JPH02124575A - フォトレジストの現像方法 - Google Patents
フォトレジストの現像方法Info
- Publication number
- JPH02124575A JPH02124575A JP27764188A JP27764188A JPH02124575A JP H02124575 A JPH02124575 A JP H02124575A JP 27764188 A JP27764188 A JP 27764188A JP 27764188 A JP27764188 A JP 27764188A JP H02124575 A JPH02124575 A JP H02124575A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- substrate
- wall
- chamber
- pure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［ｆＬ業上の利用分野］
本発明は、フォトレジストの現像方法に関し、特にビデ
オディスク等の光学的記録再生装置に使用する光デイス
ク原盤の製造に好適な現像方法に関するものである。
オディスク等の光学的記録再生装置に使用する光デイス
ク原盤の製造に好適な現像方法に関するものである。
［従来の技術］
従来、フォトレジストの現像は、第３図に示すような方
法によって行なわれていた。ここで、表面に露光処理さ
れたフォトレジスト膜を有する基板１は、現像チャンバ
ー１０内でターンテーブル２によって回転させられる。
法によって行なわれていた。ここで、表面に露光処理さ
れたフォトレジスト膜を有する基板１は、現像チャンバ
ー１０内でターンテーブル２によって回転させられる。
そして、この回転する基板の表面に現像液を接触させて
、フォトレジストの現像処理を行なう。続いて、基板を
純水にて洗浄し、更に乾燥させることによって現像過程
が終了する。
、フォトレジストの現像処理を行なう。続いて、基板を
純水にて洗浄し、更に乾燥させることによって現像過程
が終了する。
このような現像方法において、現像液や純水等が周辺に
飛散してそれが基板上にはね返り、特に最後の乾燥工程
の時におきると、シミとなり歩留りを低下させてしまう
。そのため、従来から基板の周辺に第３図に示すはね返
り防止板９を設り基板上へのはね返りを減少させてきた
。
飛散してそれが基板上にはね返り、特に最後の乾燥工程
の時におきると、シミとなり歩留りを低下させてしまう
。そのため、従来から基板の周辺に第３図に示すはね返
り防止板９を設り基板上へのはね返りを減少させてきた
。
［発明が解決しようとしている問題点］しかしながら、
上記従来例では、大きなはね返りは減少したが、水滴が
はね返り防止板９にぶつかる時に発生する非常に小さな
ミスト状のはね返りは完全に除去できなかった。特に現
像液がはね返り防止板上に残っている場合、乾燥工程中
に飛散した水滴か、はね返り防止板上の現像液に衝突し
て発生ずるミストにより、基板表面は汚染されてしまう
。さらに、現像装置内に現像液がさまざまな部分に飛散
してイ」着しているため、使用後水洗を行っても残るこ
とが多く、これが乾燥してゴミの発生源となり欠陥を発
生させる。
上記従来例では、大きなはね返りは減少したが、水滴が
はね返り防止板９にぶつかる時に発生する非常に小さな
ミスト状のはね返りは完全に除去できなかった。特に現
像液がはね返り防止板上に残っている場合、乾燥工程中
に飛散した水滴か、はね返り防止板上の現像液に衝突し
て発生ずるミストにより、基板表面は汚染されてしまう
。さらに、現像装置内に現像液がさまざまな部分に飛散
してイ」着しているため、使用後水洗を行っても残るこ
とが多く、これが乾燥してゴミの発生源となり欠陥を発
生させる。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、現像
液や純水のミスト状のはね返りを防止して、欠陥の発生
を減少させるフォトレジストの現像方法を提供すること
にある。
液や純水のミスト状のはね返りを防止して、欠陥の発生
を減少させるフォトレジストの現像方法を提供すること
にある。
［問題点を解決するための手段］
本発明の上記目的は、現像チャンバー内で、表面に露光
処理されたフォトレジスト膜を有する基板を回転させな
がら現像、洗浄及び乾燥を行なうフォトレジストの現像
方法において、回転する基板とチャンバー内壁との間に
、この基板を取り囲むように連続して純水を流し、流水
の壁を形成することによって達成される。
処理されたフォトレジスト膜を有する基板を回転させな
がら現像、洗浄及び乾燥を行なうフォトレジストの現像
方法において、回転する基板とチャンバー内壁との間に
、この基板を取り囲むように連続して純水を流し、流水
の壁を形成することによって達成される。
即ち、本発明は、現像チャンバーの内壁に沿って純水を
流し続り、基板の周辺に流水の壁を形成することにより
、飛んできた水滴は水の流れにそって必ず下方にはね返
り、基板にもどらないようにしたものである。また、そ
の時に発生ずるミストも、水の流れとそれにひきずられ
た空気層の流れによって下方にいってしまう。これによ
り、基板上方にはいっさい水滴の飛散による影響はなく
なる。さらに、たえず純水が流れているため現像チャン
バー内に現像液が残ることがなくなり、現像液が乾燥し
てできる粉末状のゴミの発生が防止できる。
流し続り、基板の周辺に流水の壁を形成することにより
、飛んできた水滴は水の流れにそって必ず下方にはね返
り、基板にもどらないようにしたものである。また、そ
の時に発生ずるミストも、水の流れとそれにひきずられ
た空気層の流れによって下方にいってしまう。これによ
り、基板上方にはいっさい水滴の飛散による影響はなく
なる。さらに、たえず純水が流れているため現像チャン
バー内に現像液が残ることがなくなり、現像液が乾燥し
てできる粉末状のゴミの発生が防止できる。
［実施例コ
第１図に、本発明の第１の実施例を示す。純水７は、供
給口５より送られ、現像チャンバ−４の壁にそって排水
口６から出ていく。それにより、水の壁３が形成される
。基板１はターンテーブル２上で回転しながら現像、水
洗、乾燥され、その時に発生ずる飛散した水滴は、全て
水の壁３に衝突して下に流れていく。この時発生ずるは
ね返りも、前述した様に全て基板１の下側に流れていく
。
給口５より送られ、現像チャンバ−４の壁にそって排水
口６から出ていく。それにより、水の壁３が形成される
。基板１はターンテーブル２上で回転しながら現像、水
洗、乾燥され、その時に発生ずる飛散した水滴は、全て
水の壁３に衝突して下に流れていく。この時発生ずるは
ね返りも、前述した様に全て基板１の下側に流れていく
。
第２図に、本発明の第２の実施例を示す。基本的には第
１の実施例と同じであるが、水の壁３の裏は、現像チャ
ンバー４の壁に接触せずに、空洞８になっている。飛ん
できた水滴が大きい場合、水の壁３を通過する。そして
、現像チャンバー４の壁に衝突してできるはね返りやミ
ストは、水の壁３があるため基板側に出て来ない。した
がって、飛散した水滴が大量の場合、本実施例は、はね
返り防止により有利である。
１の実施例と同じであるが、水の壁３の裏は、現像チャ
ンバー４の壁に接触せずに、空洞８になっている。飛ん
できた水滴が大きい場合、水の壁３を通過する。そして
、現像チャンバー４の壁に衝突してできるはね返りやミ
ストは、水の壁３があるため基板側に出て来ない。した
がって、飛散した水滴が大量の場合、本実施例は、はね
返り防止により有利である。
［発明の効果］
以上説明した様に本発明を用いることにより、（１１水
滴の飛散によるはね返りが、ミストも含めて完全に防止
される、（２）現像液残りによるゴミの発生がない、（
３）現像装置使用後の洗浄がいらない、（４）はね返り
防止板を設けなくてよい為、現像チャンバーを小さくで
きる、といった効果が得られる。
滴の飛散によるはね返りが、ミストも含めて完全に防止
される、（２）現像液残りによるゴミの発生がない、（
３）現像装置使用後の洗浄がいらない、（４）はね返り
防止板を設けなくてよい為、現像チャンバーを小さくで
きる、といった効果が得られる。
第１図は本発明の一実施例に用いる現像装置の断面図、
第２図は本発明の他の実施例に用いる現像装置の断面図
、 第３図は従来の現像装置の断面図である。 １・・・基板、２・・・ターンテーブル、３・・・水の
壁、４．１０・・・現像チャンバー、５・・・供給口、
６・・・排水口、７・・・純水、８・・・空洞、９・・
・はね返り防止板。
、 第３図は従来の現像装置の断面図である。 １・・・基板、２・・・ターンテーブル、３・・・水の
壁、４．１０・・・現像チャンバー、５・・・供給口、
６・・・排水口、７・・・純水、８・・・空洞、９・・
・はね返り防止板。
Claims (1)
- （１）現像チャンバー内で、表面に露光処理されたフォ
トレジスト膜を有する基板を回転させながら現像、洗浄
及び乾燥を行なうフォトレジストの現像方法において、 前記回転する基板とチャンバー内壁との間 に、この基板を取り囲むように連続して純水を流し、流
水の壁を形成することを特徴とするフォトレジストの現
像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27764188A JPH02124575A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | フォトレジストの現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27764188A JPH02124575A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | フォトレジストの現像方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02124575A true JPH02124575A (ja) | 1990-05-11 |
Family
ID=17586262
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27764188A Pending JPH02124575A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | フォトレジストの現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02124575A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9411025B2 (en) | 2013-04-26 | 2016-08-09 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame and a magnet |
| US9494660B2 (en) | 2012-03-20 | 2016-11-15 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame |
| US9666788B2 (en) | 2012-03-20 | 2017-05-30 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame |
| US9812588B2 (en) | 2012-03-20 | 2017-11-07 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with integral ferromagnetic material |
| US10234513B2 (en) | 2012-03-20 | 2019-03-19 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with integral ferromagnetic material |
-
1988
- 1988-11-02 JP JP27764188A patent/JPH02124575A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9494660B2 (en) | 2012-03-20 | 2016-11-15 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame |
| US9666788B2 (en) | 2012-03-20 | 2017-05-30 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame |
| US9812588B2 (en) | 2012-03-20 | 2017-11-07 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with integral ferromagnetic material |
| US10230006B2 (en) | 2012-03-20 | 2019-03-12 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with an electromagnetic suppressor |
| US10234513B2 (en) | 2012-03-20 | 2019-03-19 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with integral ferromagnetic material |
| US10916665B2 (en) | 2012-03-20 | 2021-02-09 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with an integrated coil |
| US11444209B2 (en) | 2012-03-20 | 2022-09-13 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with an integrated coil enclosed with a semiconductor die by a mold material |
| US11677032B2 (en) | 2012-03-20 | 2023-06-13 | Allegro Microsystems, Llc | Sensor integrated circuit with integrated coil and element in central region of mold material |
| US11828819B2 (en) | 2012-03-20 | 2023-11-28 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with integral ferromagnetic material |
| US11961920B2 (en) | 2012-03-20 | 2024-04-16 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package with magnet having a channel |
| US9411025B2 (en) | 2013-04-26 | 2016-08-09 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame and a magnet |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100828863B1 (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 및 기판 처리 장치 | |
| JPH02124575A (ja) | フォトレジストの現像方法 | |
| US6090534A (en) | Device and method of decreasing circular defects and charge buildup integrated circuit fabrication | |
| JP2008091637A (ja) | 基板洗浄方法 | |
| JPH04267969A (ja) | 回転塗布装置のチャック | |
| JPS63141670A (ja) | 回転塗布装置 | |
| JPS62136265A (ja) | 処理液塗布装置 | |
| JP2908224B2 (ja) | 回転式塗布装置 | |
| JPH03256321A (ja) | レジスト膜形成装置 | |
| JP3119616B2 (ja) | 現像装置 | |
| JPH08264416A (ja) | 半導体ウエハの周辺露光方法及び周辺露光装置 | |
| JPS59211226A (ja) | 半導体基板のレジスト塗布装置 | |
| JPH02237681A (ja) | 光ディスク原盤の現像方法 | |
| JPH07106226A (ja) | レジスト現像方法および装置 | |
| JP2734610B2 (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
| JPS59145525A (ja) | レジスト現像方法 | |
| JPH01181423A (ja) | レジスト現像方法 | |
| JPS6043826A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS6151633A (ja) | 原盤処理装置 | |
| KR20020091664A (ko) | 반도체 소자 제조에 사용되는 도포 장비 | |
| JPH04105230A (ja) | 光ディスク原盤の現像処理方法 | |
| KR20030096485A (ko) | 반도체 현상공정 방법 | |
| JPH023129A (ja) | 光ディスク原盤用現像装置 | |
| JP2002082426A (ja) | フォトマスクの洗浄方法および洗浄装置 | |
| JPH04162722A (ja) | 洗浄装置 |