JPH02121969A - アジド化合物 - Google Patents
アジド化合物Info
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- JPH02121969A JPH02121969A JP27326988A JP27326988A JPH02121969A JP H02121969 A JPH02121969 A JP H02121969A JP 27326988 A JP27326988 A JP 27326988A JP 27326988 A JP27326988 A JP 27326988A JP H02121969 A JPH02121969 A JP H02121969A
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- Japan
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- azide
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- Pyridine Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、一般式
（式中、Ｒはホルミル基、保護されたホルミル基または
置換アミノメチル基であり、Ｙはエチレン基またはビニ
レン基である。）で表わされるアジド化合物に関する。
置換アミノメチル基であり、Ｙはエチレン基またはビニ
レン基である。）で表わされるアジド化合物に関する。
本発明の前記一般式（１）で表わされるアジド化合物は
、ヒスタミンｌｈ受容体拮抗作用にＷづく抗消化性潰瘍
剤として有用な化合物の中間体となる化合物である。
、ヒスタミンｌｈ受容体拮抗作用にＷづく抗消化性潰瘍
剤として有用な化合物の中間体となる化合物である。
（従来の技術）
従来、ヒスタミン１１□受容体拮抗作用に基づく抗消化
性潰瘍剤は、特開昭６１−８５３６５号明細書にで表さ
れる化合物が開示されている。
性潰瘍剤は、特開昭６１−８５３６５号明細書にで表さ
れる化合物が開示されている。
の化合物を見出すべく検討した結果
更に高活性
（化合物Ｂ）
（式中、Ｙは前記と同じである。）
が本出願人により開発された（特開昭６３−２２５３７
１号）。両化合物共に基本的に共通する合成法として （式中、Ｒ２は二置換アミノ基である。）なる化合物と ｔ（ＯＡＹ ＡＮ Ｈｔ （式中、Ｙは前記と同じである。） なる化合物の両者を反応させることにより、目的化合物
への中間体 （中間体Ａ） （式中、Ｒ２およびＹは、前記と同じである。）を得て
いた。
１号）。両化合物共に基本的に共通する合成法として （式中、Ｒ２は二置換アミノ基である。）なる化合物と ｔ（ＯＡＹ ＡＮ Ｈｔ （式中、Ｙは前記と同じである。） なる化合物の両者を反応させることにより、目的化合物
への中間体 （中間体Ａ） （式中、Ｒ２およびＹは、前記と同じである。）を得て
いた。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、前記した従来の合成法は、前記した中間
体Ａへの誘導が極めて煩雑であり、前記化合物Ａ及びＢ
等の簡便な方法とは言いがたく、更によりよい合成法の
開発が望まれていた。
体Ａへの誘導が極めて煩雑であり、前記化合物Ａ及びＢ
等の簡便な方法とは言いがたく、更によりよい合成法の
開発が望まれていた。
（問題点を解決するための手段）
これら問題点を解決するための手段として本発明者等は
、前記一般式（Ｉ）で表わされるアジドが前記化合物Ａ
およびＢに簡便に誘導することができることを見出し、
本発明を完成した。
、前記一般式（Ｉ）で表わされるアジドが前記化合物Ａ
およびＢに簡便に誘導することができることを見出し、
本発明を完成した。
以下、前記一般式（１）で表されるアジド化合物の合成
法につき示す。
法につき示す。
（中間体” Ａ）
（式中ＲおよびＹは前記と同じであり×１はハロゲン原
子、メタンスルホニルオキシ基またはｐ−トルエンスル
ホニルオキシ基である。） 〔第一工程〕 本工程は、前記一般式（Ｉｌ）で表わされるアルコール
化合物ヲハロゲン化、メタンスルボニル化またはｐ−１
−ルエンスルホニル化反応を行い前記−Ｃ式（ＩＩｌ）
で表わされる化合物を製造するものである。
子、メタンスルホニルオキシ基またはｐ−トルエンスル
ホニルオキシ基である。） 〔第一工程〕 本工程は、前記一般式（Ｉｌ）で表わされるアルコール
化合物ヲハロゲン化、メタンスルボニル化またはｐ−１
−ルエンスルホニル化反応を行い前記−Ｃ式（ＩＩｌ）
で表わされる化合物を製造するものである。
前記一般式（ｎ）で表わされるアルコール化合物におい
て、Ｒは、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジェトキ
シメチル基、１，３−ジオキソラン−２−イル基などの
保護されたホルミル基、またはＮ、Ｎ−ジメチルアミノ
メチル基、ＮＮ−ジエチルアミノメチル基、ピペリジノ
メチル基、ピロリジノメチル基、４−ヒドロキシピペリ
ジノメチル基、３−メチルピペリジノメチル基、１，２
，３゜６−テトラヒドロ−１−ピリジルメチル基、１ベ
ルヒドロアゼピニルメチル基、モルホリノメチル基、チ
オモルホリノメチル基、４−メチル−１ピペラジニルメ
チル基などの置換アミノメチル基であり、Ｙは、エチレ
ン基またはｃｉｓもしくはｔｒａｎｓのビニレン基であ
る。
て、Ｒは、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジェトキ
シメチル基、１，３−ジオキソラン−２−イル基などの
保護されたホルミル基、またはＮ、Ｎ−ジメチルアミノ
メチル基、ＮＮ−ジエチルアミノメチル基、ピペリジノ
メチル基、ピロリジノメチル基、４−ヒドロキシピペリ
ジノメチル基、３−メチルピペリジノメチル基、１，２
，３゜６−テトラヒドロ−１−ピリジルメチル基、１ベ
ルヒドロアゼピニルメチル基、モルホリノメチル基、チ
オモルホリノメチル基、４−メチル−１ピペラジニルメ
チル基などの置換アミノメチル基であり、Ｙは、エチレ
ン基またはｃｉｓもしくはｔｒａｎｓのビニレン基であ
る。
前記一般式（ＩＩ）で表わされるアルコール化合物は、
例えば、２−アミノ−４−メチルピリジンまたはイソニ
コチン酸オキシドを原料とし用い、特開昭６３−１３８
３５３号に開示されている方法に従い製造することがで
きる。（以下式１参照）。
例えば、２−アミノ−４−メチルピリジンまたはイソニ
コチン酸オキシドを原料とし用い、特開昭６３−１３８
３５３号に開示されている方法に従い製造することがで
きる。（以下式１参照）。
前記一般式（ＩＩ）で表わされるアルコール化合物は、
塩化チオニル、五塩化リン、臭化チオニル、五臭化リン
などによりのハロゲン化、塩化メタンスルホニル、無水
メタンスルホニルなどによりメタンスルホニル化、塩化
Ｐ−）ルエンスルホニル、無水ｐ−）ルエンスルホニル
などによりｐ−トルエンスルホニル化することができ前
記一般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物を製造すること
ができる。
塩化チオニル、五塩化リン、臭化チオニル、五臭化リン
などによりのハロゲン化、塩化メタンスルホニル、無水
メタンスルホニルなどによりメタンスルホニル化、塩化
Ｐ−）ルエンスルホニル、無水ｐ−）ルエンスルホニル
などによりｐ−トルエンスルホニル化することができ前
記一般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物を製造すること
ができる。
本工程を実施するには溶媒中で行うことが望ましく、例
えば、エチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサンなどのエー
テル類、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化
炭化水素類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素
類、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのアミド類を
使用することができる。
えば、エチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサンなどのエー
テル類、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化
炭化水素類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素
類、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのアミド類を
使用することができる。
本工程の実施に際しては、有機塩基の存在下に行うこと
が好ましく、ピリジン、トリエチルアミンなどを使用す
ることができる。反応は、０〜３０°Ｃの温度範囲を選
ぶことにより円滑に進行する。
が好ましく、ピリジン、トリエチルアミンなどを使用す
ることができる。反応は、０〜３０°Ｃの温度範囲を選
ぶことにより円滑に進行する。
〔第二工程］
本工程は、前記一般式（Ｉ［［）で表わされる化合物を
アジ化ナトリウム、アジ化カリウムなどのアジ化金属と
反応させ、前記一般式（１）で表わされる化合物を製造
するものである。
アジ化ナトリウム、アジ化カリウムなどのアジ化金属と
反応させ、前記一般式（１）で表わされる化合物を製造
するものである。
本工程を実施するには、溶媒中で行うことが望ましくア
セトンなどのケトン類、メタノール、エタノール、プロ
パツールなどのアルコール類、テトラハイドロフラン（
ＴＨＦ）などのエーテル類ることができる。さらにエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキ
シエタン（ＤＭＥ）、ジオキサンなどのエーテル類、ク
ロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類
ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、ＤＭＦな
どのアミド類を使用し、塩化テトラ−ｎ −ブチルアン
モニウム、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムな
どの有機アンモニウム塩類または１２−クラウン−４，
１８−クラウン−６などのクラウンエーテル類を加え反
応を行うこともできる。
セトンなどのケトン類、メタノール、エタノール、プロ
パツールなどのアルコール類、テトラハイドロフラン（
ＴＨＦ）などのエーテル類ることができる。さらにエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキ
シエタン（ＤＭＥ）、ジオキサンなどのエーテル類、ク
ロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類
ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、ＤＭＦな
どのアミド類を使用し、塩化テトラ−ｎ −ブチルアン
モニウム、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムな
どの有機アンモニウム塩類または１２−クラウン−４，
１８−クラウン−６などのクラウンエーテル類を加え反
応を行うこともできる。
反応は０〜３０°Ｃの範囲で行うことができる。
以上の如くして得られた前記一般式（Ｉ）で表わされる
アジド化合物は、還水素化リチウムアルミニウム、水素
化アルミニウム、トリフェニルホスフィンなどの還元剤
および接触還元などにより容易に還元され、前記中間体
Ａなどのアミン化合物を製造することができる。
アジド化合物は、還水素化リチウムアルミニウム、水素
化アルミニウム、トリフェニルホスフィンなどの還元剤
および接触還元などにより容易に還元され、前記中間体
Ａなどのアミン化合物を製造することができる。
また、さらにアミン化合物は特開昭６３−２２５３７１
号に開示されている方法により化合物Ｂに導くことがで
きる。
号に開示されている方法により化合物Ｂに導くことがで
きる。
以下、参考例および実施例により本願発明をさらに詳し
く説明する。
く説明する。
参考例１
ニュニじ○たＺ
４−（４−（ジェトキシメチル）ピリジル−２−オキシ
） −ｃｉｓ −２−ブテン−１−オール（２，０ｇ）
、トリエチルアミン（０，８６ｇ）をベンゼン（５０ｍ
ｊ２）に溶解し、室温下、塩化メタンスルホニル（０，
９４ｇ）のベンゼン溶液（Ｉｏｎ／りを滴下した。
） −ｃｉｓ −２−ブテン−１−オール（２，０ｇ）
、トリエチルアミン（０，８６ｇ）をベンゼン（５０ｍ
ｊ２）に溶解し、室温下、塩化メタンスルホニル（０，
９４ｇ）のベンゼン溶液（Ｉｏｎ／りを滴下した。
３０分撹拌後、反応溶液に飽和重曹水を加え、アルカリ
性にて抽出、乾燥後、溶媒を留去し、１メタンスルホニ
ルオキシ−４−［４−（ジェトキシメチル）ピリジルー
２−オキシ） −ｃｉｓ ２ブテン（２，５８ｇ、定
量的）を得た。
性にて抽出、乾燥後、溶媒を留去し、１メタンスルホニ
ルオキシ−４−［４−（ジェトキシメチル）ピリジルー
２−オキシ） −ｃｉｓ ２ブテン（２，５８ｇ、定
量的）を得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）：１．２４（３ＨＸ２
． ｔ、Ｊ＝７．８Ｈｚ）＋３．０４（３Ｈ，ｓ）、
３．５０〜３．６５（４Ｈ，ｍ）、 ４．９５〜５．０
Ｏ（４Ｈ，ｍ）。
． ｔ、Ｊ＝７．８Ｈｚ）＋３．０４（３Ｈ，ｓ）、
３．５０〜３．６５（４Ｈ，ｍ）、 ４．９５〜５．０
Ｏ（４Ｈ，ｍ）。
５．４４（ＩＨ，ｓ）、 ５．７５〜５．８５（１Ｈ，
ｍ）、 ６．ＯＯ〜６．１０（ＬＨ，ｍ）６．８８（
１ｔＬｓ）、 ７．００（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝５．４Ｈ
ｚ）、 ８．１３ （ｌｔｌ、ｄ、Ｊ＝５．４Ｈｚ
） ＩＲ（ｃｌ’、 ｆｉｌｍ） ： １６１６． １
５６６、 １１７８Ｃ＋５ＨｔｘＮＯｂＳ ：実測値
３４５．１２３８計算値 ３４５．１２４５ 実施例１ 一オキシ ｃｉｓ −２−ゾーン−１−アジド １−メタンスルホニルオキシ−４−（４−（ジェトキシ
メチル）ピリジルー２−オキシ） −ｃｉｓ２−ブテン
（２，５８ｇ ）をアセトン−水（１０：１）混液（５
０ｍｆｆｉ）に溶解し、水冷下、アジ化ナトリウム（０
，５９ｇ ）を加え、徐々に室温まで戻した。
ｍ）、 ６．ＯＯ〜６．１０（ＬＨ，ｍ）６．８８（
１ｔＬｓ）、 ７．００（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝５．４Ｈ
ｚ）、 ８．１３ （ｌｔｌ、ｄ、Ｊ＝５．４Ｈｚ
） ＩＲ（ｃｌ’、 ｆｉｌｍ） ： １６１６． １
５６６、 １１７８Ｃ＋５ＨｔｘＮＯｂＳ ：実測値
３４５．１２３８計算値 ３４５．１２４５ 実施例１ 一オキシ ｃｉｓ −２−ゾーン−１−アジド １−メタンスルホニルオキシ−４−（４−（ジェトキシ
メチル）ピリジルー２−オキシ） −ｃｉｓ２−ブテン
（２，５８ｇ ）をアセトン−水（１０：１）混液（５
０ｍｆｆｉ）に溶解し、水冷下、アジ化ナトリウム（０
，５９ｇ ）を加え、徐々に室温まで戻した。
２時間撹拌後、反応溶液を濃縮し、残渣を塩化メチレン
にとり、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４− （４−（
ジェトキシメチル）ピリジル−２−オキシ）−ｃｉｓ−
２−ブテン−１−アジド（２，１９ｇ、定量的）を得た
。
にとり、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４− （４−（
ジェトキシメチル）ピリジル−２−オキシ）−ｃｉｓ−
２−ブテン−１−アジド（２，１９ｇ、定量的）を得た
。
’）Ｉ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３） ：１．２４（３Ｈ
Ｘ２． ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）。
Ｘ２． ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）。
３．５０〜３．６５（４Ｈ，ｍ）、 ３．９９（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝７．２１１ｚ）、４．９２（２Ｈ，ｄ。
ｄ、Ｊ＝７．２１１ｚ）、４．９２（２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝５．７Ｈｚ） 、 ５．４４ （ＬＨ，ｓ） 、
５．７０〜５．８０（ＩＨ，ｍ）、 ５．９５〜６．０
５（ＩＨ，ｍ）、 ６．８８（ＩＨ，ｓ）、 ７．００
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５．７Ｈｚ）、 ８．１３（ＩＨ。
５．７０〜５．８０（ＩＨ，ｍ）、 ５．９５〜６．０
５（ＩＨ，ｍ）、 ６．８８（ＩＨ，ｓ）、 ７．００
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５．７Ｈｚ）、 ８．１３（ＩＨ。
ｄ、 Ｊ＝５．７Ｈｚ）
ＩＲ（ｃｍ−’、 ｆｉｌｍ） ：２１０４．１６１
６．１５６６ＣＩＡＬ。Ｎ４０３ ：実測値 ２９２
．１５２７計算値 ２９２．１５３４ 参考例２ ４−４− ジェトキシメチル ビｌジルー２−オキシ
−ｃｉｓ−２−ブーンー１−アミン４− （４−（ジェ
トキシメチル）ピリジルー２−オキシ） −ｃｉｓ −
２−ブテン−１−アジド（２，１９ｇ）を無水テトラヒ
ドロフラン（５０ｍ ｌ ）に溶解し、室温下、トリフ
ェニルホスフィン（２，１６ｇ）を加え、１８時間撹拌
した後、水（０，１３ｍ ｌ ）を加えた。
６．１５６６ＣＩＡＬ。Ｎ４０３ ：実測値 ２９２
．１５２７計算値 ２９２．１５３４ 参考例２ ４−４− ジェトキシメチル ビｌジルー２−オキシ
−ｃｉｓ−２−ブーンー１−アミン４− （４−（ジェ
トキシメチル）ピリジルー２−オキシ） −ｃｉｓ −
２−ブテン−１−アジド（２，１９ｇ）を無水テトラヒ
ドロフラン（５０ｍ ｌ ）に溶解し、室温下、トリフ
ェニルホスフィン（２，１６ｇ）を加え、１８時間撹拌
した後、水（０，１３ｍ ｌ ）を加えた。
３時間撹拌後、反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチルに
とり、１０％酢酸酸性で洗浄した。
とり、１０％酢酸酸性で洗浄した。
水層（酢酸層）を水冷下、炭酸カリウムで塩基性とし、
塩化メチレンで抽出、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４
− （４−（ジェトキシメチル）ピリジルー２−オキシ
）−ｃｉｓ−２−ブテン−１−アミン（１，２８ｇ、
６４％）を得た。
塩化メチレンで抽出、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４
− （４−（ジェトキシメチル）ピリジルー２−オキシ
）−ｃｉｓ−２−ブテン−１−アミン（１，２８ｇ、
６４％）を得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｈ） ：１．２３（３ＨＸ２
． ｔ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）。
． ｔ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）。
１．５５（２Ｈ，ｂｒ−ｓ）、 ３．４５（２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝４．８１１ｚ） 、 ３．４５〜３．６５（４１１
゜ｍ）、 ４．８９（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５．４Ｈｚ）。
゜ｍ）、 ４．８９（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５．４Ｈｚ）。
５．４３（ＩＨ，ｓ）、 ５．７５（２１１，ｍ）。
６．８７（ＩＨ，ｓ）、 ６．９７（ＩＬｄ、Ｊ＝４
．５Ｈｚ）、 ８．１３ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．５
Ｈｚ） ｒＲ（ｃｍ−’、 ｆｉｌｍ） ：３４００． ３
２００． ３０００． ２９５０゜１６８０、 １６２
０．１５７０ Ｃ１４Ｈ２□Ｎｚ０３：実測値 ２６６．１６４２計
算値 ２６６．２６４１ 参考例３ ｃｉｓ ２−プーン １−オール ４− （４−（ジェトキシメチル）ピリジル−２オキシ
）−ｃｉｓ２−ブテン−１−オール（２，Ｏｇ）をアセ
トン−水（４：１）混液（５０ｍｆ）に溶解し、Ｐ−）
ルエンスルホン酸−水和物（１４３ｍｇ）を加えた。
．５Ｈｚ）、 ８．１３ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．５
Ｈｚ） ｒＲ（ｃｍ−’、 ｆｉｌｍ） ：３４００． ３
２００． ３０００． ２９５０゜１６８０、 １６２
０．１５７０ Ｃ１４Ｈ２□Ｎｚ０３：実測値 ２６６．１６４２計
算値 ２６６．２６４１ 参考例３ ｃｉｓ ２−プーン １−オール ４− （４−（ジェトキシメチル）ピリジル−２オキシ
）−ｃｉｓ２−ブテン−１−オール（２，Ｏｇ）をアセ
トン−水（４：１）混液（５０ｍｆ）に溶解し、Ｐ−）
ルエンスルホン酸−水和物（１４３ｍｇ）を加えた。
２時間還流後、反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチルに
とり、冷飽和重曹水に加え、有機層を分離した。
とり、冷飽和重曹水に加え、有機層を分離した。
水層を再度、酢酸エチルで抽出し、先の有機層と合わせ
、飽和食塩水で洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、４− （
４−（ホルミル）ピリジル−２−オキシ）−ｃｉｓ−２
−ブテン−１−オール（１，５４ｇ 。
、飽和食塩水で洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、４− （
４−（ホルミル）ピリジル−２−オキシ）−ｃｉｓ−２
−ブテン−１−オール（１，５４ｇ 。
定量的）を得た。
’！Ｉ−ＮＭＲ（δ、 ＣＤＣ１３） ：２．８５ （
ＬＨ，ｔ＋ Ｊ＝５．６Ｈｚ） 、 ４．３５（２１！
、ｄ、Ｊ＝５．６１１ｚ）、 ５．０５（２１１゜ｄ、
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、 ５．７５〜５．８５（ＩＨ，ｍ）
、 ５．８５〜５．９５（１１Ｌｍ）。
ＬＨ，ｔ＋ Ｊ＝５．６Ｈｚ） 、 ４．３５（２１！
、ｄ、Ｊ＝５．６１１ｚ）、 ５．０５（２１１゜ｄ、
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、 ５．７５〜５．８５（ＩＨ，ｍ）
、 ５．８５〜５．９５（１１Ｌｍ）。
７．１６（１ｔ＋、ｓ）、 ７．３１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
５．４Ｈｚ）、 ８．３２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５．４）１
ｚ）、 １０．００（ＩＩＩ、５）ＩＲ（ｃ「’、 ｆ
ｉｌｍ）：３３５２，２８８０，１７１４，１６１６，
１５６６Ｃ＋ｏＨｚＮ０３：実測値 １９３．０７２
８計算値 １９３．０７３８ 参考例４ 一オキシ ｃｉｓ ブテン−１ オール ４−［４−（ホルミル）ピリジル−２−オキシ］ｃｉｓ
−２−ブテンー１−オール（１，４３ｇ）をクロロホル
ム（１５ｍｆ）に溶解し、水冷下、ピペリジン（１，２
６ｇ）を加え、室温にて８時間撹拌後、溶媒およびピペ
リジンを留去した。
５．４Ｈｚ）、 ８．３２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５．４）１
ｚ）、 １０．００（ＩＩＩ、５）ＩＲ（ｃ「’、 ｆ
ｉｌｍ）：３３５２，２８８０，１７１４，１６１６，
１５６６Ｃ＋ｏＨｚＮ０３：実測値 １９３．０７２
８計算値 １９３．０７３８ 参考例４ 一オキシ ｃｉｓ ブテン−１ オール ４−［４−（ホルミル）ピリジル−２−オキシ］ｃｉｓ
−２−ブテンー１−オール（１，４３ｇ）をクロロホル
ム（１５ｍｆ）に溶解し、水冷下、ピペリジン（１，２
６ｇ）を加え、室温にて８時間撹拌後、溶媒およびピペ
リジンを留去した。
残渣を再度クロロホルム（１５ｎ／りに溶解し、水冷下
、ピペリジン（１，２６ｇ ）を加え、室温にて１８時
間撹拌後、濃縮した。
、ピペリジン（１，２６ｇ ）を加え、室温にて１８時
間撹拌後、濃縮した。
残渣をクロロホルム（２０ｍｆｆｉ）に溶解し、水冷下
、水素化ホウ素ナトリウム（０，７４ｇ ）を懸濁した
エタノール溶液（３０ｎ＋ｆｆ）に滴下した。
、水素化ホウ素ナトリウム（０，７４ｇ ）を懸濁した
エタノール溶液（３０ｎ＋ｆｆ）に滴下した。
１時間撹拌後、水冷下、過剰の水素化ホウ素ナトリウム
を１０％酢酸で分解、溶液を中〜弱酸性とした後、濃縮
、残渣を酢酸エチルにとり、１０％酢酸酸性で洗浄した
。
を１０％酢酸で分解、溶液を中〜弱酸性とした後、濃縮
、残渣を酢酸エチルにとり、１０％酢酸酸性で洗浄した
。
水層（酢酸層）を水冷下、炭酸カリウムで塩基性とし、
クロロホルムで抽出、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４
− （４−（ピペリジノメチル）ピリジルー２−オキシ
）−ｃｉｓ−２−ブテン−１−オール（１，６４ｇ、
８５％）を得た。
クロロホルムで抽出、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４
− （４−（ピペリジノメチル）ピリジルー２−オキシ
）−ｃｉｓ−２−ブテン−１−オール（１，６４ｇ、
８５％）を得た。
１）１−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ５）：１．３５〜１．５
０（２Ｈ，ｍ）、 １．５０〜１．６５（４Ｈ，ｍ）、
２．２５〜２．４５（４Ｈ，ｍ）、３．４０（２１１
，ｓ）、 ４．３３（２）１゜ｄ、Ｊ＝６．６１１ｚ）
、 ５．００（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．８Ｈｚ）、 ５．７
０〜５．８０（ＩＨ，ｍ）。
０（２Ｈ，ｍ）、 １．５０〜１．６５（４Ｈ，ｍ）、
２．２５〜２．４５（４Ｈ，ｍ）、３．４０（２１１
，ｓ）、 ４．３３（２）１゜ｄ、Ｊ＝６．６１１ｚ）
、 ５．００（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．８Ｈｚ）、 ５．７
０〜５．８０（ＩＨ，ｍ）。
５．８５〜５．９５（ＩＨ，ｍ）、 ６．７３（ＬＨ，
ｓ）、 ６．８８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ）。
ｓ）、 ６．８８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ）。
８．００（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．５ Ｈｚ）ＩＲ（ｃｍ−
’、 ｆｉｌｍ） ：３３９６．１６５６．１６１６
．１５６２Ｃ＋５Ｈｚ２ＮｚＯ□：実測値 ２６２．
１６８３計算値 ２６２．１６８４ 実施例２ 一オキシ ｃｉｓ ２−ゾーン−ｌ−アジド ４− （４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２オキシ
）−ｃｉｓ−２−ブテン−１−オール（５００■）、ト
リエチルアミン（２３２■）をベンゼン（３０ｍｌ）に
溶解し、室温下、塩化メタンスルホニル（２４０■）の
ベンゼン溶液（５ｎ＋ｊりを滴下した。
’、 ｆｉｌｍ） ：３３９６．１６５６．１６１６
．１５６２Ｃ＋５Ｈｚ２ＮｚＯ□：実測値 ２６２．
１６８３計算値 ２６２．１６８４ 実施例２ 一オキシ ｃｉｓ ２−ゾーン−ｌ−アジド ４− （４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２オキシ
）−ｃｉｓ−２−ブテン−１−オール（５００■）、ト
リエチルアミン（２３２■）をベンゼン（３０ｍｌ）に
溶解し、室温下、塩化メタンスルホニル（２４０■）の
ベンゼン溶液（５ｎ＋ｊりを滴下した。
３０分撹拌後、反応溶液に飽和重曹水を加え、アルカリ
性にて、ベンゼン抽出し、有機層を乾燥した。
性にて、ベンゼン抽出し、有機層を乾燥した。
この溶液に、アジ化ナトリウム（１３６■）、臭化テト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウム（６２ｍｇ）を加え、２時
間撹拌後、酢酸エチルで希釈、水洗、乾燥後、溶媒を留
去し、４− （４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２
−オキシ）−ｃｉｓ−２−ブテン−１−アジド（５７６
ｍｇ、定量的）を得た。
ラ−ｎ−ブチルアンモニウム（６２ｍｇ）を加え、２時
間撹拌後、酢酸エチルで希釈、水洗、乾燥後、溶媒を留
去し、４− （４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２
−オキシ）−ｃｉｓ−２−ブテン−１−アジド（５７６
ｍｇ、定量的）を得た。
’ＩＩ−ＮＭＲ（６、ＣＤＣ１３） ：１．３５〜１．
５０（２Ｈ，ｍ）、 １．５０〜１．７０（４Ｈ，ｍ）
、 ２．１５〜２．４５（４Ｈ，ｍ）、 ３．４１（２
Ｈ，ｓ）、 ３．９９（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．６１１ｚ）
、 ４．９１（２Ｈ，ｄ。
５０（２Ｈ，ｍ）、 １．５０〜１．７０（４Ｈ，ｍ）
、 ２．１５〜２．４５（４Ｈ，ｍ）、 ３．４１（２
Ｈ，ｓ）、 ３．９９（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．６１１ｚ）
、 ４．９１（２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝７．８）１ｚ）、 ５．７０〜５．８０（ＩＨ。
ｍ）、 ６．００〜６．２０ （ＩＨ，ｍ） 。
６．７３（１）（、ｓ）、 ６．８９（１８，ｄ、Ｊ＝
４．５Ｈｚ）、 ８．０５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ
） ＩＲ（ｃｌ’、 ｆｉｌｍ） ：２１０４．１６１６
．１５６４Ｃ＋ｓＨｚ＋ＮｓＯ’ 実測値 ２８１
．１７４９計算値 ２８７．１７５２ 参考例５ ４− ４− ピペリジノメチル と１ジル−２−オキ
シ −ｃｉｓ−２−ブーンー１−アミン４− （４−（
ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ）−ｃｉｓ−
２−ブテン−１−アジド（２２５ｍｇ）を無水テトラヒ
ドロフラン（２０ｍＩ！、）に溶解し、室温下、トリフ
ェニルホスフィン（２２６ｍｇ）を加え、１８時間撹拌
後、水（０，０２ｍｆ）を加えた。
４．５Ｈｚ）、 ８．０５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ
） ＩＲ（ｃｌ’、 ｆｉｌｍ） ：２１０４．１６１６
．１５６４Ｃ＋ｓＨｚ＋ＮｓＯ’ 実測値 ２８１
．１７４９計算値 ２８７．１７５２ 参考例５ ４− ４− ピペリジノメチル と１ジル−２−オキ
シ −ｃｉｓ−２−ブーンー１−アミン４− （４−（
ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ）−ｃｉｓ−
２−ブテン−１−アジド（２２５ｍｇ）を無水テトラヒ
ドロフラン（２０ｍＩ！、）に溶解し、室温下、トリフ
ェニルホスフィン（２２６ｍｇ）を加え、１８時間撹拌
後、水（０，０２ｍｆ）を加えた。
３時間撹拌した後、反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチ
ルにとり、ｌ０Ｘ−酢酸酸性にて抽出した。
ルにとり、ｌ０Ｘ−酢酸酸性にて抽出した。
水層（酢酸層）を酢酸エチルで洗浄後、炭酸カリウムで
塩基性とし、塩化メチレンで抽出し、水洗、乾燥後、溶
媒を留去し、４−〔４−ピペリジノメチルウピリジル−
２−オキシ’Ｊｃｉｓ−２−ブテン−１−アミン（１８
０■、８８％）を得た。
塩基性とし、塩化メチレンで抽出し、水洗、乾燥後、溶
媒を留去し、４−〔４−ピペリジノメチルウピリジル−
２−オキシ’Ｊｃｉｓ−２−ブテン−１−アミン（１８
０■、８８％）を得た。
’）ｌ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１ｚ）：１．３５〜１．５
０（２Ｈ，ｍ）、 １．５０〜１．６５（４８，ｍ）、
２．２５〜２．４５（４ｔ（、ｍ）、 ３．４０（２
Ｈ，ｓ）、 ３．４６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）、
４．８８（２Ｈ。
０（２Ｈ，ｍ）、 １．５０〜１．６５（４８，ｍ）、
２．２５〜２．４５（４ｔ（、ｍ）、 ３．４０（２
Ｈ，ｓ）、 ３．４６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）、
４．８８（２Ｈ。
ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）、 ５．７０〜５．８２（２ｔ
ｌ、ｍ）、 ６．７３（ｉｌｌ、ｓ）、 ６．８７
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５．４Ｈｚ）、 ８．０６（ｌｔｌ
。
ｌ、ｍ）、 ６．７３（ｉｌｌ、ｓ）、 ６．８７
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５．４Ｈｚ）、 ８．０６（ｌｔｌ
。
ｄ、Ｊ＝５．４Ｈｚ）
ＩＲ（ｃｍ−’、 ｆｉｌｍ） ：３３８４． １
６１６． １５６４Ｃ＋５ＨｚＪ３０ ： 実測値
２６１．１８２１計算値 ２６１．１８４０ （発明の効果） 本願発明の前記一般式（１）で表わされるアジド化合物
は前記中間体Ａおよび前記化合物Ｂを簡便に効率よく合
成できる。
６１６． １５６４Ｃ＋５ＨｚＪ３０ ： 実測値
２６１．１８２１計算値 ２６１．１８４０ （発明の効果） 本願発明の前記一般式（１）で表わされるアジド化合物
は前記中間体Ａおよび前記化合物Ｂを簡便に効率よく合
成できる。
特許出願人 富士レビオ株式会社
Claims (1)
- （１）下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるアジド化合物（式中、Ｒはホルミル基、保
護されたホルミル基または置換アミノメチル基であり、
Ｙはエチレン基またはビニレン基である。）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27326988A JPH078857B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | アジド化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27326988A JPH078857B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | アジド化合物 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6192320A Division JP2590749B2 (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | ピリジルオキシ誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02121969A true JPH02121969A (ja) | 1990-05-09 |
| JPH078857B2 JPH078857B2 (ja) | 1995-02-01 |
Family
ID=17525484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27326988A Expired - Lifetime JPH078857B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | アジド化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH078857B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0569587A4 (ja) * | 1991-01-30 | 1994-01-05 | Central Glass Company, Limited | |
| CN116986558A (zh) * | 2023-08-09 | 2023-11-03 | 江西如益科技发展有限公司 | 一种高纯度叠氮化钠的生产工艺 |
-
1988
- 1988-10-31 JP JP27326988A patent/JPH078857B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0569587A4 (ja) * | 1991-01-30 | 1994-01-05 | Central Glass Company, Limited | |
| CN116986558A (zh) * | 2023-08-09 | 2023-11-03 | 江西如益科技发展有限公司 | 一种高纯度叠氮化钠的生产工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH078857B2 (ja) | 1995-02-01 |
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