JPH02123359A - 感光性樹脂組成物および感光性エレメント - Google Patents
感光性樹脂組成物および感光性エレメントInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、印刷配線板製造、金属精密加工等に使用され
る保護膜形成用の感光性樹脂組成物に関する。
る保護膜形成用の感光性樹脂組成物に関する。
(従来の技術)
従来、印刷配線板業界において、ソルダマスク。
化学めっき用レジスト等に使用可能な優れた特性を有す
る感光性樹脂組成物が知られている。
る感光性樹脂組成物が知られている。
ソルダマスクの主な目的は、ハンダ付は時のノ\ンダ付
は領域を限定し、ハンダブリッジ等を防ぐこと、裸の銅
導体の腐蝕を防止することおよび長期にわたって導体間
の電気絶縁性を保持することである。
は領域を限定し、ハンダブリッジ等を防ぐこと、裸の銅
導体の腐蝕を防止することおよび長期にわたって導体間
の電気絶縁性を保持することである。
ところで、通常ソルダマスクとしては、エポキシ樹脂、
アミノプラスト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成分とする印
刷マスクが用いられている。
アミノプラスト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成分とする印
刷マスクが用いられている。
しかしながら、近年、印刷配線板の配線密度が高まると
ともに導体間の電気絶縁性の要求も激しくなり、それに
用いるソルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要
求され、スクリーン印刷方式のものでは対処できなくな
っている。
ともに導体間の電気絶縁性の要求も激しくなり、それに
用いるソルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要
求され、スクリーン印刷方式のものでは対処できなくな
っている。
そこで、写真法(像的露光に続く現像により画像を形成
する方法)で厚膜(通當導体上25μmか望まれている
)、かつ・J法精度の優れた胃信頼性のソルダマスクを
形成することのできる感光性樹脂組成物の出現が望まれ
ている。
する方法)で厚膜(通當導体上25μmか望まれている
)、かつ・J法精度の優れた胃信頼性のソルダマスクを
形成することのできる感光性樹脂組成物の出現が望まれ
ている。
また、ソルダマスクが形成された印刷配線板は、打ち抜
き機によって最終的に必要とされる寸法に打ち抜かれる
。このため、打ち抜き時の衝撃に耐性を有する、可撓性
のあるソルダマスクを形成できる感光性樹脂組成物であ
ることが望まれている。
き機によって最終的に必要とされる寸法に打ち抜かれる
。このため、打ち抜き時の衝撃に耐性を有する、可撓性
のあるソルダマスクを形成できる感光性樹脂組成物であ
ることが望まれている。
ところで、従来、ソルダマスク形成用感光性樹脂組成物
としては、例えば、 (1)アクリル系ポリマーおよび光重合性モノマーを主
成分とする感光性樹脂組成物(特開昭53−56018
号公報、特開昭54−1018号公報等)、 (2)主鎖にカルコン基を何する感光性エポキシ樹脂お
よびエポキシ樹脂硬化剤を主成分とする耐熱性の良好な
感光性樹脂組成物(特開昭54−82073号公報、特
開昭58−62636号公報等)、 (3)、エポキシ基を含有するノボラック型エポキシア
クリレ−1・および光重合開始剤を主成分とする厚膜硬
化可能なソルダマスク形成用感光性樹脂組成物(特開昭
61−272号公報等)が知られている。
としては、例えば、 (1)アクリル系ポリマーおよび光重合性モノマーを主
成分とする感光性樹脂組成物(特開昭53−56018
号公報、特開昭54−1018号公報等)、 (2)主鎖にカルコン基を何する感光性エポキシ樹脂お
よびエポキシ樹脂硬化剤を主成分とする耐熱性の良好な
感光性樹脂組成物(特開昭54−82073号公報、特
開昭58−62636号公報等)、 (3)、エポキシ基を含有するノボラック型エポキシア
クリレ−1・および光重合開始剤を主成分とする厚膜硬
化可能なソルダマスク形成用感光性樹脂組成物(特開昭
61−272号公報等)が知られている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記(1)の感光性樹脂組成物によって
は、フィルム性付与のためアクリル系ポリマーを多量に
使用しているため、硬化被膜の耐熱性が十分でなく、ま
た打ち抜き加工時に硬化被膜にクラックが発生するとい
う問題点があった。
は、フィルム性付与のためアクリル系ポリマーを多量に
使用しているため、硬化被膜の耐熱性が十分でなく、ま
た打ち抜き加工時に硬化被膜にクラックが発生するとい
う問題点があった。
また上記(2)の耐熱性の良好な感光性樹脂組成物にあ
っては、打ち抜き加工性には優れているが、光二量化型
感光性樹脂組成物は感度が低いため、厚膜のレジスト形
成が困難であり、さらに現像液としてシクロヘキサノン
等の可燃性有機溶剤を使用する必要があるため安全上も
好ましくないという問題点があった。
っては、打ち抜き加工性には優れているが、光二量化型
感光性樹脂組成物は感度が低いため、厚膜のレジスト形
成が困難であり、さらに現像液としてシクロヘキサノン
等の可燃性有機溶剤を使用する必要があるため安全上も
好ましくないという問題点があった。
さらに、上記(3)の感光性樹脂組成物にあっては、耐
熱製には優れているが、打ち抜き時に硬化被膜にクラッ
クが発生し易く、電気絶縁性の低下を招くという問題点
かあった。
熱製には優れているが、打ち抜き時に硬化被膜にクラッ
クが発生し易く、電気絶縁性の低下を招くという問題点
かあった。
本発明は、」1記問題点に鑑み、1. 1. 11−リ
クロルエタン等の難燃性現像液により現像でき、解像度
および耐熱性にも優れ、さらに打ち抜き加工時の衝撃に
も耐性を有する可撓性のある高信頼性ソルダマスクを形
成することのできる感光製樹脂組成物およびこれを用い
た感光性エレメントを提供することを目的とする。
クロルエタン等の難燃性現像液により現像でき、解像度
および耐熱性にも優れ、さらに打ち抜き加工時の衝撃に
も耐性を有する可撓性のある高信頼性ソルダマスクを形
成することのできる感光製樹脂組成物およびこれを用い
た感光性エレメントを提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂のヒドロキ
シル基1当量に対して0.01〜0. 5当量のイソシ
アナートエチルメタクリレートを反応させて得られる不
飽和化合物(A)、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和
カルボン酸とを酸当量/エポキシ当量比が0.01〜0
. 7の範囲で反応させて得られる不飽和化合物(B)
ならびに活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤お
よび(または)増感剤系(C)を含有してなる感光性樹
脂組成物およびこれを用いた感光性エレメントに関する
。
シル基1当量に対して0.01〜0. 5当量のイソシ
アナートエチルメタクリレートを反応させて得られる不
飽和化合物(A)、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和
カルボン酸とを酸当量/エポキシ当量比が0.01〜0
. 7の範囲で反応させて得られる不飽和化合物(B)
ならびに活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤お
よび(または)増感剤系(C)を含有してなる感光性樹
脂組成物およびこれを用いた感光性エレメントに関する
。
本発明になる感光製樹脂組成物は、必須成分として、ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂のヒドロキシル基1当量
に対して0.01〜0.5当量のイソシアナートエチル
メタクリレートを反応させて得られる不飽和加工物(A
)を含有する。
スフェノールA型エポキシ樹脂のヒドロキシル基1当量
に対して0.01〜0.5当量のイソシアナートエチル
メタクリレートを反応させて得られる不飽和加工物(A
)を含有する。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂はビスフェノールAと
エピクロルヒドリンとの縮合反応により得ることができ
る。
エピクロルヒドリンとの縮合反応により得ることができ
る。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、例えば油化
シェルエポキシ(株)製、エピコート1001(軟化点
64℃、ポキン当量450〜500、分子量約900)
1.エピコート1002(軟化点78℃、エポキシ当量
600〜7001分子量約1060)、エピコート10
55 (軟化点93℃、エポキシ当量800〜9001
分子量1350)、エピコート1007 (軟化点12
8℃。
シェルエポキシ(株)製、エピコート1001(軟化点
64℃、ポキン当量450〜500、分子量約900)
1.エピコート1002(軟化点78℃、エポキシ当量
600〜7001分子量約1060)、エピコート10
55 (軟化点93℃、エポキシ当量800〜9001
分子量1350)、エピコート1007 (軟化点12
8℃。
エポキシ当量1750〜2200.分子量約2900)
、エピコート1009 (軟化点144℃。
、エピコート1009 (軟化点144℃。
エポキシ当量2400〜3300.分子量約3750)
、エピコート1010 (軟化点〜、エポキン当量30
00〜5000.分丁量約550CI)等が挙げられる
(なお、前記の軟化点、−エポキシ当量および分子量の
値は油化シェルエポキシ(株)樹脂硬化剤エビキュア[
F]、エポメート[F](ls/87.6)に載せられ
ているものを示した)。これらのビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂は、重合度が20未満のものであって、常温
で固体のものが好ましい。
、エピコート1010 (軟化点〜、エポキン当量30
00〜5000.分丁量約550CI)等が挙げられる
(なお、前記の軟化点、−エポキシ当量および分子量の
値は油化シェルエポキシ(株)樹脂硬化剤エビキュア[
F]、エポメート[F](ls/87.6)に載せられ
ているものを示した)。これらのビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂は、重合度が20未満のものであって、常温
で固体のものが好ましい。
イソシアナートエチルメタクリレートは、次式で示され
る構造を持ち、昭和ロープイア社等から市販(商品名M
OI)されている。
る構造を持ち、昭和ロープイア社等から市販(商品名M
OI)されている。
CH3
CH2=C−C0O−CH2−CH2−NCOイソシア
ナートエチルメタクリレートは、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂のヒドロキシル基1当量に対して0.01〜
0.5当量の範囲で使用される。
ナートエチルメタクリレートは、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂のヒドロキシル基1当量に対して0.01〜
0.5当量の範囲で使用される。
イソシアナートエチルメタクリレ−1・の使用量かC1
,(、)1当量末八では、硬化被膜の物性、例えは耐熱
製、耐溶剤性が十分てない。
,(、)1当量末八では、硬化被膜の物性、例えは耐熱
製、耐溶剤性が十分てない。
一方、イソシアナートエチルメタクリレートの使用量が
0.5当量を越えると、硬化被膜に可撓製が付与されず
、打ち抜き加工時にクラックが発生する。
0.5当量を越えると、硬化被膜に可撓製が付与されず
、打ち抜き加工時にクラックが発生する。
なお、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とイソシアナー
トエチルメタクリレートの反応の際、3級アミン、有機
スズ化合物のような反応促進剤を用いると合成時間を短
縮できる。
トエチルメタクリレートの反応の際、3級アミン、有機
スズ化合物のような反応促進剤を用いると合成時間を短
縮できる。
また、ゲル化防止のため、重合禁止剤を用いる必要があ
る。
る。
次に、本発明になる感光性樹脂組成物は、必須成分とし
てノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸とを酸
当量/エポキシ当量比が、0.01〜0.7の範囲で反
応させて得られる不飽和化合物(B)を含有する。
てノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸とを酸
当量/エポキシ当量比が、0.01〜0.7の範囲で反
応させて得られる不飽和化合物(B)を含有する。
本発明に用いられるノボラック型エポキシ樹脂は、例え
ばオルソクレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ル等とアルデヒドを酸触媒の存在下に反応させて1wら
れるノボラック型樹脂のフェノール性水酸基に、アルカ
リの存在下にエピクロルヒドリンを反応させて得られる
もので、商業的にも入手可能である。
ばオルソクレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ル等とアルデヒドを酸触媒の存在下に反応させて1wら
れるノボラック型樹脂のフェノール性水酸基に、アルカ
リの存在下にエピクロルヒドリンを反応させて得られる
もので、商業的にも入手可能である。
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、
例えばチバ・ガイギー社製、アラルダイトECN129
9 (軟化点99℃、エポキシ当量230) 、ECN
1280 (軟化点80’C、エポキシ当1230)
、ECN1273 (軟化点73℃、エポキシ当量23
0)、日本化薬(株)製、EOCN104 (軟化点9
0〜1oo℃、エポキシ当ff1225〜245) 、
ECN123 (軟化点80〜90℃、エポキシ当量2
15〜235)、ECN127 当量215〜235)、EOCNlol (軟化点65
〜69°c1エポキシ当量205〜225)等が挙げら
れる。
例えばチバ・ガイギー社製、アラルダイトECN129
9 (軟化点99℃、エポキシ当量230) 、ECN
1280 (軟化点80’C、エポキシ当1230)
、ECN1273 (軟化点73℃、エポキシ当量23
0)、日本化薬(株)製、EOCN104 (軟化点9
0〜1oo℃、エポキシ当ff1225〜245) 、
ECN123 (軟化点80〜90℃、エポキシ当量2
15〜235)、ECN127 当量215〜235)、EOCNlol (軟化点65
〜69°c1エポキシ当量205〜225)等が挙げら
れる。
フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、例えば
シェル社製、エピコート154(エポキシ当量176〜
181)、ダウケミカル社製、DEN431 (エポ
キシ当量172〜179)、DEN438(エポキシ当
量175〜182)、東部化成(株)製、YDPN−6
38(エポキシ当量170〜190) 、YDPN−6
01(エポキシ当量180〜220) 、YDPN−6
02(エポキシ当量180〜220)、等が挙げられる
。
シェル社製、エピコート154(エポキシ当量176〜
181)、ダウケミカル社製、DEN431 (エポ
キシ当量172〜179)、DEN438(エポキシ当
量175〜182)、東部化成(株)製、YDPN−6
38(エポキシ当量170〜190) 、YDPN−6
01(エポキシ当量180〜220) 、YDPN−6
02(エポキシ当量180〜220)、等が挙げられる
。
ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂として
は、例えば日本化薬(株)製、BREN(エポキシ当量
270〜300、臭素含有m35〜37%、軟化点80
〜90℃)等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ
樹脂等が挙げられる。
は、例えば日本化薬(株)製、BREN(エポキシ当量
270〜300、臭素含有m35〜37%、軟化点80
〜90℃)等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ
樹脂等が挙げられる。
ノボラック型エポキシ樹脂の分子量は5000以下であ
ることが好ましい。
ることが好ましい。
不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸
、β−フリルアクリル酸、β−スチリルアクリル酸、α
−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等か挙げられる。
、β−フリルアクリル酸、β−スチリルアクリル酸、α
−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等か挙げられる。
本発明において、これらのノボラック型エポキシ樹脂と
不飽和カルボン酸との付加反応は、酸当量/エポキシ当
量比が0.01〜0. 7の範囲で7+’; を去によ
り行われる。
不飽和カルボン酸との付加反応は、酸当量/エポキシ当
量比が0.01〜0. 7の範囲で7+’; を去によ
り行われる。
酸当量/エポキシ当量比が0.01未満ては、イメージ
露光後の現像処理により光硬化被膜が膨潤しやすい。
露光後の現像処理により光硬化被膜が膨潤しやすい。
また、酸当量/エポキシ当量比が0. 7を越える場合
には、硬化被膜に可撓性がなく、打抜き時にクラックが
発生する。
には、硬化被膜に可撓性がなく、打抜き時にクラックが
発生する。
ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との付加
反応物は、例えば上記ノボラック型エポキシ樹脂をメチ
ルエチルケトン、メチルセロソルブアセテート、エチル
セロソルブアセテート、シクロヘキサノン等の不活性有
機溶剤に溶解し、触媒としてl・ジエチルアミノ、トリ
ーn−ブチルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン等
の3級アミン、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、
塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等の4級アンモニ
ウム塩なとを、また重合禁止剤としてハイドロキノン、
p−メトキシフェノール等を用い、70〜110℃で上
記不飽和カルホン酸と上記の当量比の範囲で撹拌反応さ
せることにより得られる。
反応物は、例えば上記ノボラック型エポキシ樹脂をメチ
ルエチルケトン、メチルセロソルブアセテート、エチル
セロソルブアセテート、シクロヘキサノン等の不活性有
機溶剤に溶解し、触媒としてl・ジエチルアミノ、トリ
ーn−ブチルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン等
の3級アミン、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、
塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等の4級アンモニ
ウム塩なとを、また重合禁止剤としてハイドロキノン、
p−メトキシフェノール等を用い、70〜110℃で上
記不飽和カルホン酸と上記の当量比の範囲で撹拌反応さ
せることにより得られる。
本発明になる感光性樹脂組成物は、活性光により遊離ラ
ジカルを生成する増感剤および(または)増感剤系を必
須成分(C)として含有する。
ジカルを生成する増感剤および(または)増感剤系を必
須成分(C)として含有する。
増感剤としては、置換または非置換の多核キノン類、例
えば、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、1.2−ベ
ンズアントラキノン、2゜3−ジフェニルアントラキノ
ン等、ジアセチルベンジル等のケトアルドニル化合物、
ベンゾイン、ビバロン等のα−ケタルドニルアルコール
類およびエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイ
ン類、例えばα−フェニル−ベンゾイン、α、α−ジェ
トキシアセトフェノン等、ベンゾフェノン、4.4′−
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン
類、2−メチルチオキサントン、2.4−ジエチルチオ
キサントン、2−タロルチオキサントン、2−イソプロ
ピルチオキサントン、2−エチルチオキサントン等のチ
オキサントン類、2−メチル−1−[4−(メチルチオ
)フェニル」−2−モルホリノ−プロパノン−1等が用
いられ、こイ1らは単独でも組み合わせて使用しても良
い。
えば、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、1.2−ベ
ンズアントラキノン、2゜3−ジフェニルアントラキノ
ン等、ジアセチルベンジル等のケトアルドニル化合物、
ベンゾイン、ビバロン等のα−ケタルドニルアルコール
類およびエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイ
ン類、例えばα−フェニル−ベンゾイン、α、α−ジェ
トキシアセトフェノン等、ベンゾフェノン、4.4′−
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン
類、2−メチルチオキサントン、2.4−ジエチルチオ
キサントン、2−タロルチオキサントン、2−イソプロ
ピルチオキサントン、2−エチルチオキサントン等のチ
オキサントン類、2−メチル−1−[4−(メチルチオ
)フェニル」−2−モルホリノ−プロパノン−1等が用
いられ、こイ1らは単独でも組み合わせて使用しても良
い。
増感剤系としては、例えは2,4.5−トリアノルイミ
ダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール、ロ
イコクリスタルバイオレッ]・、トリス(4−ジエチル
アミノ−2−メチルフェニル)メタン等との組合せが用
いられる。
ダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール、ロ
イコクリスタルバイオレッ]・、トリス(4−ジエチル
アミノ−2−メチルフェニル)メタン等との組合せが用
いられる。
また、それ自体で光開始性はないが、上記物質と組合せ
て用いることにより全体として光開始性能のより良好な
増感剤系(例えば、ベンゾフェノンに組合せて使用する
トリエタノールアミン等の3級アミン、チオキサントン
類に組合せて使用するジメチルアミノ安息香酸イソアミ
ル、N−メチルエチルケトンまたはビスエチルアミノベ
ンゾフェノン等)となるような添加剤を用いることもて
きる。
て用いることにより全体として光開始性能のより良好な
増感剤系(例えば、ベンゾフェノンに組合せて使用する
トリエタノールアミン等の3級アミン、チオキサントン
類に組合せて使用するジメチルアミノ安息香酸イソアミ
ル、N−メチルエチルケトンまたはビスエチルアミノベ
ンゾフェノン等)となるような添加剤を用いることもて
きる。
本発明になる感光製樹脂組成物では、不飽和化合物(A
)100重量部に対して、不飽和化合物(B)を1〜2
00重量部、また不飽和化合物(A)と不飽和化合物(
B)の混合物100重量部に対して、増感材および(ま
たは)増感剤系(C)をIJ、1〜30市量部の範囲で
用いることか、解像度、ハンタ耐熱性および可撓性に優
れたソルダマスクを形成する上で好ましい。
)100重量部に対して、不飽和化合物(B)を1〜2
00重量部、また不飽和化合物(A)と不飽和化合物(
B)の混合物100重量部に対して、増感材および(ま
たは)増感剤系(C)をIJ、1〜30市量部の範囲で
用いることか、解像度、ハンタ耐熱性および可撓性に優
れたソルダマスクを形成する上で好ましい。
さらに、本発明になる感光性樹脂組成物は、他の成分と
して光重合性の化合物を含有しても良い。
して光重合性の化合物を含有しても良い。
そのような光重合性の化合物としては、例えば、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレ−I・、メリメチルへキサメチレンジ
イソシアナート/2−ヒドロキンエチルアクリレ−)
(1/2モル比)反応物イソシアナートエチルメタクリ
レート/水(2/1モル比)反応物等が挙げられる。ま
た特開昭53−56018号公報に示される光重合性化
合物を用いることもできる。これらは、本発明の効果を
害しない範囲で使用できるが、不飽和化合物(A)10
0重量部に対して30重量部以下とすることが好ましい
。
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレ−I・、メリメチルへキサメチレンジ
イソシアナート/2−ヒドロキンエチルアクリレ−)
(1/2モル比)反応物イソシアナートエチルメタクリ
レート/水(2/1モル比)反応物等が挙げられる。ま
た特開昭53−56018号公報に示される光重合性化
合物を用いることもできる。これらは、本発明の効果を
害しない範囲で使用できるが、不飽和化合物(A)10
0重量部に対して30重量部以下とすることが好ましい
。
さらに、本発明になる感光性樹脂組成物は、微粒状充填
剤を含有しても良い。
剤を含有しても良い。
微粒状充填剤としては、例えばタルク、シリカ、酸化チ
タン、クレイ、炭酸カルシウム、念水月酸、水酸化アル
ミニウム、アルミナ、硫酸バリウム、三酸化アンチモン
、炭酸マグネシウム、マイカ粉、珪酸アルミニウム、珪
酸マグネシウム等が用いられる。
タン、クレイ、炭酸カルシウム、念水月酸、水酸化アル
ミニウム、アルミナ、硫酸バリウム、三酸化アンチモン
、炭酸マグネシウム、マイカ粉、珪酸アルミニウム、珪
酸マグネシウム等が用いられる。
微粒状充填剤の粒径は、解像度、硬化被膜の密着性等の
低下防止の点から、好ましくは0.01〜10μm、よ
り好ましくは0.01〜1.5μmである。
低下防止の点から、好ましくは0.01〜10μm、よ
り好ましくは0.01〜1.5μmである。
微粒状充填剤は、感光性樹脂組成物中に均一に分散され
ていることが好ましい。
ていることが好ましい。
充填剤と上記光重合性不飽和化合物との間の接着力を増
すために、充填剤の表面を、水酸基、アミノ基、エポキ
シ基、ビニル基等の官能基を有するシランカップリング
剤で処理することもてきる。
すために、充填剤の表面を、水酸基、アミノ基、エポキ
シ基、ビニル基等の官能基を有するシランカップリング
剤で処理することもてきる。
シランカップリング剤としては、例えばγ−アミノプロ
ピルトリエトキシンラン、β−アミノエチル−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドオキシプ
ロピノ則・リメトキンシラン、γ−メタアクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン等ρ哨(げられる。
ピルトリエトキシンラン、β−アミノエチル−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドオキシプ
ロピノ則・リメトキンシラン、γ−メタアクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン等ρ哨(げられる。
さらに、本発明になる感光性樹脂組成物は、他の副次的
成分を含有しても良い。
成分を含有しても良い。
副次的成分としては、高分子結合剤、熱重合防止剤、染
料、顔料、塗工性向上剤、消泡剤、難燃剤、密着性向上
剤、エポキシ樹脂の潜在性硬化剤等が挙げられる。
料、顔料、塗工性向上剤、消泡剤、難燃剤、密着性向上
剤、エポキシ樹脂の潜在性硬化剤等が挙げられる。
耐熱性の点からエポキシ樹脂の潜在性硬化剤を含有させ
ることが好ましい。
ることが好ましい。
本発明になる感光性樹脂組成物は、デイツプコート法、
フローコート法、スクリーン印刷法等の常法により、加
工保護すべき基板上に直接塗工し、厚さ10〜150μ
mの感光層を容易に形成することができる。
フローコート法、スクリーン印刷法等の常法により、加
工保護すべき基板上に直接塗工し、厚さ10〜150μ
mの感光層を容易に形成することができる。
塗工にあたり、必要ならば組成物を溶剤に溶解させて行
うこともてきる。
うこともてきる。
溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルセ
ロソルブアセテ−1・、エチルセロソルブアセテ−1・
、ンクロヘキサノン、メチルセロソルブ、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテ−1−等を挙けるこ
とができる。
ロソルブアセテ−1・、エチルセロソルブアセテ−1・
、ンクロヘキサノン、メチルセロソルブ、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテ−1−等を挙けるこ
とができる。
また、この78 mを、例えはポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリイミドフィルム等のフィルム上に、
ナイフコート法、ロールコート法等により塗布し、乾燥
して得られる感光性エレメントを、熱ロールを用いて基
板上に加熱加圧積層して、感光層を形成することもでき
る。この際、基板が導体配線ラインの形成された印刷配
線板等の10μm以上の凹凸を有する場合には、空気の
巻込みを防ぐため、200 mm1g以下の真空下で積
層することが好ましい。このための装置としては、例え
ば特公昭55−13341号公報に記載される積層装置
が用いられる。なお、活性光に不透明な支持体フィルム
を用いる場合には、露光時に支持体フィルムを剥離する
必要がある。
ートフィルム、ポリイミドフィルム等のフィルム上に、
ナイフコート法、ロールコート法等により塗布し、乾燥
して得られる感光性エレメントを、熱ロールを用いて基
板上に加熱加圧積層して、感光層を形成することもでき
る。この際、基板が導体配線ラインの形成された印刷配
線板等の10μm以上の凹凸を有する場合には、空気の
巻込みを防ぐため、200 mm1g以下の真空下で積
層することが好ましい。このための装置としては、例え
ば特公昭55−13341号公報に記載される積層装置
が用いられる。なお、活性光に不透明な支持体フィルム
を用いる場合には、露光時に支持体フィルムを剥離する
必要がある。
こうして形成された感光層の露光および現像は、常法に
より行われる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高
圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接また
はポリエチレンテレフタレートフィルム等の透明フィル
ムを介して、ネガマスクを通しで像的に露光する。
より行われる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高
圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接また
はポリエチレンテレフタレートフィルム等の透明フィル
ムを介して、ネガマスクを通しで像的に露光する。
露光後、透明フィルムが残っている場合には、これを剥
離した後現像する。
離した後現像する。
現像処理に用いられる現像液は、露光部にダメージを与
えず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種
類については特に制限はない。
えず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種
類については特に制限はない。
現像液としては、1. 1. 1−トリクロルエタンを
主成分とする難燃性の洗浄剤、例えばスリーワンEX(
東亜合成化学(株)製)を使用することができる。
主成分とする難燃性の洗浄剤、例えばスリーワンEX(
東亜合成化学(株)製)を使用することができる。
上記の如き方法で得られた像的な保護被膜は、通常のエ
ツチング、めっき等のための耐蝕膜としての特性を持っ
ているが、現像後に活性光の露光および80〜200°
Cでの加熱処理を行うことにより、密着性、耐熱性、耐
溶剤等の特性を向上でき、ソルダマスクとしての特性を
高定する永久的な保護膜が得られる。これらの活性光の
露光および加熱処理の順序はどちらが先でも良い。
ツチング、めっき等のための耐蝕膜としての特性を持っ
ているが、現像後に活性光の露光および80〜200°
Cでの加熱処理を行うことにより、密着性、耐熱性、耐
溶剤等の特性を向上でき、ソルダマスクとしての特性を
高定する永久的な保護膜が得られる。これらの活性光の
露光および加熱処理の順序はどちらが先でも良い。
本発明になる感光性樹脂組成物を用いて得られる保護被
膜は、トリクレン、メチルエチルケトン、イソプロヒル
アルコール、トルエン等のh t?i溶斉りに十分耐え
、酸性水/8液またはアルカリ水溶液にも耐える。
膜は、トリクレン、メチルエチルケトン、イソプロヒル
アルコール、トルエン等のh t?i溶斉りに十分耐え
、酸性水/8液またはアルカリ水溶液にも耐える。
さらに、耐熱性9機械的特性にも優れているので、エツ
チング、めっき等のための耐蝕膜、ソルダマスク等の永
久的な保護膜として使用することができる。
チング、めっき等のための耐蝕膜、ソルダマスク等の永
久的な保護膜として使用することができる。
さらに、本発明になる感光性樹脂組成物を用いて形成さ
れる被膜は優れた化学的、物理的特性を有し、このため
多層印刷配線板の層間絶縁層、感光性接着剤、塗料、プ
ラスチックレリーフ、印刷板材料、金属精密加工材料等
にも用いることができる。
れる被膜は優れた化学的、物理的特性を有し、このため
多層印刷配線板の層間絶縁層、感光性接着剤、塗料、プ
ラスチックレリーフ、印刷板材料、金属精密加工材料等
にも用いることができる。
また、本発明になる感光性樹脂組成物を用いることによ
り、1,1.1−トリクロルエタンを主成分とする難燃
性現像液により現像でき、解像度。
り、1,1.1−トリクロルエタンを主成分とする難燃
性現像液により現像でき、解像度。
耐熱性および可撓性に優れたソルダマスクを形成するこ
とができるとともに、写真法により厚膜のソルダマスク
を形成することできる。
とができるとともに、写真法により厚膜のソルダマスク
を形成することできる。
(実施例)
次に、本フコ明の実施例を説明する。
なお、以下において「部」とあるのは、1重量部」を意
味するものとする。
味するものとする。
実施例1
(a)不飽和化合物(A)の製造
ビスフェノールA型エポキシ樹脂として、油化シェルエ
ポキシ社製エピコート1009(軟化点144℃、分子
量的3750)75部をジエチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート75部に加熱溶解した後、イソシ
アナートエチルメタクリレート10部(エビコー)10
09のヒドロキシル基1当量に対してイソシアナート基
0,25当量)、ジブチルチンジラウレート0.2部を
加え、60°Cて5時間反応させて不飽和化合物(A)
を得た。
ポキシ社製エピコート1009(軟化点144℃、分子
量的3750)75部をジエチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート75部に加熱溶解した後、イソシ
アナートエチルメタクリレート10部(エビコー)10
09のヒドロキシル基1当量に対してイソシアナート基
0,25当量)、ジブチルチンジラウレート0.2部を
加え、60°Cて5時間反応させて不飽和化合物(A)
を得た。
この不飽和化合物(A)は、赤外分析の結果、遊離のイ
ソシアナ−1・基が消失していることか確認された。
ソシアナ−1・基が消失していることか確認された。
(b)不飽和化合物(B)の製造
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、[
1本化りiこン土製EOCN −1i−+4 (エホキ
/当量230)92部をジエチレンクリコールモノエチ
ルエーテルアセテート60部に加熱溶解した後、アクリ
ル酸4.3部(酸当量/エポキシ当量=0.15)、塩
化ベンジルトリメチルアンモニウム0.03部およびp
−メトキシフェノール0゜03部の混合物を反応温度を
60°Cに保ちながら約1時間かけて滴下し、さらに8
0℃に昇温した後約15時間撹拌を続け、酸価1以下の
不飽和化合物(B)を得た。
1本化りiこン土製EOCN −1i−+4 (エホキ
/当量230)92部をジエチレンクリコールモノエチ
ルエーテルアセテート60部に加熱溶解した後、アクリ
ル酸4.3部(酸当量/エポキシ当量=0.15)、塩
化ベンジルトリメチルアンモニウム0.03部およびp
−メトキシフェノール0゜03部の混合物を反応温度を
60°Cに保ちながら約1時間かけて滴下し、さらに8
0℃に昇温した後約15時間撹拌を続け、酸価1以下の
不飽和化合物(B)を得た。
(C)感光性樹脂組成物の調製
(a)で得られた不飽和化合物(A)190部と、(b
)で得られた不飽和化合物(B)60部との混合物25
0部に、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニ
ルコー2−モルホリノープロペン−110部、4.4”
−ビスジエチルアミノベンゾフェノン1部、フタロシア
ニングリーン0.1部、1−シアノエチル−2−エチル
−4−メチルイミダゾール3部およびモダフロー〇。
)で得られた不飽和化合物(B)60部との混合物25
0部に、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニ
ルコー2−モルホリノープロペン−110部、4.4”
−ビスジエチルアミノベンゾフェノン1部、フタロシア
ニングリーン0.1部、1−シアノエチル−2−エチル
−4−メチルイミダゾール3部およびモダフロー〇。
2部を配合し、ロールミルで混合分散させて、感光性樹
脂組成物の后71kを調製した。
脂組成物の后71kを調製した。
(d)硬化被膜の形成
(C)で得られた感光性樹脂組成物の溶液を、銅張り積
層板上に塗布し、室温で20分、80°Cで20分間乾
燥し、厚さ40μmの感光層を形成した。
層板上に塗布し、室温で20分、80°Cで20分間乾
燥し、厚さ40μmの感光層を形成した。
次いで、ネガマスクを通してオーク製作所(株)製、フ
ェニックス3000型露光機を用い、600mJ/cm
2て露光した。露光後、80°Cで5分間加熱し、常
温で30分放置した後、スリーワンEX−DB (東亜
化成化学社製1. 1. 1−4リクロロエタンを75
重量%含む)を用いて20℃で60秒間スプレー現像し
た。
ェニックス3000型露光機を用い、600mJ/cm
2て露光した。露光後、80°Cで5分間加熱し、常
温で30分放置した後、スリーワンEX−DB (東亜
化成化学社製1. 1. 1−4リクロロエタンを75
重量%含む)を用いて20℃で60秒間スプレー現像し
た。
次いで、東芝電材(株)製、東芝紫外線照射装置(定格
電圧200v、定格消費型カフ、 2KW、適合ラン
プH5600L/2、ランプ本数1本)を使用し、I
J/cm2で照射した後、150°Cて30分間加熱処
理して、ネガマスクに相応する寸法精度の優れたソルダ
マスクを得た。
電圧200v、定格消費型カフ、 2KW、適合ラン
プH5600L/2、ランプ本数1本)を使用し、I
J/cm2で照射した後、150°Cて30分間加熱処
理して、ネガマスクに相応する寸法精度の優れたソルダ
マスクを得た。
このソルダマスクは、耐冷熱衝撃性に優れ、口ツノ系7
ラノクスA−226(タムラ科研(昧)製)を用いて2
60℃で10秒間ハンダイλjけ処理し、さらにトリク
レンで25℃、10分間清浄化処理した後、MI L−
3TD−202E107D条件B(−65℃30分間、
常温5分以内、125°C30分間)、50サイクルの
冷熱衝撃試験および打抜き試験を行ったところ、クラッ
クの発生および被膜の剥がれは認められず、信頼性が非
常に優れていることが判った。
ラノクスA−226(タムラ科研(昧)製)を用いて2
60℃で10秒間ハンダイλjけ処理し、さらにトリク
レンで25℃、10分間清浄化処理した後、MI L−
3TD−202E107D条件B(−65℃30分間、
常温5分以内、125°C30分間)、50サイクルの
冷熱衝撃試験および打抜き試験を行ったところ、クラッ
クの発生および被膜の剥がれは認められず、信頼性が非
常に優れていることが判った。
実施例2
(a)不飽和化合物(A)の製造
ビスフェノール12エポキシ樹脂として、油化シェルエ
ポキシ社製エピコート1010 (分子量的5500)
75部をジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート75部に加熱溶解した後、イソシアナー!・エチ
ルメタクリレート1o部(エピコート1009のヒドロ
キシル基1当量に対してイソシアナート基0.25当貰
)、ジブチルチンジラウレート0.2部を加工、60’
Cで5時間反応させて不飽和化合物(A)を得た。
ポキシ社製エピコート1010 (分子量的5500)
75部をジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート75部に加熱溶解した後、イソシアナー!・エチ
ルメタクリレート1o部(エピコート1009のヒドロ
キシル基1当量に対してイソシアナート基0.25当貰
)、ジブチルチンジラウレート0.2部を加工、60’
Cで5時間反応させて不飽和化合物(A)を得た。
二のイ・「1a和化a物(、A)は赤外分1iの結東、
遊離のイソシアナート基を消失していることが確認され
た。
遊離のイソシアナート基を消失していることが確認され
た。
(b)不飽和化合物(B)の製造
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、日
本化薬社製EOCN−102(エポキシ当量230)9
2部をジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート60部に加熱溶解した後、アクリル酸1.4部(酸
当量/エポキシ当量=0.05)、塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム0.01部およびp−メトキシフェノ
ール0゜01部の混合物を反応温度を60℃に保ちなが
ら約1時間かけて滴下し、さらに80°Cに昇温した後
約15時間撹拌を続け、酸価1以下の不飽和化合物(B
)を得た。
本化薬社製EOCN−102(エポキシ当量230)9
2部をジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート60部に加熱溶解した後、アクリル酸1.4部(酸
当量/エポキシ当量=0.05)、塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム0.01部およびp−メトキシフェノ
ール0゜01部の混合物を反応温度を60℃に保ちなが
ら約1時間かけて滴下し、さらに80°Cに昇温した後
約15時間撹拌を続け、酸価1以下の不飽和化合物(B
)を得た。
(′C)感光性樹脂組成物の調製
(a)で得られた不飽和化合物(A)190部と、(b
)で得られた不飽和化合物(B)70部との混合物26
0部に、三酸化アンチモン(平均粒径0.15μm)6
部、ベンゾフェノン10部、ミヒラーケト70.5部、
1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾー
ル3部およびビクトリアピュアブルー0.04部を配合
し、3本ロールミルで混合分散して本発明になる感光性
樹脂組成物の溶液を調製した。
)で得られた不飽和化合物(B)70部との混合物26
0部に、三酸化アンチモン(平均粒径0.15μm)6
部、ベンゾフェノン10部、ミヒラーケト70.5部、
1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾー
ル3部およびビクトリアピュアブルー0.04部を配合
し、3本ロールミルで混合分散して本発明になる感光性
樹脂組成物の溶液を調製した。
以下、上記実施例1(d)と同様にして、耐熱性および
打抜き加工性に優れた硬化被膜を得た。
打抜き加工性に優れた硬化被膜を得た。
また、上記感光性樹脂組成物を厚さ0.8mm、UL9
4V−0のガラスエポキシ難燃基材(日立化成工業(株
)製MCL−E−67)の両面に適用し、厚さ75μm
の硬化被膜を形成させた場合には、UL94V−1の難
燃性を保持することが判った。
4V−0のガラスエポキシ難燃基材(日立化成工業(株
)製MCL−E−67)の両面に適用し、厚さ75μm
の硬化被膜を形成させた場合には、UL94V−1の難
燃性を保持することが判った。
実施例3
上記実施例2(a)で得た不飽和化合物(A)190部
と、実施例1(b)で得た不飽和化合物(B)60部と
の混合物250部に、ミクロエースP−4(日本タルク
製タルク、平均粒径1.5μm)2.5部、2,4−ジ
エチルチオキサントン4部、ジメチルアミノ安息香酸エ
チル6部、ビクトリアピュアフルー0.04部、2.4
−、’アミノ−6−[2−−ウンデンルーイミタゾリル
(1)i−エチル−5−)リアジン2部およびメチルセ
ロソルブ5部を配合し、3本ロールミルで混合分散させ
て、本発明になる感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
と、実施例1(b)で得た不飽和化合物(B)60部と
の混合物250部に、ミクロエースP−4(日本タルク
製タルク、平均粒径1.5μm)2.5部、2,4−ジ
エチルチオキサントン4部、ジメチルアミノ安息香酸エ
チル6部、ビクトリアピュアフルー0.04部、2.4
−、’アミノ−6−[2−−ウンデンルーイミタゾリル
(1)i−エチル−5−)リアジン2部およびメチルセ
ロソルブ5部を配合し、3本ロールミルで混合分散させ
て、本発明になる感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
以下、上記実施例1(d)と同様にして耐熱性。
打抜き加工性に優れた硬化被膜を得た。
(発明の効果)
本発明になる感光性樹脂組成物は、写真法による厚膜の
画像形成が可能であり、また1、 1. 1−トリク
ロルエタン等の難燃性溶剤を主成分とする現像液を用い
て解像度、耐熱性および打抜き加工性に優れた高信頼性
のソルダマスクを形成することができる等の効果を有す
る。
画像形成が可能であり、また1、 1. 1−トリク
ロルエタン等の難燃性溶剤を主成分とする現像液を用い
て解像度、耐熱性および打抜き加工性に優れた高信頼性
のソルダマスクを形成することができる等の効果を有す
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ビスフェノールA型エポキシ樹脂のヒドロキシル基
1当量に対して0.01〜0.5当量のイソシアナート
エチルメタクリレートを反応させて得られる不飽和化合
物(A)、 ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸とを酸当
量/エポキシ当量比が0.01〜0.7の範囲で反応さ
せて得られる不飽和化合物(B)ならびに活性光により
遊離ラジカルを生成する増感剤および(または)増感剤
系(C)を含有してなる感光性樹脂組成物。 2、請求項1記載の感光性樹脂組成物をフィルム上に塗
布、乾燥して得られる感光性エレメント。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27689888A JPH02123359A (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27689888A JPH02123359A (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02123359A true JPH02123359A (ja) | 1990-05-10 |
Family
ID=17575929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27689888A Pending JPH02123359A (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02123359A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003032090A1 (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-17 | Showa Highpolymer Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
| JP2005331932A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-12-02 | Showa Denko Kk | 感光性樹脂組成物及びその硬化物並びにそれらを使用するプリント配線基板の製造方法 |
| JP2010059345A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-18 | Dic Corp | エポキシ樹脂及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物 |
| JP2013076080A (ja) * | 2012-11-26 | 2013-04-25 | Dic Corp | エポキシ樹脂及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物 |
-
1988
- 1988-11-01 JP JP27689888A patent/JPH02123359A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003032090A1 (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-17 | Showa Highpolymer Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
| JP2005331932A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-12-02 | Showa Denko Kk | 感光性樹脂組成物及びその硬化物並びにそれらを使用するプリント配線基板の製造方法 |
| JP2010059345A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-18 | Dic Corp | エポキシ樹脂及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物 |
| JP2013076080A (ja) * | 2012-11-26 | 2013-04-25 | Dic Corp | エポキシ樹脂及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物 |
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