ｈ；７．５３実測
値（％） Ｃ；６５Ｊ８．Ｈ；７．５１試験例１ 本発明化合物の紫外線吸収効果： 本発明化合物として実施例工及び２で得られた３、４−
ジメトキシピバロイルアセチルベンゼン（Ｉ ａ）及び
３．４．５−）ジメトキシピバロイルアセチルベンゼン
（Ｉ ｂ）を用い、比較化合物として２−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾツユノン（ＵＶ−＾吸収剤）及び２
−エチルへキシル−ｐ−メトキシシンナメート（ＵＶ−
Ｂ吸収剤）を用い紫外線吸収効果（吸光度）を下記測定
方法により測定した。結果を表１に示す。
値（％） Ｃ；６５Ｊ８．Ｈ；７．５１試験例１ 本発明化合物の紫外線吸収効果： 本発明化合物として実施例工及び２で得られた３、４−
ジメトキシピバロイルアセチルベンゼン（Ｉ ａ）及び
３．４．５−）ジメトキシピバロイルアセチルベンゼン
（Ｉ ｂ）を用い、比較化合物として２−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾツユノン（ＵＶ−＾吸収剤）及び２
−エチルへキシル−ｐ−メトキシシンナメート（ＵＶ−
Ｂ吸収剤）を用い紫外線吸収効果（吸光度）を下記測定
方法により測定した。結果を表１に示す。
（測定方法）
本発明化合物及び比較化合物の２．５Ｘ ｌ Ｏ−’ｍ
ａｉｌ／ ｊ！濃度のエタノール（９９，５％試薬特級
）溶液を調製し、石英セル（１ｃｍＸ１ｃｍ）に入れた
後、日立部Ｕ−３４１０形自記分光光度計により測定し
た。
ａｉｌ／ ｊ！濃度のエタノール（９９，５％試薬特級
）溶液を調製し、石英セル（１ｃｍＸ１ｃｍ）に入れた
後、日立部Ｕ−３４１０形自記分光光度計により測定し
た。
以下余白
これらの結果は、本発明化合物がＵＶ−Ａ紫外線及びＵ
Ｖ−８紫外線に対して、比較化合物２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン又は２−エチルへキシル−ｐ
−メトキシシンナメートより吸収効果が強く、日焼は止
め効果の高い事を示している。
Ｖ−８紫外線に対して、比較化合物２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン又は２−エチルへキシル−ｐ
−メトキシシンナメートより吸収効果が強く、日焼は止
め効果の高い事を示している。
試験例２
本発明化合物の紫外線に対する安定性：（実験方法）
９９．５％エタノール／Ｍ留水（３／２）溶媒中、本発
明化合物並びに比較化合物を２ｍｔｎｏｉ！／ １２に
なるように溶解し、太陽光に極めて近似の波長及び強度
を有するキセノン耐光試験機を用いて１４時間紫外線を
照射した。溶媒を留去後、定量分析を行い残存率から安
定性を評価した。結果を表２に示す。
明化合物並びに比較化合物を２ｍｔｎｏｉ！／ １２に
なるように溶解し、太陽光に極めて近似の波長及び強度
を有するキセノン耐光試験機を用いて１４時間紫外線を
照射した。溶媒を留去後、定量分析を行い残存率から安
定性を評価した。結果を表２に示す。
以下余白
表２ 光安定性評価
Ｉａ：３．４−ジメトキシピバロイルアセチルベンゼン
Ｉｂ：３，４．５−）ジメトキシピバロイルアセチルベ
ンゼン １：４−メトキシ−４′−ｔ−ブチルジベンゾイルメタ
ン ２：２−エチルへキシル−ｐ−メトキシシンナメート 表２の結果より、ＵＶ−Ａ吸収剤として汎用されている
４−メトキシ−４’−ｔ−ブチルジベンゾイルメタン又
は［ＩＶ−Ｂ吸収剤として汎用されている２−エチルへ
キシル−ｐ−メトキシシンナメートと比較し、本発明化
合物は紫外線に対して著しく安定性が優れていることが
明らかである。
ンゼン １：４−メトキシ−４′−ｔ−ブチルジベンゾイルメタ
ン ２：２−エチルへキシル−ｐ−メトキシシンナメート 表２の結果より、ＵＶ−Ａ吸収剤として汎用されている
４−メトキシ−４’−ｔ−ブチルジベンゾイルメタン又
は［ＩＶ−Ｂ吸収剤として汎用されている２−エチルへ
キシル−ｐ−メトキシシンナメートと比較し、本発明化
合物は紫外線に対して著しく安定性が優れていることが
明らかである。
実施例３
０／Ｗ型クリーム：
下記組成を常法に従って配合し、Ｏ／Ｗ型クリームを調
製した。
製した。
〔組成〕 （重量％）ステ
アリン酸 親油型モノステアリン酸グリセ リ ド １．０ ２．０ セチルアルコール ステアリルアルコール スクワラン 流動パラフィン ワセリン ブチルパラベン メチルパラベン トリエタノールアミン １．０ １．０ １０．０ ２０．０ ５．０ ０．１ ０．１ １．０ グリセリン 香料 水 １０．０ 適量 バランス １００、０ 実施例４ Ｗ１０型クリーム： 下言己組成を常法に従って配合し、Ｗ１０型クリームを
調製した。
アリン酸 親油型モノステアリン酸グリセ リ ド １．０ ２．０ セチルアルコール ステアリルアルコール スクワラン 流動パラフィン ワセリン ブチルパラベン メチルパラベン トリエタノールアミン １．０ １．０ １０．０ ２０．０ ５．０ ０．１ ０．１ １．０ グリセリン 香料 水 １０．０ 適量 バランス １００、０ 実施例４ Ｗ１０型クリーム： 下言己組成を常法に従って配合し、Ｗ１０型クリームを
調製した。
〔組成〕 （重量％）ソル
ビタンセスキオレエート ステアリン酸アルミニウム 七チルアルコール 流動パラフィン スクワラン ミリスチン酸イソプロピル 安息香酸ナトリウム グリセリン 香料 水 ４．０ ０．５ ４．０ １６．０ １０．０ ５．０ ０．３ １０．０ 適量 バランス １００、０ 実施例５ ０／Ｗ型乳液： 下記組成を常法に従って配合し、０／Ｗ型乳液を調製し
た。
ビタンセスキオレエート ステアリン酸アルミニウム 七チルアルコール 流動パラフィン スクワラン ミリスチン酸イソプロピル 安息香酸ナトリウム グリセリン 香料 水 ４．０ ０．５ ４．０ １６．０ １０．０ ５．０ ０．３ １０．０ 適量 バランス １００、０ 実施例５ ０／Ｗ型乳液： 下記組成を常法に従って配合し、０／Ｗ型乳液を調製し
た。
〔組成〕 （重量％）ステ
アリン酸 モノステアリン酸ソルビタン ２．０ １．５ 苛性カリ 香料 水 実施例６ 化粧水： 下記組成を常法に従って配合し、 した。
アリン酸 モノステアリン酸ソルビタン ２．０ １．５ 苛性カリ 香料 水 実施例６ 化粧水： 下記組成を常法に従って配合し、 した。
０．４
適量
バランス
ｉｏｏ、 。
化粧水を調製
（重量％）
セチルアルコール
ステアリルアルコール
ミリスチン酸イソプロピル
スクワラン
流動パラフィン
固形パラフィン
エチルパラベン
メチルパラベン
カーポポール
０．４
０．３
７．０
５．０
５．０
２．０
０．１
０．１
０．２
エーテル
エタノール
グリセリン
ジプロピレングリコール
乳酸
乳酸ナトリウム
メチルパラベン
香料
色素
１０．０
３．０
７．０
０．０５
０．１２
０．１
適量
微量
水 バランス手続
補正書翰発） １００、０ 〔発明の効果〕 本発明のベンゾイルビナコロン誘導体＜１）は優れた紫
外線吸収作用と卓越した安定性を有するため、これを配
合した紫外線吸収剤又は化粧料は日焼は防止効果に優れ
たものである。
補正書翰発） １００、０ 〔発明の効果〕 本発明のベンゾイルビナコロン誘導体＜１）は優れた紫
外線吸収作用と卓越した安定性を有するため、これを配
合した紫外線吸収剤又は化粧料は日焼は防止効果に優れ
たものである。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、次の式（ I ）′ ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）′ 〔式中、Ｒは水酸基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭
素数１〜８のアルケニルオキシ基若しくは（ポリオキシ
アルキレン）オキシ基を示し、又は２個のＲでα−メチ
レンジオキシ基を形成してもよく、ｎは１〜３の整数を
示す（但し、ｎ＝１で基ＣＨ＿３Ｏ−がベンゼン核上の
２位又は３位に結合している場合、及びｎ＝１で水酸基
がベンゼン核上の２位に結合している場合を除く）〕 で表わされるベンゾイルピナコロン誘導体。 ２、次の一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒは水酸基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭
素数１〜８のアルケニルオキシ基若しくは（ポリオキシ
アルキレン）オキシ基を示し、又は２個のＲでα−メチ
レンジオキシ基を形成してもよく、ｎは１〜３の整数を
示す〕 で表わされるベンゾイルピナコロン誘導体を含有するこ
とを特徴とする紫外線吸収剤。 ３、請求項２記載のベンゾイルピナコロン誘導体を含有
することを特徴とする化粧料。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012196A JPH0635416B2 (ja) | 1990-01-22 | 1990-01-22 | ベンゾイルピナコロン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 |
| EP19900117020 EP0416564A3 (en) | 1989-09-05 | 1990-09-04 | Novel aroyl ketone derivative, uv ray absorber comprising the same, and cosmetic composition containing the same |
| US07/577,567 US5146002A (en) | 1989-09-05 | 1990-09-05 | Aroyl ketone derivative, uv ray absorber comprising the same, and cosmetic composition containing the same |
| US07/684,872 US5191121A (en) | 1989-09-05 | 1991-04-15 | Aroyl ketone derivative, UV ray absorber comprising the same, and cosmetic composition containing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012196A JPH0635416B2 (ja) | 1990-01-22 | 1990-01-22 | ベンゾイルピナコロン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03220153A true JPH03220153A (ja) | 1991-09-27 |
| JPH0635416B2 JPH0635416B2 (ja) | 1994-05-11 |
Family
ID=11798651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012196A Expired - Fee Related JPH0635416B2 (ja) | 1989-09-05 | 1990-01-22 | ベンゾイルピナコロン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0635416B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018194087A1 (ja) | 2017-04-18 | 2018-10-25 | 花王株式会社 | 紫外線防御被膜の製造方法 |
| WO2021065895A1 (ja) | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 花王株式会社 | 日焼け止め化粧料 |
| WO2022107872A1 (ja) | 2020-11-19 | 2022-05-27 | 花王株式会社 | 水中油型乳化化粧料 |
| WO2022255352A1 (ja) | 2021-05-31 | 2022-12-08 | 花王株式会社 | 皮膚外用剤 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03188041A (ja) * | 1989-09-05 | 1991-08-16 | Kao Corp | 新規ベンゾイルケトン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 |
-
1990
- 1990-01-22 JP JP2012196A patent/JPH0635416B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03188041A (ja) * | 1989-09-05 | 1991-08-16 | Kao Corp | 新規ベンゾイルケトン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018194087A1 (ja) | 2017-04-18 | 2018-10-25 | 花王株式会社 | 紫外線防御被膜の製造方法 |
| WO2021065895A1 (ja) | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 花王株式会社 | 日焼け止め化粧料 |
| WO2022107872A1 (ja) | 2020-11-19 | 2022-05-27 | 花王株式会社 | 水中油型乳化化粧料 |
| WO2022255352A1 (ja) | 2021-05-31 | 2022-12-08 | 花王株式会社 | 皮膚外用剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0635416B2 (ja) | 1994-05-11 |
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