JPH02127027U - - Google Patents

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JPH02127027U
JPH02127027U JP3705589U JP3705589U JPH02127027U JP H02127027 U JPH02127027 U JP H02127027U JP 3705589 U JP3705589 U JP 3705589U JP 3705589 U JP3705589 U JP 3705589U JP H02127027 U JPH02127027 U JP H02127027U
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internal space
chamber
plasma cvd
cvd apparatus
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JP3705589U
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、本考案の実施例を説明する概略縦断
面図、第２図は、従来を説明する概略縦断面図で
ある。 尚、図中１はプラズマＣＶＤ装置、２はチヤン
バー、３は上部電極、４は下部電極、５は基板、
６は電極基部、７は電極板、８はガス導入部、９
は電極内空間、１０は開口部、１１はガス導管、
１２は内部空間、１３はガス導入孔、１５はガス
分散板、１６は貫通孔、１７は排気口、１８は排
気管、１９は容量調整弁、３０は高周波電源であ
る。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 高周波二極放電型プラズマＣＶＤ装置にお
    いて、 チヤンバー内部に基板を取付けた上部電極とガ
    ス導入部を形成した下部電極とを設けるとともに
    、前記チヤンバーに排気口を設けたことを特徴と
    するプラズマＣＶＤ装置。 (2) 前記下部電極を電極基部とその上部に設け
    た電極板とから形成するとともに、 前記電極基部と前記電極板とに囲まれた電極内
    空間と、 該電極基部の下部中央に設けた開口部と、 前記開口部に接続されていて前記電極内空間に
    通気させたガス導管と、 前記電極板に設けられていて、前記チヤンバー
    の内部空間と前記電極内空間とを連通させた複数
    個のガス導入孔と、 前記電極内空間内で且つ前記開口部上方に隙間
    を介して設けられていて、複数個の貫通孔を形成
    したガス分散板とから成るガス導入部を、 設けた請求項１記載のプラズマＣＶＤ装置。 (3) 前記排気口は、前記チヤンバーの底部で且
    つ複数ケ所に設けるとともに、容量調整弁を設け
    た排気管が取付けられた請求項１又は２記載のプ
    ラズマＣＶＤ装置。
JP3705589U 1989-03-30 1989-03-30 Pending JPH02127027U (ja)

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