JPS5929668A - カルボスチリル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規なカルボスチリル誘導体及びその塩に関す
る。 本発明のカルボスチリル誘導体は、下記一般式６式％ 〔式中Ｒは水素原子、低級アル千ル基、フェニル基、フ
ェノ十シ低級アル十ル基、ベシリイル低級アル千ル基又
はフェニル低級アル十ル基を示す。 カルボスチリル骨格の３位と４位の結合は、−重結合又
は二重結合を示す。） 上記一般式〔１〕中Ｒで定義される各基の具体例として
は以下のものを例示できる。 低級アル千ル基としては、メチル、エチル、づ０じル、
イソづ０ビル、づチル、ｔｔｒｔ−ブチル、ペシチル、
へ十シル基等の次素数１〜６のアル千ル基を例示できる
。 フェノ千シ低級アル千ル基としては、フェノ千ジメチル
、２−フェノ千ジエチル、２−フェノ十シづ０じル、３
−フェノ十シづ０じル、１−メチル−２−フェノ千ジエ
チル、２−フェノ千ジプチル、３−フェノ千シづチル、
４−フェノ千ジプチル、１．ｌ−ジメチル−２−フェノ
千ジプチル、２−フエノ千シペシチル、３−フェノ十シ
ペシチル、４−フェノ十シヘ十シル基等のつエノ千シ基
を置換基として有する次素数１〜６のアル十ル基を例示
できる。 ベシリイル低級アル十ル基としては、ベシソイルメチル
、２−ベニ、Ｊリイルエチル、２−ベシリイルづ口じル
、３−ベシリイルプ０じル、１−メチル−２−へ−Ｊ９
イルエチル、２−ベシリイルプチル、３−へ：、Ｊリイ
ルプチル、今一ベシリイルブチル、１．１−ジメチル−
２−ベシリイルプチル、２−ベル９イルペシチル、３−
ベシリイルペシチル、４−ベシ９イルへ十シル基等のベ
シリイル基を置換基として有する戻素数１〜６のアル千
ル基を例示できる。 ３− フェニル低級アル十ル基としては、ベシジル、２−フェ
ニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニルプロピ
ル、今一つエニルプチル、１．１−ジメチル−２−フェ
ニルエチル、５−フェニルエチル、６−フェニルへ十シ
ル、２−メチル−３−フェニルづ０じル基基等のフェニ
ル基を置換基として有する次素数１〜６のアル千ル基を
例示できる。 また上記一般式〔１〕において、カルボスチリル骨格の
３位と４位との結合は、−重結合であっても二重結合で
あってもよく、該カルボスチリル骨のいずれかに結合し
ているものとする。 上記一般式〔１）で表わされるカルボスチリル誘導体は
、心筋の収縮を増強する作用（陽性変力作用）、冠面流
量増加作用、降圧作用（血管拡張作用）を有し、例えば
うつ血性心不全、僧帽弁膜面、心房性細動、粗動、発作
性心房性頻脈皓の各程合４− 臓疾患の治療のための強心剤として有効である。 特に該カルボスチリル誘導体は、優れた陽性変力作用、
冠面流量増加作用及び降圧作用を有する反面、心拍数の
増加作用は、殆んど有しかい点において特長付けられる
。 以下本発明カルボスチリル誘導体の製造法につき詳述す
る。 本発明誘導体は、例えば下記反応行程式−１に示す方法
に従い製造することができる。 〔反応行程式−１〕 〔式中Ｒは前記に同じ。〕 上記反応行程式−１で示される方法は、一般式〔２）で
表わされるカルボスチリル誘導体又はそのカルボ十シ基
の活性化された誘導体と、一般式〔３〕で表わされるじ
ベラジシ誘導体とを通常のアミド結合生成反応にて反応
させることによ多実施される。アミド結合生成反応は、
公知の各種方法例えば印混合酸無水物法即ちカルボスチ
リル誘導体〔２〕にアル千ルハ０カルポジ酸を反応させ
て混合酸無水物とし、これにヒペラジシ銹導体〔３〕を
反応させる方法；（→活性エステル法、即ちカルボスチ
リル誘導体〔２〕をｐ−二重０フェニルエステル、Ａ’
−ｅＦｏ千シ］ハク酸イ三ドエステル、１−しド０十シ
ベシリトリア９−ルエステル等の活性エステルとし、こ
れにじペラジシ誘導体〔３〕を反応させる方法；（ハ）
カルボジイミド法即ちカルボスチリル誘導体〔２〕にヒ
ペラジシ誘導体〔３〕をジシク０へ士ジルカルボジイミ
ド、カルボニルシイ三夕９−ル等の活性化剤の存在下に
縮合させる方法；に）その他の方法、例えばカルボスチ
リル誘導体〔２〕を無水酢酸等の脱水剤によｐカルポジ
酸無水物としこれにじペラジー、Ｊ誘導体〔３〕を反応
させる方法、カルボスチリル誘導体〔２）と低級アルコ
ールとのエステルにじペラジシ誘導体〔３）を高圧高温
下に反応させる方法、カルボスチリル誘導体〔２〕の酸
ハ０ゲシ化物即ちカルポジ酸ハライドにヒペラジシ誘導
体〔３〕を反応させる方法等によシ実施することかでき
る。またカルボスチリル誘導体〔２〕をトリフェニルホ
スフィンやジエチルクロロホスフェート等のリシ化合物
で活性化し、これにじペラジシ誘導体〔３〕を反応させ
る方法等によることもできる。 上記印に示す混合酸無水物法において、用いられる混合
酸無水物は通常のショッテシーバウマシ反応によシ得ら
れ、これを通常単離することなくヒペラジシ誘導体〔３
〕と反応させることにより一般式〔１〕の本発明化合物
が製造される。ショッテシーバウマシ反応は通常ショッ
テシーバウマシ反応に慣用の塩基性化合物例えばトリエ
チルア三シ、７− ドリメチルア三シ、ヒリジシ、ジメチルアニリシ、Ｎ−
メチルｔルホリン、１．５−ジアザじシフ０（４，３，
０”３ノネシー５（ＤＢＮ）、１．５−ジアザじシフ０
　（５，４，０）ウシデｔシー５（ＤＢＵ）、１，４−
ジアザピシクＯ（２，２，２〕〕オクタシＤＡＢＣＯ）
等の有機塩基及び病酸カリウム、択酸ナトリウム、択酸
水素カリウム、次酸水緊ナトリウム等の無機塩基の存在
下、約−２０〜１００°Ｃ１好ましくは０〜５０°Ｃに
おいて、約５分〜ｌＯ時間、好ましくは５分〜２時間を
要して行われる。得られた混合酸無水物とじペラジシ銹
導体〔３）との反応は、約−２０〜１５０°Ｃ１好まし
くは１０〜５０℃において約５分〜３０時間、好ましく
は約５分〜２４時間を要して行われる。まだ上記混合酸
無水物法は、一般にこの種混合酸無水物法に慣用の溶媒
、具体的には塩化メチレジ、り００ホルム、ジグ００エ
タシ等のハロゲン化炭化水素類；ベシセ５、トルニジ、
＋シレシ等の芳香族戻化水素類纂８− ジエチルエーテル、テトラしドロフラジ、ジメト十シエ
タシ等のエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル停のエス
テル類ｉ　Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホ千シト、へ十寸メチルリシ酸トリアミド等の非プロ
トシ性極性溶謀などの適当な＃媒中で行なわれる。該反
応においては、また上記ショツテシーバウマシ反応で使
用されると同一の塩基性化合物を反応系内に存在させる
ことも可能である。尚上記混合酸無水物の製造において
使用されるアル十ルハ０カルポジ酸としては、り０口蟻
酸メチル、プ〇七蟻酸メチル、り００蟻酸エチル、プ〇
七蟻酸エチル、り００蟻酸イソブチル等を例示でき、之
等は通常カルボスチリル誘導体〔２〕に対し少なくとも
等ｔル量、好ましくは約１〜２倍モル量用ｉられる。ま
たじペラジシ銹導体〔３）の使用割合は、通常カルボス
チリル誘導体〔２〕に対して少なくとも等モル量、好ま
しくは約１〜２倍Ｅ１１．量とするのが好ましい。 上記（ロ）に示す活性エステル法は、例えばＮ−しド０
十シ］ハク酸イ三ドエステルを用いる場合を例にとれば
、反応に影響を与えない適当な溶媒中で行なわれる。該
溶媒としては、具体的には塩化メチレジ、クロ０ホルム
、ジグ００エタシ等のハロゲン化度化水素類；ベシセシ
、トルニジ、十シレン等の芳香族病化水素類逼ジエチル
エーテル、テトラしドロフラジ、ジメト千シエタシ等の
エーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ十シト
、へ十すメチルリシ酸トリア三ド等の非づ０トシ性極性
溶媒などが挙げられる。反応は、０〜１５０°Ｃ１好ま
しくはｌＯ〜＋　００　’Ｃで、５〜３０時間で終了す
る。じペラジシ誘導体〔３〕とＮ−しドＤ千シコハク酸
イミドエステルとの使用割合は、後者に対して前者を通
常、少なくとも等ｔル、好ましくは、等ｔルー２倍七ル
とするのが望ましい。 上記（ロ）に示−ｔその仙の方法のら本ｈｎ、ボ１、馳
ｌ＼ライドにじペラジン誘導体〔３〕を反応させる方法
を採用する場合、該反応は塩基性化合物の存在下、適当
な溶媒中にて行なわれる。塩基性化合物とじ−では公知
のものを広く使用でき、例えば上記ショッテシーバウマ
シ反応に用いられる塩基性化合物のほかに水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水素化すトリウム、水素化カリ
ウム等を挙げることができる。溶媒としては、上記ショ
ッテシーバウマシ反応に用いられる溶媒のほかに例えば
じリジル、アセトシ、アセトニトリル等又は上記溶媒の
二つ以上の混合浴謀尋を挙げることができる。じペラジ
ン誘導体〔３〕とカルボン酸ハライドとの使用割合は、
特に限定がなく広い範囲内で適宜選択されるが、通常後
者に対して前者を少なくとも等ｔル量程度、好ましくは
等ｔル〜５倍ｔル量用いるのがよい。該反応は通常−２
０〜１８０°Ｃ程度、好ましくは約０〜１５０°Ｃにて
行なわれ、一般に５分〜３０時間で反応は完結する。 またカルボスチリル誘導体〔２〕をトリフェニルホスフ
ィンやジエチルクロ０ホスフエート等のリシ化合物で活
性化し、これにヒペラジシ誘導体〔３）を反応でせる方
法は、適当な溶媒中で行なうととができる。ここで溶媒
としては反応に形管を与えないものなら何れでも使用で
きるが、具体的には塩化メチレジ、９００ホルム、ジグ
００エタシ等のハ０ゲシ化灰化水素類；ベシゼシ、トル
ニジ、十シレン等の芳香族伏化水累類Ｉジエチルエーテ
ル、テトラしドロフラジ、ジメト十シエタシ等のエーテ
ル類；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類ｉ　Ｎ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ千シト、へ
十すメチルリシ酸トリア三ド等の非づｏトシ性極性溶媒
などが挙げられる。上記反応では、ピペラジシ誘導体〔
３〕自体が塩基性化合物として働くため、これを理論量
よシ過剰量用いることにより、反応は良好に進行するが
、必要に応じて、他の塩基性化合物例えば、トリエチル
アΣシ、トリメチルアミシ、じリジル、ジメチルアニリ
シ、Ｎ−メチルｔルホリシ、ＤＢＮ、ＤＢＵ。 ＤＡＢＣＯ等の有機塩基及び択酸カリウム、次酸ナトリ
ウム、戻酸水素カリウム、次酸水素ナトリウム等の無機
塩基を用いることもできる。該反応は約０〜１５０℃、
好ましくは約０〜１００℃において行なわれ、反応時間
は約１〜３０時間である。 カルボスチリル誘導体〔２〕に対するリシ化合物及びじ
ペラジン誘導体〔３〕の使用割合は、夫々通常少なくと
も等ｔル量程度好ましくは、１〜３倍ｔル量とされる。 また一般式〔１〕で表わされる本発明誘導体中Ｒが水素
原子以外の基でおるものは、下肥反応行程式−２に示す
方法によっても製造することができる。 〔反応行程式−２１ （４〕　　　　　　　　　　　　　　　　（１ａ〕〔式
中Ｉは水素原子以外のＲ基を示す。Ｘはハ０ゲシ原子、
低級アルカシスルホニルオ千シ基、アリールスルホニル
オ十シ基又はアラル千ルスルホニルオｆシ基を示す。〕 即ち一般式〔１ａ〕　　で表わされる本発明誘導体は、
一般式〔４〕で表わされる化合物と、一般式〔５〕で表
わされる化合物とを反応させることによ）製造される。 上記反応は、前記したに）に示すカルポジ酸ハライドに
ヒペラジシ誘導体〔３〕を反応きせる方法と同様の操作
及び条件下に突流することができる。 また該反応においては、例えばヨウ化カリウム、３つ化
すトリウム等のアルカリ金属ヨウ化物やへ十寸メチルリ
シ酸トリア三ド等を反応系内に添加存在させるととがで
き、これにより反応をよシ有利に進行させるととができ
る。 尚上記において用いられる一般式〔５〕の化合物は、い
ずれも公知でメジ、該一般式〔５〕中Ｘで定義されるハ
ロゲシ原子は具体的にＦｉ塩素、弗素、臭素及びヨウ素
原子であル、低級アルカシスルホニルオ十シ基としては
、具体的にはメタシスルホニルオ十シ、■タシスルホニ
ルオ十シ、イソツＤバシスルホニルオ千シ、づ０バシス
ルホニルオ千シ、ブタシスルホニルオ干シ　ｔｔｒｔ−
ブタシスルホニルオ十シ、ペシタシスルホニルオ十シ、
へ十＋ｊ：Ｊスルホニルオ千シ基等を例示でき、アリー
ルスルホニルオ千シ基としては、具体的にはフェニルス
ルホニルオ千シ、４−メチルフェニルスルホニルオ十シ
、２−メチルフェニルスルホニルオ千シ、４−二重りフ
ェニルスルホニルオ千シ、４−メト千シフエニルスルホ
ニルオ千シ、３−り０ルフエニルスルホニルオ十シ、α
−ナフチルスルホニルオ千シ基等の置換又は未置換のア
リールスルホニルオ千シ基を例示でき、またアラル十ル
スルホニルオ千シ基としては、具体的にはへシジルスル
ホーニルオ千シ、２−フェニルエチルスルホニルオ十シ
、４−フェニルプチルスルホニルオ十シ、４−メチルベ
シジルスルホニルオ＋シ、２−メチルベシジルスルホニ
ルオ千シ、今−二重ロベルジルスルホニルオ十シ、４−
メト千シベシジルスルホニルオ千シ、３−り０ルベシジ
ルス１しホニんオ千シ、α−ナフチルメチルスルホニル
オ＋シ基等の置換又は未置換のアラル千ルスルホニルオ
十シ基を例示できる。父上記反応においてＩがフェニル
基の場合は、反応系内に銅粉等の触媒を加えることによ
り、反応が容易に進行する。 上述した反応行程式−１において、本発明誘導体の製造
に利用される一般式〔２〕の化合物は、一部新規化合物
を包含しており、該化合物は例えば下記行程式−３〜６
に示す方法により！！ｌ！造することができる。 〔反応行程式−３１ 〔２ａ） 一般式〔６〕のニド０基の還元反応には、通常のニド０
基の還元反応の反応条件をいずれ本採用できる。例えば
■適当な浴媒中、接触還元触媒を用いて還元するか又は
、■適当な不活性溶媒中、金属もしくは金属塩と酸、又
は金属もしくは金属塩とアルカリ金属水酸化物、硫化物
、アシ上ニウム樵等との混合物等を還元剤として用いて
還元するととによシ行々われる。■の接触還元において
使用される溶媒としては、例えに水、酢酸、メタノール
、エタノール、イソづ０パノール等のアルコール類；へ
千サシ、シフ０へ干ｔシ等の次化水素類；ジエチレシク
リ］−ルジメチルエーテル、ジオ十すシ、テトラしドロ
フラジ、ジエチルエーテル等のエーテル類；酢酸エチル
、酢酸メチル醇のエステル類、＃、Ｎ−ジメチルホルム
アミド等の非づ０トン性極性溶媒等を例示できる。また
接触還元触媒としては、例えばパラジウム、パラジウム
−黒、パラジウム−脚本、白金、酸化白金、亜クロム酸
銅、ラネーニッケル等を使用できる。触媒の使用量は、
一般式〔６〕の化合物に対して約０．０２〜１倍重量と
するのがよい。反応は、通常−２０〜１５０℃付近、好
ましくは０°Ｃ〜室温付近、水素圧は１〜１０気圧で行
なわれ、反応は０．５〜１０時間程時間路了する３また
■の方法を用いる場合、鉄、亜鉛、錫もしくは塩化第一
錫と塩酸、硫酸等の鉱酸、又は鉄、硫酸第一鉄、亜鉛も
しくＨ組３−　＊　Ｗｅ　ｊｋ　＋　）、　１＋＾ｌ竺
ハ９１も１八し山馳ル物、硫化アシ七ニウム等の硫化物
、アシ上ニア水、塩化アシ七ニウム等のアシ上ニウム塩
との混合物が還元剤として用しられる。使用きれる不活
性溶媒としては、例えば水、酢酸、メタノール、エタノ
ール、ジオ十サシ等を例示できる。上記還元反応の条件
としては用いられる還元剤によって適宜選択すればよく
、例えば硫酸第一鉄とアシ上ニア水とを還元剤として用
いる場合１０〜１５０℃で０．５〜１０時間程度反応を
行なうのが好ましい。 還元剤の使用量は、原料化合物に対して少なくとも等Ｅ
ＩＪ量、通常等ｔル〜５倍ｔル量程度とされる。 一般式〔７〕の化合物と一般式〔８〕の化合物との反応
は、塩基性化合物の存在下適尚な溶媒中で行なうことが
できる。塩基性化合物としては、例えに水酸化ナトリウ
ム、次酸カリウム、次酸水素ナトリウム、次酸水素カリ
ウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラートなどの無機塩基、トリエチルア三シ、
ヒリジシ、α−じ］リシ、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリシ、
Ｎ−メチル七ルホリシ、じベリジン、ヒ０リジシなどの
ア三シ類など広範囲のものが用いられる。溶媒としては
、ジオ十サシ、テトラしドロフラジ、タライム、ジジラ
イム等のエーテル類；トルニジ干シレシなどの芳香族度
化水素類；メタノール、エタノール、イソ″′ｊＯパノ
ールなどの低級アルコール類；ジメチルホルムアミド゛
、ジメチルスルホ十シトなどの極性溶媒等が挙げられる
。反応は室温〜１５０°Ｃ１好ましくＦｉ６０〜１２０
°Ｃにて１〜２４時間程度で行なわれる。一般式〔７〕
の化合物と一般式〔８）の化合物との使用割合は、特に
制限はないが、通常前者に対して後者を等ｔル〜過剰量
、好ましくは等ｔルー５倍七ル量とするのがよい。 〔反応行程式−４〕 〔式中Ｒ２は低級アル千ル基を示す。〕上記において一
般式

〔９〕の化合物と一般式〔１０〕又は〔１１〕　の
化合物との反応は、塩基性化合物の存在下又は非存在下
に行なわれる。使用される塩基性化合物としては例えば
金属ナトリウム、金属カリウムなどのアルカリ金属及び
これらアルカリ金属の水酸化物、次酸塩、重択酸堆やじ
リジン、ピペリジンなどの芳香族ア、ｌニジ化合物ガど
が挙げられる。該反応は無溶媒もしくは溶媒中のいずれ
でも進行する。溶媒としては例えばアセトル、メチルエ
チルケトシ等のケトシ類；エーテル、ジオ千ｔシ等のエ
ーテル類；ベシセシ、トルニジ、干シしυ等の芳香族膨
化水素類；水、じリジンなどが挙げられる。一般式〔１
０〕又は〔１１〕の化合物の使用量は、一般式

〔９〕の
化合物に対して、少なくとも等ｔル、一般には等七ル〜
大過剰量とされる。 又該反応は０〜２００°Ｃで進行するが、一般には０〜
１５０℃で行なうのがよい。反応時間は、０．５〜１０
時間程時間路れる。 一般式〔１２〕　　の化合物の加水分解反応は、水溶液
中加水分解触媒、例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム等のアルカリ金属水酸化物；次酸ナトリウム、択酸
カリウム、択酸水素ナトリウム等の無機アルカリ化合物
の存在下に、通常５０〜１５０°Ｃ１好ましくは７０〜
１００°Ｃに加熱することによシ、０．５〜１０時間程
時間路了する。 〔反応行程式−５１ ｎ （＋３〕（１４’） （１５）　　　　　　　　　（２Ｃ〕 〔式中Ｘ２　　はへ〇ゲシ原子を示す。〕一般式〔１３
〕　　の化合物の還元反応は、Ｎ、Ｎ−ジ置換ホルムア
ミドと酸触媒（一般にヴイルスマイヤー試薬と呼ばれる
）の存在下に、適当な溶媒中又は溶媒の非存在下に行な
うことができる。ここで使用されるＮ、Ｎ−ジ置換ホル
ムアミドとしては、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ
、Ｎ−ジエチルホルムアミド、■−メチルーＮ−エチル
ホルムア三Ｆ％Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルホルムアミド
等を例示できる。酸溶媒としては、オ千シ塩化すシ、チ
オニルクロライド、ホスゲシ等を例示できる。 溶媒としては、１，２−ジクＤｏエタシ、１，２−ジグ
００エチレシ等のハ０ゲシ化伏化水素類やりＯＤベシ１
！シ、１，２−り００ベシぜシ等の芳香族度化水素類等
を例示できる。Ｎ、Ｎ−ジ置換ホルムアミド及び酸触媒
の使用量は、一般式〔１３〕　　の化合物に対して、夫
々通常大過剰量、好ましくは夫々約２〜５倍七ル負及び
約５〜１０倍モル量とするのが望ましい。反応温度とし
ては通常０〜１５０°Ｃ１好ましくは５０〜１００°Ｃ
付近の温度が採用され、反応は約３〜２４時開路度で完
結する。 一般式〔１４）の化合物からの一般式〔１５）の化合物
の製造は、例えば塩酸、臭化水素酸等のハ０ゲシ化水素
酸、硫酸、リシ酸等の無機酸、酢酸等の有機酸や、水酸
化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化
物、次酸ナトリウム、次酸カリウム、次酸水素ナトリウ
ム等の無機アルカリ性化合物の存在下に、通常５０〜＋
５０°Ｃ１好ましくけ７０〜１２０℃の加熱下、０．５
〜２４時間程度を要して行なわれる。 一般式〔１５〕　　の化合物の酸化反応は、適当な酸化
剤の存在下、溶媒中で実施される。酸化剤としては、三
酸化クロム、重クロム酸ナトリウム通マシガン酸カリウ
ム、酸化銀等の金属塩、過酸化水素、過酢酸、過トリフ
ルオ０酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸等の過
酸や硝酸等の鉱酸等を例示できる。溶媒としては水、メ
タノール、エタノール、づ０パノール、ブタノール、ｔ
ｔｒｔ　−ブタノール等のアルコール類＋ジエチルエー
テル、テトラしドロフラン等のエーテル類；ベンゼン、
トルエン、士シレン等の芳香族炭化水素類纂アセトル、
じリジン、酢酸等又は上記溶媒の二級上の混合溶媒を使
用することができる。また、金属塩を酸化剤として用い
る場合、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基又
は硫酸等の酸を触媒として用いることによって反応はよ
り有利に進行する。酸化剤の使用量は、一般式〇５）の
化合物に対して通常大過剰量とするのがよく、反応は通
常０〜１５０°Ｃ１好ましくは室温〜１００°Ｃ付近の
温度条件下に、約１〜１０時間を要して行なわれる。 〔反応行程式−６〕 〔２ｄ〕〔２ｔ〕 一般式〔２ｔ〕　　の化合物の還元には、通常の接触還
元条件が適用される。用いられる触媒としてはパラジウ
ム、パラジウム−炭素、づラチナ、ラネーニッケル等の
金属を例示でき、斯かる金属を通常の触媒量で用いるの
がよい。また用いられる溶媒としては、例えば水、メタ
ノール、エタノール、イソづ０パノール・ジオ士サン１
テトラヒト０フラン、へ＋サン、シフ０へ士サン、酢酸
エチル又はこれらの混合溶媒等を挙げることができる。 該反応は常圧及び加圧下のいずれでも行ない得るが、通
常常圧〜２０に９／ｄ、好ましくは常圧〜１０に９／　
ｃｄにて行なうのがよい。また反応温度とし−では、通
常Ｏ〜１５０’Ｃ程度、好ましくは室温〜１００℃とす
るのがよい。 また一般式〔２ｄ〕　　の化合物の脱水素反応は、適当
な溶媒中脱水素剤を使用して行なわれる。用いられる脱
水素剤としては、例えば２．３−ジク００−５＋６−　
”ｔシアノベンリ＋ノシ、り０ラニル（２゜３．５．６
−ナトラク００ベンリ十）：Ｊ）等のベンリ士ノン類、
Ｎ−プ〇七コへり酸イミド１Ｎ−り００コ八り酸イミド
、臭素等のハロゲン化剤苓二酸化セレン、パラジウム炭
素、パラジウム黒、酸化パラジウム、ラネーニッケル等
の脱水素化触媒を挙げることができる。脱水素化剤の使
用量としては特に限定されず広い範囲から適宜選択すれ
ばよいが、ハ０ゲシ化剤の場合には、通常一般式〔２ｄ
〕の化合物に対して１〜５倍七ル量、好ましくは１〜２
倍ｔル量使用するのがよく、また脱水素化触媒の場合に
は通常過剰量用いるのがよい。また溶媒としては、ジオ
十サシ、テトラしド０フラｙ１メト＋ジェタノール１ジ
メト＋シエタシ等のエーテル類；ベンゼン＼トルエン１
士シレ、７）クメシ等の芳香族炭化水素類；ジク００．
Ｊ３？シ、ジグ００エタン、り００ホルム、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素類纂づタノール、アミルアルコ
ール、へ十寸ノール等のアルコール類；酢酸等の極性プ
０トル溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ＋
シトＡへ＋サメチルリン酸トリア三ド等の極性非づ０ト
ン溶媒類等を例示できる。該反応は通常室温〜３００°
Ｃ１好ましくは室温〜２００°Ｃにて行なわれ、一般に
１−４０時間開路で反応は終了する。 本発明の一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導
体は、また下記反応行程式−７に示すように、脱水素反
応及び還元反応によって、その３，４−位の結合状態を
一重結合及び二重結合に夫々変換することができる。 〔反応行程式−７〕 （ｕ）　　　　　　　　　　　　Ｃ１ｔ）〔式中Ｒは前
記に同じ〕 一般式〔１ｂ〕　　の化合物の脱水素反応及び一般式〔
１ｔ〕　　の化合物の還元反応は、夫々上記反応行程式
−６に示す一般式〔２ｄ〕　　の化合物の脱水素反応及
び一般式〔２１〕　　の化合物の還元反応と同様の条件
下に実施することができる。 また一般式〇〕で表わされる本発明のカルボスチリル誘
導体中、カルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結
合が二重結合である化合物は、下式に示すように５クタ
ム−ラクチム型の互変異性をとることができ、本発明は
之等いずれの形態の化合物をも包含するものである。 （ｌ　ｄ）　　　　　　　　　　　　（１ｌ）〔式中Ｒ
は前記に同じ〕 更に一般式（１）で表わされる本発明カルボスチリル誘
導体中、Ｒが水素原子である化合物は、該Ｒがベンジル
基である本発明カルボスチリル誘導体を、接触還元する
ことによっても製造することができる。該反応において
用いられる溶媒としては、例えば水、酢酸、メタノール
、エタノール、イソづ０パノール等のアルコール類蓚へ
士サン、シフ０へ士サン等の炭化水素類！ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジオ十サシ、テトラしドロ
フラジ、ジエチルエーテル等のエーテル類纂酢酸エチル
、酢酸メチル等のエステル類、　Ｎ、Ｎ　−ジメチルホ
ルムアミド等の非ｊｏ）シ性極性溶媒等又は上記溶媒の
二以上の混合溶媒等を例示できる。また接触還元触媒と
しては、例えばパラジウム、パラジウム−黒、パラジウ
ム−炭素、白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネーニッ
ケル等が用いられる。触媒の使用量は、〜般式％％Ｎｌ
料化合物に対して０．０２〜１．００倍量用いるのがよ
い。反応は、通常−２０〜！５０℃付近、好ましくは０
〜７０゛Ｃ付近、水素圧はｌ−１０気圧で行なわれ、反
応は０，５〜ｌＯ時間程度で終了する。 本発明の一般式〔！〕で表わされるカルボスチリル誘導
体のうち、塩基性基を有する化合物は、医薬的に許容さ
れる酸を作用させることにより容易に酸付加塩とするこ
とができる。核酸としては例えば、塩酸、硫酸、リン酸
、臭化水素酸等の無機酸）シ１つｍ１マレイシＷＩＸフ
マール酸１リンｊ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸等の
有機酸を挙げることができる。 斯くして得られる各々の行程での目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、稀釈法、再結晶法
、カラムク０マドシラフイー、プレバラティづ薄層クロ
マトクラフィー等を例示できる。 尚本発明は光学異性体も当然に包含するものである。 一般式〔１〕の化合物は通常、一般的な医薬製剤の形態
で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、
結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤などの稀
釈剤あるいは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤
としては各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その
代表的なものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、
乳剤、顆粒剤、力づｔル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁
剤等）などが挙げられる。錠剤の形態に形成するに際し
ては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用
でき、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、
尿素、デシづン、炭酸カルシウム、力オリシ、結晶セル
０−ス、ケイ酸などの賦形剤１水１エタノール、プロパ
ツール、単シロップ、ブドウ糖液、チンづン液、ゼラチ
ン溶液、カルボ士ジメチルせル０−ス１ｔラック、メチ
ルセル０−ス１リン酸カリウム１ポリビニルじロリドシ
などの結合剤、乾燥デンプン、アルイン酸ナトリウム、
カシデシ末、う三ナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸
カルシウム、ポリオ十シエチレシソルじタン脂肪酸エス
テル類１ラウリル硫酸ナトリウム１ステアリン酸七ノク
リｔリド、デンプン、乳糖などの崩壊剤、白糖、ステア
リシ、カカオバター、水素添加油などの崩壊抑制剤、第
四級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウ′ムなど
の吸収促進剤、タリｔリン、デンプンなどの保湿剤、デ
シづン、乳糖、カオリン、ベシトナイト、］０イド状ケ
イ酸などの吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ
酸末、ポリエチレシクリコールなどの滑沢剤などが例示
できる。さらに錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠
剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶破錠、フィル
ムコーティング錠あるいは二重錠、多層錠とすることが
できる。 丸剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分野
で従来公知のものを広く使用でき、例えばブドウ糖、乳
糖、チンづン、カカオ脂、硬化植物油、力オリシ、タル
クなどの賦形剤、アラビアコム末、トラガント末、ゼラ
チン、エタノールなどの結合剤、ラミナラシ、カンデシ
などの崩壊剤などが例示できる。坐剤の形態に成形する
に際しては、担体として従来公知のものを広く使用でき
、例えばポリエチレシグリコール、カカオ脂、高級アル
コール、高級アルコールのエステル類、セラチン、半合
成りすｔライドなどを挙げることができる。注射剤とし
て調製される場合には、液剤および懸濁剤は殺菌され、
かつ血液と等張であるのが好ましく、これら液剤、乳剤
および懸濁剤の形態に成形するのに際しては、稀釈剤と
してこの分野において慣用されているものをすべて使用
でき、例えば水、エチルアルコール、プ０ヒレンクリコ
ール、エト＋シ化イソステアリルアルコール、ポリオ十
シ化イソステアリルアルコール、ポリオ十ジエチレンツ
ルじタン脂肪酸エステル類などを挙げることができる。 なお、この場合等張性の溶液を調製するに充分な量の食
塩、ブドウ糖あるいはタリｔリンを製剤中に含有せしめ
てもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤な
どを添加してもよい。更に必要に応じて着色剤、保存剤
、香料、風味剤、甘味剤などや他の医薬品を該製剤中に
含有せしめてもよい。 かくして調製される医薬製剤（強心剤）中に含有される
べき一般式〔１〕の化合物の量はとくに限定されず広範
囲に選択されるが、通常全製剤組成物中１〜７０重量％
、好ましくは１〜３０重量％とするのがよい。 また上記強心剤の投与方法にはとくに制限はなく、各種
製剤形態、患者の年令、性別その他の条件、疾患の程度
などに応じた方法で投与される。 例えば錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤および
カプセル剤の場合には経口投与される。また注射剤の場
合には単独であるいはブドウ糖、アミノ酸などの通常の
補液と混合して静脈内投与され、さらには必要に応じて
単独で筋肉内、皮内、皮下もしくは腹腔内投与される。 坐剤の場合には直腸内投与される。 上記強心剤の投与量は用法、患者の年令、性別その他の
条件、疾患の程度などにより適宜選択されるが、通常有
効成分である一般式（１）の化合物の量は１日当り体重
１ｋ１２当り約０．０トＩｏＭｇとするのがよい。また
、投与単位形態中に有効成分を０．１〜２００ダ含有せ
しめるのがよい。 以下に参考例及び実施例を挙げる。 参考例　ｌ イサチン１００Ｆ及び無水酢酸２３０ゴを加熱還流下今
時間攪拌する。反応混合物を室温まで冷却し、さら゛に
氷浴で１時間攪拌する。析出晶を群数し、エーテルで洗
浄、つづいて乾燥後Ｎ−アｔチルイサチ：Ｊ１００．３
７　　ｆを得る。 参考例　２ Ｎ−アセチルイ寸チン１００Ｆを水２．５１に懸濁し、
水酸化ナトリウム５２１を加えて、９０〜９５°Ｃで１
時間攪拌する。この反応混合物に活性炭を加えて同温度
で３０分攪拌した後ｔライト濾過を行なう。ｐ液にｌ　
２Ｎ　、−ＨＣＩＩ　　を加えて析出晶を戸数して、４
−カルボ士シカルボスチリル４０．７７９を得る。 参考例　３ ジメチルホルムアミド９６冨ｌに、氷浴攪拌下にオ十シ
塩化リン３２２　ＩＩｌを２時間で滴下する。この反応
混合物にアセトアニリド　６７．５　ＩＩを加え、７５
°Ｃ±３°Ｃで５時間攪拌する。反応混合物を氷水中に
あけ析出晶を加数する。次にこの析出晶を水２００耐及
び濃塩酸２００耐に懸濁し、９０〜９５℃で３時間、つ
いで水浴中３時間攪拌する。 析出晶を戸数して、３−ホルミルカルボスチリル３７．
８３　ｆを得る。 参考例　４ 水酸化ナトリウム７．２Ｆ及び水３２ｍ１の水溶液中硝
酸銀１６１の水３２Ｗｌｔ水溶液を室温、攪拌下滴下す
る。次に水冷下、上記反応混合物に、４−ホルミルカル
ボスチリル？、Ｏｆを少量ずつ加える。 加え終った後、４５〜５５°Ｃで２．５時間攪拌する。 不溶物を炉夫し、ｐ液に濃塩酸を加え、析出晶を戸数し
て、３−カルボ士シカルボスチリル５．３３ｆを得る。 参考例　５ ４−カルボ士シー３，４−ジしドロカルボスチリルＩＯ
ｇ及びＮ−しド０＋シコハク酸イ三ドロ・Ｏｆをジオ士
サン２００　ｍｌに懸濁させる。つぎに水冷攪拌下・ジ
シクＯへ士ジルカルボジイミド１２．４ｆの５０ｍｔジ
オ＋サン溶液を滴下する。その後さらに９０°Ｃで４時
間加熱攪拌する。反応終了後、室温まで放冷し、析出晶
を戸失し、母液を減圧留去してコハク酸イミド　３，４
−ジしドロカルボスチリル−４−カルボ士シレート９．
５　ｆｌを得る。 実施例　１ ４−カルボ士シカルボスチリル１５Ｎ及び・トリエチル
アミ、：／１３１１７をジメチルホルムアミド１５０＋
ｌに懸濁し、０〜５°Ｃ１攪拌下、りＯル炭酸イソブチ
ル１２ｇ／を徐々に滴下する。水冷下で１時間攪拌後、
ベンジルじペラジン　＋７．６　ＩＩ及び−トリエチル
アミシロｄのジメチルホルムアニド２０ｍ１溶液を滴下
する。室温で一晩攪拌後、ＩＮ−水酸化ナトリウム水溶
液に注ぎ、クロロホルムで抽出、つづいて水洗後硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する。残渣にエーテ
ルを加えることで結晶化し析出晶を戸数、エーテル洗浄
、乾燥し、濃塩酸で塩酸塩とし、エタノール−水より再
結晶して４−（４−へ：Ｊジル−１−ピペラジニルカル
ボニル）カルボスチリルｌ塩酸塩・％水和物８．５９１
を得る。 ｍ／２６５−２６７°Ｃ（分解） 無色粉末状晶 実施例　２ ３−カルボ士シカルボスチリル１５ｆ、ｔ−リエチルア
ミン１３ｗ１．及びジメチルホルムアミド１５０ｇ／を
氷浴攪拌し、これにり０ル炭酸イソづチル１２ｔＩＩｌ
を徐々に滴下する。水冷下で３０分攪拌後、再び水浴中
にて、べ、７ジルじペラジン１７．６１のりメチルホル
ムアミド２０　ｍｌ溶液を滴下する。 滴下終了後、室温で１時間、４５〜５０°Ｃで１時間、
さらに水浴中で１時間攪拌する。析出晶を戸数し、濃塩
酸で塩酸塩とし、メタノール−水より再結晶して、３−
（４−ベンジル−１−じベラジニル力ルボニル）カルボ
スチリルｌ塩酸塩２５．Ｏｆを得る。 １１１７２９１−２９４℃（分解） 無色針状晶 実施例Ｉ及び２と同様にして、適当な出発原料を用いて
以下の各化合物を得る。 −４３一 実施例１５ コハク酸イミドカルポスチリル−４−カルボ士シレート
＋２６岬とベンジルじペラジン９３１ｖとをジメチルホ
ルムアニド２　ｄに溶解し、−昼夜攪拌する。反応混合
物に水を加え、り００ホルムで抽出し、水及び飽和食塩
水で洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留
去し、残渣にエーテルを加えて結晶化する。濃塩酸で塩
酸塩としエタノール−水より再結晶して、４−（４−ベ
ンジル−１−じペラジニル力ルボニル）カルボスチリル
１塩＃１塩・％水和物１１０Ｉ１１／を得る。 ”／２６５−２６７°Ｃ（分解） 無色粉末状晶 実施例１５と同様にして、適当な出発原料を用いて前記
実施例２〜１斗の化合物を得る。 実施例１６ ４−カルボ士シカルポスチリル０．９８１．ジシク０へ
士ジルカルボシイ三ド（ＤＣＣ）１．３ｆ及び４４− ベンジルじペラジン１．１　ｙをジオ士サン１０ｇ／に
懸濁させ、６０〜７０°Ｃで５時間攪拌する。反応終了
後溶媒を留去し、エーテルを加えて析出晶を沖失する。 母液を濃縮後、残渣にりｎｏホルムを加えて溶解し、水
及び飽和食塩水で洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥後溶
媒を留去する。濃塩酸で塩酸塩としエタノール−水より
再結晶して、４−（４−ベンジル−１−じペラジニル力
ルボニル）カルボスチリルｌ塩酸塩・％水和物３１０１
１ＩｆＩを得る。 ＃ｊ７２６５−２６７℃（分解） 無色粉末状晶 実施例１６と同様にして、適当な出発原料を用いて、前
記実施例２〜１４の化合物を得る。 実施例１７ ４−カルボ士シカルボスチリル　０．９８　Ｆ及びトリ
エチルア三シ０．８ｍｌをテトラしドロフラン（Ｔ”）
１０ｍｌに懸濁させ、室温攪拌下にジェチルり００ホス
フェート１．ＯｆのＴＨＦ１０ｍｌ溶液を滴下し室温で
３時間攪拌する。このものにベンジルじベラジ：、１１
．１１のＴＨＦ　Ｉ　Ｑｇ／ｍｌ溶液下し、室温でさら
に１０時間攪拌する。反応終了後析出晶を沖去し、母液
を濃縮して、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注
ぎ、り００ホルム抽出する。有機層を水及び飽和食塩水
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去する。 濃塩酸で塩酸塩としエタノール−水より再結晶して、今
一（４−ベンジル−１−じペラジニル力ルボニル）カル
ボスチリルＩ塩酸塩・％水和物０．９５１を得る。 ｍｆｉ２６５〜２６７°Ｃ（分解） 無色粉末状晶 実施例１７と同様にして、適当な出発原料を用いて、前
記実施例２〜１４の化合物を得る。 実施例１８ エタノールｌ　００　ｍｌに４−エト牛ジカルボニルカ
ルボスチリル　１．９８ｆ、ナトリウムエチラート０．
５　ｆ及びベンジルピペラジン１．６１を加えてオート
クレーブ中、１１０気圧、１４０〜１５０°Ｃにて６時
間反応させる。冷接、反応液を減圧下濃縮し、残渣をり
００ホルム２００ｄに溶解させ、１％炭酸カリウム水溶
液、希塩酸及び水で順次洗浄したのち、硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶媒案留来し、残渣を濃塩酸で塩酸塩としエ
タノール−水から再結晶して、４−（４−ベンジＩＬＬ
−１−じペラジニル力ルボニル）カルボスチリル１塩酸
塩・％水和物２７５１ｑを得る。 ｍ戸２６５−２６７°Ｃ（分解） 無色粉末状晶 実施例！８と同様にして、適当な出発原料を用いて、前
記実施例２〜１４の化合物を得る。 実施例１９ ４−カルボ士シカルボスチリル　１．８８　ｆを塩化メ
チレン２００　ｍｌに懸濁させ、じリジシ２−を加えた
のち、攪拌下、０〜２０°Ｃに内温を保ちつつ塩化チオ
ニル１．４１！を滴下する。滴下終了後同温度で１時間
攪拌し、ベンジルじペラジン　１．７４９の塩化メチレ
：７１０　ｍｌ溶液を滴下する。滴下終了後、室温で４
時間攪拌する。反応液を炭酸カリウム水溶液で十分に洗
浄し、水及び希塩酸で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
たのち、溶媒を留去する。 得られた残渣を濃塩酸で塩酸塩としエタノール−水から
再結晶して、４−（４−ベンジル−１−じペラジニル力
ルボニル）カルボスチリル１塩酸塩・％水和物３００′
ｑを得る。 ｍｆｉ２６５−２６７°Ｃ（分解） 無色粉末状晶 実施例１９と同様にして、適当な出発原料を用いて、前
記実施例２〜１４の化合物を得る。 実施例２０ β−り００フエネトール０．７Ｆ及びヨウ化ナトリウム
０．８２をジメチルホルムアミド１５耐に懸濁し、３０
〜３５℃で１．５時間攪拌する。この反応混合物に４−
（ｌ−じペラジニル力ルボニル）カルボスチリル１．Ｏ
ｆ及び炭酸カリウム１．２１を加えて６０〜７０℃で８
時間攪拌する。反応混合物をＩＮ水酸化ナトリウム水溶
液中に注ぎ込み＼り００ホルムで抽出する。水洗後飽和
食塩水で洗浄し、その後硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を留去する。残渣をメタノールに溶解し、塩酸及びエタ
ノールを加えて塩酸塩とし、エタノール−水より再結晶
して、４−（４−（２−フェノ中ジエチル）−１−じペ
ラジニル力ルボニル〕カルボスチリルｌ塩酸塩・ｌ水和
物０．４６　ｆを得る。 ｍ戸２５５．５〜２５７℃（分解） 無色針状晶 実施例２０と同様にして前記実施例１〜５及び７〜１０
．１３．１４の化合物を得る。 実施例２Ｉ ４−（４−ベンジル−１−じペラジニル力ルポ二ん）カ
ルボスチリル７．７１をエタノール−水（エタノール／
水−’／、）　４００　ｍｌに懸濁し、濃塩酸を加えて
塩酸塩とする。１０％パラジウム炭素１．６１を用い、
４５〜５０°Ｃで水素化分解を行う。理論量の水素を吸
収後、触媒を沖夫、炉液を減圧留去し、残渣にア七トン
を加えることで結晶化し、エタノール−水より再結晶し
て、４−（ｌ−じペラジニル力ルボニル）カルボスチリ
ル１ｍ酸塩・ｌ水和物　６．７２１を得る。 ｍ戸３００°Ｃ以上 無色針状晶 実施例２１と同様にして適当な出発原料を用いて前記実
施例８及び１２の化合物を得る。 実施例２２ ４−カルボ十シカルポスチリル　１５．Ｉ　　Ｉ及びト
リエチルアミン１３ｍ１をジメチルホルムアミド１５０
ｍ／に懸濁し、水冷攪拌下、り０ル炭酸イソブチル１２
ｇ／を徐々に滴下する。同温度で１時間攪拌後、４−（
２−フェノ＋ジエチル）ヒペラジン　２０．６１及びト
リエチルアミン６　ｍｌのりメチルホルムアミド２０ｇ
／溶液を滴下する。室温で一晩攪拌後、ＩＡ’水酸化ナ
トリウム水溶液中に注ぎ、りｏｏホルムで抽出し、つづ
いて水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去す
る。析出晶を乾燥し濃塩酸で塩酸塩としエタノール−水
より再結晶して４−（４−（２−フェノ＋ジエチル）−
ｍ戸２５５．５〜２５７℃（分解） 無色針状晶 実施例２３ ４−カルボ士シー３．４−ジしドロカルボスチリル　１
５．Ｉｆ及びトリエチルアミン１５１１／をジメチルホ
ルムアミド１５０　ｍｌに懸濁し、０〜５°ｃ１撹拌下
、り０ル炭酸イソづチル１２ｇ１を徐々に滴下する。室
温で１時間攪拌後、ベンジルごペラジン１７．６９及び
トリエチルアミン６　ｍｌのジメチルホルムア三Ｆ２０
ｔｘｌ溶液を滴下する。室温で一晩攪拌後、ＩＮ水酸化
ナトリウム水溶液に注ぎ、クロロホルムで抽出、つづい
て水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する
。析出晶を乾燥し濃塩酸で塩酸塩としエタノール−水よ
り再結晶して４−（４−ベシジンー１−ヒペラジニル力
ルボニル）−３，４−ジしドロカルボスチリル・１塩酸
塩・３ろ水和物７．６１を得る。 ｍｌ’　２６５．５〜２６７°Ｃ（分解）無色針状晶 （以　上）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ■　一般式 〔式中Ｒは水素原子、低級アル千ル基、フェニル基、フ
   ェノ千シ低級アル千ル基、ベシゾイル低級アル干ル基又
   はフェニル低級アル千ル基を示す。カルボスチリル骨格
   の３位と４位の結合は、−重結合又は二重結合を示す。 〕で表わされるカルボスチリル誘導体及びその塩。