JPH02126441A - 光磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光磁気記録媒体とその製造方法に係り。

特に、基板上にアルミニウムもしくはアルミニウム合金
の多孔質陽極酸化膜を形成し、その多孔質陽極酸化膜の
微細孔中に磁性材を充填した光磁気記録媒体と、その製
造方法とに関する。

〔従来の技術〕

従来より、書き換え型の光記録媒体として、磁気的カー
効果を利用して信号を読み出す所謂光磁気記録媒体が知
られている。この光磁気記録媒体は、レーザ光等の光エ
ネルギを磁性体の表面に局部的に照射してその部分をキ
ュリー温度以上に加熱しつつ外部磁界を印加することに
よって信号の書き込みを行い、また、レーザ光など特定
な偏光面を有する光束を磁性体表面に照射し、その照射
光の偏光面に対する反射光の偏光面の変化を検出して信
号を読み出すものである。

近年、この種の光磁気記録媒体として、第１４図に示す
ように、アルミニウムもしくはアルミニウム合金から成
る基板１の表面に、多孔質陽極酸化被膜２を形成し、こ
の多孔質陽極酸化被膜２の微細孔３中に純鉄などの磁性
材４を電解析出により充填したものが提案されている（
特開昭５９−７２６６３号公報、特開昭６１−２２９２
４８号公報参照）。

この光磁気記録媒体は、前記磁性材４の端面に直線偏光
を照射したとき、この照射光の偏光面に対する反射光の
偏光面の回転角（以下、カー回転角という。）が従来の
垂直磁化膜を用いた光磁気記録媒体に比べて大きく、信
号の読み出しが容易になるとされている。

なお、前記光磁気記録媒体がこのような機能を発揮する
ためには、磁性材３の磁化容易軸を微細孔４の軸線方向
に向ける必要があり、磁性材３の磁化容易軸を微細孔４
の軸線方向に向けるためには、微細孔３の直径りと長さ
しとの比Ｌ／Ｄを所定の値にする必要がある。特開昭５
９−７２６６３号公報では、この比をＬ／Ｄ≧２０とす
ることが提案されている。

〔発明が解決しようとする１１題〕 ところで、光磁気記録媒体において再生出力に寄与する
のはカー回転角の大きさではなく反射光の強度であるか
ら、良好な再生特性を得るためには、光磁気記録媒体の
実効反射率をＲ、カー回転角をθにとしたとき１９石マ
・θにで表わされる磁気光学性能指数が大きくなくては
ならない。

然るに、第１４図の光磁気記録媒体は、光透過性を有す
るアルミニウムもしくはアルミニウム合金の陽極酸化被
膜２の微細孔３中に不透明な磁性材４を充填した構造と
なっているため、実効反射率Ｒが低いという問題がある
。

また、第１４図の光磁気記録媒体は、アルミニウムもし
くはアルミニウム合金から成る基板の表面を陽極酸化処
理することによって多孔質陽極酸化被膜２を形成すると
いった製造方法を採っているため、基板材料として高価
な高純度アルミニウムを用いなくてならず、しかも多孔
質陽極酸化被膜２の形成面を高度に研摩しなくてはなら
ないため、製造コストが高価になるという問題がある。

さらに、この種の光磁気記録媒体に信号を記録し、この
種の光磁気記録媒体に記録された信号を再生するために
は、光ビームの案内溝や記録領域のアドレス等を表示す
るプリピット列などのプリフォーマットを必要とする。

然るに、従来、プリフォーマットの製造方法に関しては
何ら提案されておらず、このままでは実用に供すること
ができない。

本発明は前記した従来技術の欠点を解消するためになさ
れたものであって、その第１の目的は、実効反射率およ
びカー回転角がともに高く、従って磁気光学性能指数が
大きく、再生特性に優れた光磁気記録媒体を提供するこ
とにある。

また、本発明の第２の目的は、基板をアルミニウムもし
くはアルミニウム合金以外の材料から形成し、もって安
価な光磁気記録媒体を提供することにある。

さらに、本発明の第３の目的は、プリフォーマットを備
え、実際に信号の記録／再生が可能な形態に構成された
光磁気記録媒体と、この種の光磁気記録媒体に特に好適
なプリフォーマットの製造方法を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は第１の目的を達成するため、多孔質陽極酸化膜
の微細孔中に充填される磁性材の長さを０．１〜０．５
μｍの範囲にしたことを特徴とするものである。

また、第２の目的を達成するため、基板をアルミニウム
もしくはアルミニウム合金を除く金属材料やセラミック
ス材料、それに樹脂材料などによって形成し、この基板
上にアルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜を形
成し、この薄膜に陽極酸化処理を施し、これによって生
成された多孔質陽極酸化膜の微細孔中に磁性材を充填し
たことを特徴とするものである。

さらに、第３の目的を達成するため、アルミニウムもし
くはアルミニウム合金の多孔質陽極酸化膜を形成したの
ち、微細孔に磁性材を充填する以前に所望のプリフォー
マットパターンに対応するホトレジスト層のマスクを形
成し、当該マスクの形成部分に磁性材が充填されないよ
うにしたことを特徴とするものである。

〔作用〕

く第１の特徴点について〉 本願発明者等は、多孔質陽極酸化膜の微細孔中に充填さ
れる磁性材の長さと当該多孔質陽極酸化膜に照射された
光の反射率との間には密接な関係があり、微細孔中に充
填される磁性材の長さを０．５μｍ以下にした場合には
高い光の反射率を得ることができるが、その長さを０．
５μｍ以上にした場合には光の反射率が急激に低下する
という事実を知得した。

一方、多孔質陽極酸化膜の微細孔中に充填される磁性材
の長さと当該多孔質陽極酸化膜の保磁力およびカー回転
角の間にも密接な関係があり、■磁性材の長さが短かく
なるに従って保磁力およびカー回転角が低下する、■但
し、多孔質陽極酸化膜の微細孔中に充填される磁性材の
長さを０．１μｍ以上にすると約１２７．４ＫＡ／ｍの
保磁力と約０．８度以上のカー回転角を確保することが
でき、実用上の問題を生じないという事実を知得した。

以上の事実より、多孔質陽極酸化膜の微細孔中に充填さ
れる磁性材の長さを０．１〜０．５μｍの範囲に調整す
ることによって、光の反射率（Ｒ）およびカー回転角（
θｋ）がともに高く、従って磁気光学性能指数（５・θ
ｋ）が高く、再生特性に優れた光磁気記録媒体を提供す
ることができる。

く第２の特徴点について〉 基板材料としてアルミニウムもしくはアルミニウム合金
を用いると、素材が高価であるばかりでなく、表面を平
滑化するための研摩加工が必要になるため、光磁気記録
媒体の製造コストが高価になる。これに対し、基板材料
として金属材料、セラミックス材料、樹脂材料など任意
の材料を使用できるようにすると、安価な材料を適宜選
択することができ、素材コストを低減することができる
。

さらに、セラミックス材料や樹脂材料を用いた場合には
、表面を平滑化するための研摩加工が不要になり、光磁
気記録媒体の製造コストを一層低減することができる。

く第３の特徴点について〉 アルミニウムもしくはアルミニウム合金の多孔質陽極酸
化被膜は光透過性を有するので、この多孔質陽極酸化被
膜が単独で存在する部分と微細孔中に不透明な磁性材が
充填された部分とでは多孔質陽極酸化被膜に照射された
光の反射率が異なる。

よって、多孔質陽極酸化被膜が単独で存在する部分をも
って所望のプリフォーマットパターンを形成しておけば
、光の反射率の差によってそのプリフォーマットを読み
出すことができ、信号の記録／再生が可能となる。

〔実施例〕

まず、本発明の第１実施例を第１図に基づいて説明する
。

第１実施例の光磁気記録媒体は、多孔質陽極酸化被膜の
微細孔に充填された磁性材の長さが最適値に形成されて
いることを除き、第１４図に示した従来の光磁気記録媒
体と同様の構成を有する。

すなわち、アルミニウムもしくはアルミニウム合金から
成る基板１の表面に、多孔質陽極酸化被膜２が形成され
、この多孔質陽極酸化被膜２の微細孔３中に純鉄などの
磁性材４が充填されている。

基板ｌは、純度が９９．９９％以上のアルミニウムやこ
の高純度アルミニウムにマグネシウムなどの添加元素が
添加された合金によって形成される。この基板１には、
陽極酸化に先立ち、表面粗さが０．０２μｍ以下になる
ように研摩加工が施される。なお、この基板１の外観形
状は、ディスク状、テープ状、もしくはカード状など適
用箇所に合致した任意の形状に形成される。勿論１寸法
については何ら制限があるものではなく、必要に応じて
任意の大きさに形成される。

多孔質陽極酸化被膜２は、陽極酸化処理の常法に従って
形成される。例えば、前記基板１を硫酸、クロム酸等の
無機酸あるいはシュウ酸等の水溶液中に浸漬し、液をか
く拌しながら直流電圧もしくは交直重畳電圧を印加する
ことによって行う。なお、場合によっては、多孔質陽極
酸化被膜２の微細孔３のボア径を拡大するとともに微細
孔の上端から下端までのボア径の一様性を改善するため
、陽極酸化処理後に、例えばスルファミン酸１〜３０重
量％およびリン酸０．１〜１重量％を含有する混酸液中
に浸漬することもできる。

前記磁性材４としては、任意の磁性材を用いることがで
きるが、特に、純鉄もしくはこれにコバルトやニッケル
等の添加元素を加えた鉄合金が好適である。

前記微細孔３中への前記磁性材４の充填は、電解析出処
理の常法に従って行われる。例えば、前記多孔質陽極酸
化被膜２が形成された基板１を、磁性材金屑の塩を含む
電解液中に浸漬し、交流電流を印加することによって行
う。微細孔３中に充填される磁性材４の長さしは、電解
液中の電解質濃度、印加電流値、処理時間等を制御する
ことによって調整される。

第２図に、多孔質陽極酸化被膜２の微細孔３中に充填さ
れる磁性材４の長さしと当該多孔質陽極酸化被膜２に照
射された光の反射率との関係を示す。この図から明らか
なように、微細孔３中に充填される磁性材４の長さしを
０．５μｍ以下にすると高い光の反射率が得られ、その
長さを０．５μｍ以上にすると光の反射率が急激に低下
する６第３図に、多孔質陽極酸化被膜２の微細孔３中に
充填される磁性材４の長さＬと当該多孔質陽極酸化被膜
２の保磁力およびカー回転角との関係を示す。この図か
ら明らかなように、微細孔３中に充填される磁性材４の
長さしが短かいほど保磁力およびカー回転角とも低下す
るが、その長さしを０．１μｍ以上にすると約１２７．
４ＫＡ／ｍ以上の保磁力と約０．８度以上のカー回転角
を確保することができる。

前記第１実施例の光磁気記録媒体は、多孔質陽極酸化被
膜２の微細孔３中に充填される磁性材４の長さを０．１
〜０．５μｍの範囲に調整したので、光の反射率および
カー回転角がともに高く、従って磁気光学性能指数が高
く、再生特性に優れる。

次に、本発明の第２実施例を第４図に基づいて説明する
。

第２実施例の光磁気記録媒体は、アルミニウムもしくは
アルミニウム合金以外の材料によって形成された基板１
１上に、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜
１２を形成し、この薄膜１２に陽極酸化処理を施し、こ
れによって生成された多孔質陽極酸化膜２の微細孔３中
に磁性材４を充填したことを特徴とする。

前記基板１１は１例えばアルミニウムもしくはアルミニ
ウム合金以外の金属材料、またはガラスなどのセラミッ
クス材料、それに耐熱性樹脂などの樹脂材料から選択さ
れた材料をもって形成することができる。なお、基板材
料として樹脂材料を用いた場合には、前記基板１１をリ
ジッドに形成することもできるし、フレキシブルに形成
することもできる。

この基板１１上への前記薄［ｌ１１２の形成手段として
は、真空蒸着やスパッタリングなど、公知に属する任意
の薄膜形成手段を適用することができる。

以下１本第２実施例に係る光磁気記録媒体のより具体的
な製造方法の一例を説明する８まず、厚さ５０μｍのポ
リイミドフィルム基板上にアルミニウムを３．０μｍの
厚さに真空蒸着した。このときの蒸着条件は、基板温度
が２５°Ｃ２真空度が４Ｘ１０−４Ｐａ、蒸着速度が３
ｎｍ／ｓｅｃである。

次いで、この基板を硫酸浴に浸漬し、電流密度がＬＡ／
ｄｍ”の電流を印加してアルミニウム膜の表面に１μｍ
の厚さの多孔質陽極酸化被膜を形成した。

次に、この多孔質陽極酸化被膜が形成された基板を１重
量％のリン酸浴に浸漬し、多孔質陽極酸化被膜の微細孔
のボア径を１７０人に拡大した。

最後に、このボア径の拡大処理がなされた基板をめっき
浴に浸漬し、多孔質陽極酸化被膜の微細孔中に磁性材を
充填した。なお、めっき浴組成は。

モール塩１５　ｇ　／　３００　ｍ　Ｑ、ホウ酸４．５
ｇ／３００ｍＱ、グリセリン０．６ｍＱ／３００ｍＱで
、２Ｎの硫酸でｐＨ値を３．０に調整した。また１Ｍｌ
源は、交流５００Ｈｚ、２５Ｖを直流バイアスに重畳し
た交直重畳電源を用い、対極側で１０ｖ、アルマイト側
で１５Ｖかかるように調整した。

本第２実施例の光磁気記録媒体は、基板をアルミニウム
もしくはアルミニウム合金以外の金属材料、またはガラ
スなどのセラミックス材料、それに耐熱性樹脂などの樹
脂材料から選択された材料をもって形成するようにした
ので、アルミニウムもしくはアルミニウム合金よりも安
価な基板材料を選択することができる。また、基板材料
としてセラミックス材料または樹脂材料を用いた場合に
は、基板表面を平滑化するための研摩加工が不要になる
ので、−層基板の製造コストを低減することができる。

なお、前記第２実施例においては、基板ｌｌ上に形成さ
れた薄膜１２の表層部に多孔質陽極酸化被膜２を形成し
ているが、第５図に示すように、基板１１上に形成され
る薄膜１２の厚さを薄形に形成し、この薄膜１２の全体
を多孔質陽極酸化膜２とすることもできる。

本第３実施例の光磁気記録媒体は、多孔質陽極酸化被膜
２を形成する際の処理時間の制御が容易になる。また、
基板１１を透明体にて形成することによって、基板１１
側から記録／再生用光を入射するようにすることが可能
となり、当該光磁気記録媒体を用いた記録再生システム
の設計自由度を向上することができる。

次に、本発明の第４実施例を第６図に基づいて説明する
。

本実施例の光磁気記録媒体は、第６図に示すように、金
属材料、セラミックス材料、樹脂材料などから選択され
た任意の材料から成る高剛性の基体２１の表面に、フィ
ルム状の基板１１上にアルミニウムもしくはアルミニウ
ム合金の薄膜１２が形成され、当該薄膜１２の表面に多
孔質陽極酸化被膜２が形成され、その微細孔３中に磁性
材が充填された光磁気記録媒体が、接着剤２２を介して
貼り合、わされている。

フィルム状の基板１１を用いると、基板表面にアルミニ
ウムもしくはアルミニウム合金の薄膜を形成する工程、
およびその薄膜に陽極酸化処理を施す工程、および多孔
質陽極酸化被膜２の微細孔３に磁性材を充填する工程を
高能率化することができる。よって、本第４実施例の光
磁気記録媒体は、前記フィルム状基板１１から所望の形
状の光磁気記録媒体を打ち抜く工程およびその光磁気記
録媒体を基体２１に接着する工程を考慮しても、生産性
および量産性を低減することができる。

次に、本発明の第５実施例を第７図に基づいて説明する
。

本実施例の光磁気記録媒体は、第７図に示すように、ア
ルミニウムもしくはアルミニウム合金から成る基板１に
断面形状が凹凸状の信号パターン３１が形成され、当該
信号パターン３１の表面に多孔質陽極酸化被膜２が形成
され、多孔質陽極酸化被膜２の全微細孔３中に磁性材４
が充填されている。

前記信号パターン３１は、記録／再生用光を案内するた
めの浅い溝状のプリグループ３１ａと、記録領域の境界
やそのアドレス等を表示する深い窪み状のプリピット３
１ｂとを含んで構成されている。これらプリグループ３
１ａおよびプリピット３１ｂは、再生用光を照射したと
きの反射光強度にコントラストをもたせるため、互いに
異なる深さに形成される。−例を挙げるならば、前記プ
リグループ３１ａは、再生用光の波長をλとしたときλ
ｌ　６　ｒｚ〜λ／　８　ｎの深さｄｌに形成され、プ
リピット３１ｂは、λ／４ｎ〜λ／６ｎ　（但し。

ｎは正の整数）の深さｄ２に形成される。

前記プリグループ３１ａまたはプリピット３１ｂがある
部分に再生用光を照射すると光の干渉および回折によっ
て反射光強度が低下する。一方、よって、プリグループ
３１ａまたはプリピット３１ｂがない部分に再生用光を
照射した場合には光の干渉および回折といった減少を生
じないので、反射光強度が低下しない。従って、光磁気
記録媒体からの反射光強度を光検出器にて検出すること
によって、プリグループ３１ａおよびプリピット３１ｂ
を読み出すことができる。

なお、前記実施例においては、アルミニウムもしくはア
ルミニウム合金から成る基板ｌに凹凸状の信号パターン
３１を形成し、当該基板ｌの表面を陽極酸化処理して多
孔質陽極酸化被膜２を形成。

した場合を例にとって説明したが、基板をアルミニウム
もしくはアルミニウム合金以外の材料から形成する場合
にも同様に形成することができる。

次に、本発明の第６実施例を第８図に基づいて説明する
。

本実施例の光磁気記録媒体は、第８図に示すように、多
孔質陽極酸化膜ｙｙ４２に磁性材４が充填されない領域
４１を選択的に形成し、この領域４１の配列をもって所
望の信号パターン３１が形成されている。この図におい
て、３１ａはプリグループを示しており、３１ｂはプリ
ピット列を示している。

アルミニウムもしくはアルミニウム合金の多孔質陽極酸
化膜２は光透過性を有するので、微細孔３中に磁性材が
充填されている部分とそれが充填されていない部分とで
は光の反射率が異なる。従って、光磁気配り媒体からの
反射光強度を光検出器にて検出することによって、プリ
グループ３１ａおよびプリピット３１ｂを読み出すこと
ができる。

前記第５実施例および第６実施例の光磁気記録媒体は、
所望の信号パターン３１を形成したので実際の信号の記
録／再生に適用することができる。

以下、本第６実施例に係る光磁気記録媒体の製造方法を
説明する。

まず、第９図に示すように、アルミニウムもしくはアル
ミニウム合金から成る基板１を陽極酸化処理して、基板
１の表面に多孔質陽極酸化被膜２を形成する。

次に、第１０図に示すように、前記多孔質陽極酸化被膜
２の表面全体にホトレジスト層５１を形成する。

次に、第１１図に示すように、前記ホトレジスト層５１
にカッティング用光５２を照射し、所望のプリフォーマ
ットパターンを露光する。この場合、前記ホトレジスト
層５１に所望のプリフォーマット信号によって信号変調
されたカッティング用光５２を照射する方法と、前記ホ
トレジスト層５１上に所望のプリフォーマットに対応す
る透孔が開設されたマスクを被着し、このマスクの外方
より一様強度のカッティング用光５２を照射する方法と
がある。

次に、前記露光済み基板１を現像処理し、第１２図に示
すように、前記カッティング用光５２が照射された部分
のホトレジスト層５１を残して、カッティング用光が照
射されなかった部分のホトレジスト層を除去する。

次に、第１３図に示すように、常法に従って、前記多孔
質陽極酸化ｌｉ２のうち前記ホトレジスト層５１が除去
された部分の微細孔３中に磁性材４を充填する。

最後に、前記多孔質陽極酸化膜２の表面に残留したホト
レジスト層５１を除去して、第８図に示した信号パター
ン３１を有する光磁気記録媒体を得る。

なお、前記の製造方法においては、アルミニウムもしく
はアルミニウム合金から成る基板１を有する光磁気記録
媒体を例にとって説明したが、アルミニウムもしくはア
ルミニウム合金以外の材料から成る基板を有する光磁気
記録媒体についても全く同様にして同種の信号パターン
を形成することができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明の光磁気記録媒体は、多孔
質陽極酸化被膜の微細孔に充填される磁性材の長さを最
適に調整したので、光の反射率およびカー回転角をとも
に高くすることができ、磁気光学性能指数が高く再生特
性に優れた光磁気記録媒体を提供することができる。

また、アルミニウムもしくはアルミニウム合金以外の材
料にて形成された基板上にアルミニウムもしくはアルミ
ニウム合金の薄膜を形成し、この薄膜を陽極酸化処理す
ることによって得られる多孔質陽極酸化被膜の微細孔に
磁性材を充填するようにすると、基板コストを低減でき
るとともに陽極酸化処理および磁性材の充填処理を効率
化することができ、光磁気記録媒体の製造コストを低減
することができる。

さらに、多孔質陽極酸化被膜に所望のプリフォーマット
パターンに対応する磁性材の非充填領暖を形成するよう
にすると、当該磁性材の非充填領域と充填領域との光の
反射率の差によってプリフォーマットを読み出すことが
でき、実用可能な光磁気記録媒体とすることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第１実施例に係る光磁気記録媒体の要部断面図
、第２図は微細孔中に充填される磁性材の長さと光の反
射率との関係を示す説明図、第３図は微細孔中に充填さ
れる磁性材の長さと保磁力およびカー回転角との関係を
示す説明図、第４図ないし第７図は本発明の他の実施例
を示す要部断面図、第８図は本発明のさらに他の実施例
を示す要部平面図、第９図ないし第１３図は本発明に係
る光磁気記録媒体の製造方法の一例を示す要部断面図、
第１４図は従来の光磁気記録媒体の要部断面図である。 １ニアルミニウムもしくはアルミニウム合金から成る基
板、２：多孔質陽極酸化被膜、３：微細孔、４：磁性材
、１１ニアルミニウムもしくはアルミニウム合金以外の
材料から成る基板、１２ニアルミニウムもしくはアルミ
ニウム合金の薄膜、２１：基体、２２：接着剤、３１：
信号パターン、３１ａニブリグルーブ、３１ｂ：プリピ
ット、４１：磁性材の非充填領域、５１：ホトレジスト
層、５２：カッティング用光。 第 ！ 図 アルミニ之ム木ス良 ’ｊ　ＬｊＮｆ；ｐ’ｔ；！ｃ＠Ｕビ、ネ虚、”Ａ％Ａ
良地犯 膿ノ）、＝１ ノエ小主、禾六の一呑と、ユ 第２図 充し矩しυＸＡ−主すｑ（δ　史ｍ） 第３図 、４．ター　ム丁−１石聾小主牙ｆめ（しＨ）７／７７
）第４ 図 第５ 図 第８図 第９図 第ｔｏＩｃｉＡ 第１１図 第１２因 第１３因

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上にアルミニウムもしくはアルミニウム合金
   の多孔質陽極酸化膜が形成され、かつその多孔質陽極酸
   化膜の微細孔中に磁性材を充填して成る光磁気記録媒体
   において、前記微細孔中に充填される前記磁性材の長さ
   を０．１〜０．５μｍの範囲にしたことを特徴とする光
   磁気記録媒体。
2. （２）請求項１記載の光磁気記録媒体において、前記基
   板をアルミニウムもしくはアルミニウム合金にて形成し
   、この基板の表面に陽極酸化処理を施し、前記多孔質陽
   極酸化膜を形成したことを特徴とする光磁気記録媒体。
3. （３）請求項１記載の光磁気記録媒体において、前記基
   板をアルミニウムもしくはアルミニウム合金を除く金属
   材料にて形成し、この基板の表面にアルミニウムもしく
   はアルミニウム合金の薄膜を形成し、少なくともこの薄
   膜の表面に前記多孔質陽極酸化膜を形成したことを特徴
   とする光磁気記録媒体。
4. （４）請求項１記載の光磁気記録媒体において、前記基
   板をセラミックス材料にて形成し、この基板の表面にア
   ルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜を形成し、
   少なくともこの薄膜の表面に前記多孔質陽極酸化膜を形
   成したことを特徴とする光磁気記録媒体。
5. （５）請求項１記載の光磁気記録媒体において、前記基
   板を樹脂材料にて形成し、この基板の表面にアルミニウ
   ムもしくはアルミニウム合金の薄膜を形成し、少なくと
   もこの薄膜の表面に前記多孔質陽極酸化膜を形成したこ
   とを特徴とする光磁気記録媒体。
6. （６）請求項１ないし５のいずれかに記載の光磁気記録
   媒体において、前記基板の裏面を別体に形成された高剛
   性の基体に貼り合せたことを特徴とする光磁気記録媒体
   。
7. （７）請求項１ないし６のいずれかに記載の光磁気記録
   媒体において、前記基板をディスク状に形成したことを
   特徴とする光磁気記録媒体。
8. （８）請求項１ないし６のいずれかに記載の光磁気記録
   媒体において、前記基板をテープ状に形成したことを特
   徴とする光磁気記録媒体。
9. （９）請求項１ないし６のいずれかに記載の光磁気記録
   媒体において、前記基板をカード状に形成したことを特
   徴とする光磁気記録媒体。
10. （１０）請求項１ないし９のいずれかに記載の光磁気記
    録媒体において、前記基板をフレキシブルに形成したこ
    とを特徴とする光磁気記録媒体。
11. （１１）請求項１ないし１０のいずれかに記載の光磁気
    記録媒体において、前記基板に断面形状が凹凸状の信号
    パターンを形成したことを特徴とする光磁気記録媒体。
12. （１２）請求項１ないし１０のいずれかに記載の光磁気
    記録媒体において、前記多孔質陽極酸化膜に、前記磁性
    材が充填されていない領域を選択的に形成して成る信号
    パターンを形成したことを特徴とする光磁気記録媒体。
13. （１３）基板上にアルミニウムもしくはアルミニウム合
    金の薄膜を形成する工程と、 前記アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜に多
    孔質陽極酸化被膜を形成する工程と、前記多孔質陽極酸
    化被膜の微細孔中に磁性材を充填する工程と、 を含んで構成されていることを特徴とする光磁気記録媒
    体の製造方法。
14. （１４）基板上にアルミニウムもしくはアルミニウム合
    金の多孔質陽極酸化膜を形成する工程と、前記多孔質陽
    極酸化膜の表面にホトレジスト層を形成する工程と、 前記ホトレジスト層のプリフオーマツト形成部にカッテ
    ィング用光を照射する工程と、 前記カッティング用光が照射されなかつた部分のホトレ
    ジスト層を除去する工程と、 前記多孔質陽極酸化膜のうち、前記ホトレジスト層が除
    去された部分の微細孔中に磁性材を充填する工程と、 前記多孔質陽極酸化膜の表面に残留したホトレジスト層
    を除去し、当該部分に前記磁性材を含まない領域から成
    る信号パターンを形成する工程と、を含んで構成されて
    いることを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。