JPH0212748A - 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ質量分析装置Info
- Publication number
- JPH0212748A JPH0212748A JP63163260A JP16326088A JPH0212748A JP H0212748 A JPH0212748 A JP H0212748A JP 63163260 A JP63163260 A JP 63163260A JP 16326088 A JP16326088 A JP 16326088A JP H0212748 A JPH0212748 A JP H0212748A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、試料を高周波誘導結合プラズマを用いて励起
させ生じたイオンをノズルとスキマーがらなるインター
フェイスを介して質量分析計検出器に導いて検出するこ
とにより前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導
結合プラズマ質量分析装置に関する。
させ生じたイオンをノズルとスキマーがらなるインター
フェイスを介して質量分析計検出器に導いて検出するこ
とにより前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導
結合プラズマ質量分析装置に関する。
〈従来の技術〉
第２図はこのような高周波誘導結合プラズマ質量分析装
置の従来例の要部を示す従来例要部構成説明図であり、
図中、１は高周波誘導結合プラズマ質量分析装置本体、
２はプラズマトーチ、３はプラズマトーチ２の内室、４
はプラズマトーチ２の外室、５はプラズマトーチ２の最
外室、６はプラズマトーチ２の外側に巻回された高周波
誘導コイル、７は高周波誘導プラズマ、８はノズル、９
はスキマー １０は例えばイオンレンズなどが収容され
ているセンターチャンバー １１は質量分析部、１２は
二次電子増倍管、１３は例えばマイクロコンピュータで
なる演算処理部、１４は試料ガス導入口である。このよ
うな構成からなる従来例において、試料は試料ガス導入
口からプラズマトーチの内室３に直接導入されるように
なっていた。また、このようにしてプラズマトーチの内
室３に直接導入された試料は高波誘導結合プラズマで励
起され、生じたイオンがノズル８やスキマー９からなる
インターフェイスを介して質量分析部１１に導かれ電気
的に検出されて該イオン量が精密ぐ測定されることによ
り試料中の被測定元素が高精度に分析されるようになっ
ていた。
置の従来例の要部を示す従来例要部構成説明図であり、
図中、１は高周波誘導結合プラズマ質量分析装置本体、
２はプラズマトーチ、３はプラズマトーチ２の内室、４
はプラズマトーチ２の外室、５はプラズマトーチ２の最
外室、６はプラズマトーチ２の外側に巻回された高周波
誘導コイル、７は高周波誘導プラズマ、８はノズル、９
はスキマー １０は例えばイオンレンズなどが収容され
ているセンターチャンバー １１は質量分析部、１２は
二次電子増倍管、１３は例えばマイクロコンピュータで
なる演算処理部、１４は試料ガス導入口である。このよ
うな構成からなる従来例において、試料は試料ガス導入
口からプラズマトーチの内室３に直接導入されるように
なっていた。また、このようにしてプラズマトーチの内
室３に直接導入された試料は高波誘導結合プラズマで励
起され、生じたイオンがノズル８やスキマー９からなる
インターフェイスを介して質量分析部１１に導かれ電気
的に検出されて該イオン量が精密ぐ測定されることによ
り試料中の被測定元素が高精度に分析されるようになっ
ていた。
〈発明が解決しようとする問題点〉
然しながら、上記従来例においては、気相でなる試料中
の被測定成分く例えばＡＩ、Ｚγ、８１など）が高濃度
であると、該被測定成分がノズルのところで析出したり
してノズルが閉塞するおそれがあるという欠点があった
。一方、上記試料か液体の場合、所謂フローインジェク
ション方式を使用し一定量の試料を移動層たるキャリア
溶液で搬送することにより、上述のようなノズルの閉塞
を効果的に防止している。
の被測定成分く例えばＡＩ、Ｚγ、８１など）が高濃度
であると、該被測定成分がノズルのところで析出したり
してノズルが閉塞するおそれがあるという欠点があった
。一方、上記試料か液体の場合、所謂フローインジェク
ション方式を使用し一定量の試料を移動層たるキャリア
溶液で搬送することにより、上述のようなノズルの閉塞
を効果的に防止している。
本発明は、かかる状況に鑑みてなされたものであり、そ
の目的は、気相試料中の被測定成分が高濃度であっても
、該被測定成分がノズルのところで析出したりしてノズ
ルが閉塞しないような高周波誘導結合プラズマ質量分析
装置を提供することにある。
の目的は、気相試料中の被測定成分が高濃度であっても
、該被測定成分がノズルのところで析出したりしてノズ
ルが閉塞しないような高周波誘導結合プラズマ質量分析
装置を提供することにある。
く問題点を解決するための手段〉
上述のような問題点を解決する本発明の特徴は、高周波
誘導結合プラズマ質量分析装置において、試料を試料採
取弁に送って内容積一定の計量管内を満たしてのち該試
料採取弁を切換えキャリアガスで前記プラズマトーチの
内室に導くことにある。
誘導結合プラズマ質量分析装置において、試料を試料採
取弁に送って内容積一定の計量管内を満たしてのち該試
料採取弁を切換えキャリアガスで前記プラズマトーチの
内室に導くことにある。
〈実施例〉
以下、本発明について図を用いて詳細に説明する。第１
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、第２
図と同一記号は同一意味をもなせて使用しここでの重複
説明は省略する。また、１５は試料排出口、１６はキャ
リアガス導入口、１７は第１〜第６の接続口１７ａ〜１
７ｆと内容積一定の計量管１７ｇを有し第１．第３．及
び第５の接続口１７ａ、１７ｃ、１７ｅが夫々第２．第
４、及び第６の接続口１７ｂ、１７ｄ、１７ｆに夫々接
続される第１状態と第１．第３．第５の接続口が夫々第
６．第２．及び第４の接続口に夫々接続される第２状態
とが交互に切換えられるように構成されてなる試料採取
弁である。尚、この試料採取弁は、試料を計量管に導入
すると共にキャリアをバイパスして直接プラズマトーチ
に導く第１状態と該計量管をキャリアが流れる第２状態
が交尾に繰返される構成の範囲内で種々の変形が可能で
あり、例えば１個の三方切換弁としたりバックプレッシ
ャーレギュレータを有する１個の四方切換弁としたり或
いは計量管を挟着する２個の四方切換弁としたりしても
よいものとする。また、第１図の試料導入口１４と試料
採取弁１７ｇの間に試料用の流量制御弁を設けると共に
、第１図のキャリア導入口１５と試料採取弁１７ｇの間
にキャリア用の流量制御弁を設けるようにしてもよい。
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、第２
図と同一記号は同一意味をもなせて使用しここでの重複
説明は省略する。また、１５は試料排出口、１６はキャ
リアガス導入口、１７は第１〜第６の接続口１７ａ〜１
７ｆと内容積一定の計量管１７ｇを有し第１．第３．及
び第５の接続口１７ａ、１７ｃ、１７ｅが夫々第２．第
４、及び第６の接続口１７ｂ、１７ｄ、１７ｆに夫々接
続される第１状態と第１．第３．第５の接続口が夫々第
６．第２．及び第４の接続口に夫々接続される第２状態
とが交互に切換えられるように構成されてなる試料採取
弁である。尚、この試料採取弁は、試料を計量管に導入
すると共にキャリアをバイパスして直接プラズマトーチ
に導く第１状態と該計量管をキャリアが流れる第２状態
が交尾に繰返される構成の範囲内で種々の変形が可能で
あり、例えば１個の三方切換弁としたりバックプレッシ
ャーレギュレータを有する１個の四方切換弁としたり或
いは計量管を挟着する２個の四方切換弁としたりしても
よいものとする。また、第１図の試料導入口１４と試料
採取弁１７ｇの間に試料用の流量制御弁を設けると共に
、第１図のキャリア導入口１５と試料採取弁１７ｇの間
にキャリア用の流量制御弁を設けるようにしてもよい。
更に、これらの流量制御弁に代えて試料採取弁１７ｇと
プラズマトーチ２の間に流量制御弁を配置するようにし
てもよい、上述のような要部構成からなる本発明の実施
例において、最初、試料採取弁１７がオフでその内部流
路が実線接続状態となっている、この状態で試料導入口
１４から導入された試料は、試料採取弁１７の第５接続
ロ１７ｅ→第６接続ロ１７ｆ→計量管１．７ ｇ→試料
採取弁１７の第３接続ロ１７ｃ→第４接続ロ１７ｄ→試
料排出口１５の流路で流れて計量管１７ｇ内を試料で満
たす。また、キャリア導入口１６から導入されたキャリ
アは、試料採取弁１７の第１接続１コ１７ａおよび第２
接続ロ１７ｂを経由してプラズマトーチ２の内室３に導
かれる。また、プラズマトーチ２の外室５と最外室６に
は図示しないガス供給源からアルゴンガスなどが供給さ
れると共に、高周波誘導コイル６には高周波電流が供給
されて該コイルのまわりに高周波磁界が形成されている
。
プラズマトーチ２の間に流量制御弁を配置するようにし
てもよい、上述のような要部構成からなる本発明の実施
例において、最初、試料採取弁１７がオフでその内部流
路が実線接続状態となっている、この状態で試料導入口
１４から導入された試料は、試料採取弁１７の第５接続
ロ１７ｅ→第６接続ロ１７ｆ→計量管１．７ ｇ→試料
採取弁１７の第３接続ロ１７ｃ→第４接続ロ１７ｄ→試
料排出口１５の流路で流れて計量管１７ｇ内を試料で満
たす。また、キャリア導入口１６から導入されたキャリ
アは、試料採取弁１７の第１接続１コ１７ａおよび第２
接続ロ１７ｂを経由してプラズマトーチ２の内室３に導
かれる。また、プラズマトーチ２の外室５と最外室６に
は図示しないガス供給源からアルゴンガスなどが供給さ
れると共に、高周波誘導コイル６には高周波電流が供給
されて該コイルのまわりに高周波磁界が形成されている
。
このような状態で、試料採取弁１７がオンにされると、
その内部流路が第１図の実線接続状態から破線接続状態
に切換えられる。このような切換により、キャリア導入
口１６から導入されたキャリアは、試料採取弁１７の第
１接続１コ１７ａ→第６接続ロ１７ｆ→計量管１７ｇ→
試料採取弁１７の第３接続ロ１７ｃ→第２接続ロ１７ｂ
を経由してプラズマトーチ２の内室３に流れるようにな
り、計量管１７ｇ内の試料がキャリアガスでプラズマト
ーチ２の内室３に導かれる。このようにしてプラズマト
ーチ２に導かれた試料は、高周波誘導結合プラズマ７で
励起され生じたイオンがノズルとスキマーからなるイン
ターフェイスを介して質量分析計に導かれ電気的に検出
されて該イオン量か精密に測定されることにより試料中
の被測定元素が高精度に分析されるようになる。
その内部流路が第１図の実線接続状態から破線接続状態
に切換えられる。このような切換により、キャリア導入
口１６から導入されたキャリアは、試料採取弁１７の第
１接続１コ１７ａ→第６接続ロ１７ｆ→計量管１７ｇ→
試料採取弁１７の第３接続ロ１７ｃ→第２接続ロ１７ｂ
を経由してプラズマトーチ２の内室３に流れるようにな
り、計量管１７ｇ内の試料がキャリアガスでプラズマト
ーチ２の内室３に導かれる。このようにしてプラズマト
ーチ２に導かれた試料は、高周波誘導結合プラズマ７で
励起され生じたイオンがノズルとスキマーからなるイン
ターフェイスを介して質量分析計に導かれ電気的に検出
されて該イオン量か精密に測定されることにより試料中
の被測定元素が高精度に分析されるようになる。
〈発明の効果〉
以上詳しく説明したような本発明の実施例によれば、試
料中の被測定成分が高濃度であっても、該被測定成分が
ノズルのところで析出したりしてノズルが閉塞しないよ
うな高周波誘導結合プラズマ雪景分析装置が実現する。
料中の被測定成分が高濃度であっても、該被測定成分が
ノズルのところで析出したりしてノズルが閉塞しないよ
うな高周波誘導結合プラズマ雪景分析装置が実現する。
即ち、試料を所望の分析するタイミングでプラズマトー
チに導入できるため、分析していない前後の時間は試料
がプラズマトーチ２に導入されず前記従来例のように試
料中の被測定成分でノズル８が閉塞するようなことがな
くなる。また、試料がプラズマトーチ２に導入されてい
ない間はノズル８にキャリアガスだけが導入されるため
、その間ノズル８をキャリアガスで洗浄する効果もあり
、結果的にノズル８が被測定成分で閉塞するのを完全に
防止できるようになる。また、試料切換弁の切換時間を
可変とすることによって、試料の導入量を任意に代えら
れるという利点もある。
チに導入できるため、分析していない前後の時間は試料
がプラズマトーチ２に導入されず前記従来例のように試
料中の被測定成分でノズル８が閉塞するようなことがな
くなる。また、試料がプラズマトーチ２に導入されてい
ない間はノズル８にキャリアガスだけが導入されるため
、その間ノズル８をキャリアガスで洗浄する効果もあり
、結果的にノズル８が被測定成分で閉塞するのを完全に
防止できるようになる。また、試料切換弁の切換時間を
可変とすることによって、試料の導入量を任意に代えら
れるという利点もある。
第１図は本発明実施例の要部構成説明図、第２図は従来
例の要部を示す従来例要部構成説明図である。 １・・・・・・高周波誘導結合プラズマ質量分析装置本
体、２・・・・・・プラズマトーチ、 ３・・・・・・プラズマトーチの内室、４・・・・・・
プラズマトーチの外室、５・・・・・・プラズマトーチ
の最外室、６・・・・・・高周波誘導コイル、 ７・・・・・・高周波誘導プラズマ、８・・・・・・ノ
ズル、９・・・・・・スキマー １０・・・・・・セン
ターチャンバ１１・・・・・・質量分析部、 ２・・・・・・二次電子増倍管、１３・・・・・・演算
処理部、４・・・・・・試料ガス導入口、 ５・・・・・・キャリアガス導入口 ６・・・・・・キャリアガス排出口、 ７・・・・・・試料採取弁
例の要部を示す従来例要部構成説明図である。 １・・・・・・高周波誘導結合プラズマ質量分析装置本
体、２・・・・・・プラズマトーチ、 ３・・・・・・プラズマトーチの内室、４・・・・・・
プラズマトーチの外室、５・・・・・・プラズマトーチ
の最外室、６・・・・・・高周波誘導コイル、 ７・・・・・・高周波誘導プラズマ、８・・・・・・ノ
ズル、９・・・・・・スキマー １０・・・・・・セン
ターチャンバ１１・・・・・・質量分析部、 ２・・・・・・二次電子増倍管、１３・・・・・・演算
処理部、４・・・・・・試料ガス導入口、 ５・・・・・・キャリアガス導入口 ６・・・・・・キャリアガス排出口、 ７・・・・・・試料採取弁
Claims (4)
- （１）プラズマトーチ内に導かれた試料を高周波誘導結
合プラズマを用いて励起させ生じたイオンをノズルとス
キマーからなるインターフェイスを介して質量分析計検
出器に導いて検出することにより前記試料中の被測定元
素を分析する分析装置において、試料を試料採取弁に送
って内容積一定の計量管内を満たしてのち該試料採取弁
を切換えキャリアガスで前記プラズマトーチの内室に導
くことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ質量分析装
置。 - （２）前記試料採取弁は第１〜第６の接続口と内容積一
定の計量管を有し第１、第３、第５の接続口が夫々第２
、第４、及び第６の接続口に夫々接続される第１状態と
第１、第３、第５の接続口が夫々第６、第２、及び第４
の接続口に夫々接続される第２状態とが交互に切換えら
れるように構成されていることを特徴とする特許請求範
囲第（１）項記載の高周波誘導結合プラズマ質量分析装
置。 - （３）前記試料採取弁は計量管を挟着する２個の四方切
換弁でなり該計量管に試料を導入すると共にキャリアを
バイパスして直接プラズマトーチに導く第１状態と該計
量管をキャリアが流れる第２状態が交互に切換えられる
ように構成されてなる特許請求範囲第（１）項記載の高
周波誘導結合プラズマ質量分析装置。 - （４）前記試料採取弁は１個の三方切換弁でなり試料を
直接プラズマトーチに導く第１状態とキャリアを直接プ
ラズマトーチに導く第２状態が交互に切換えられるよう
に構成されてなる特許請求範囲第（１）項記載の高周波
誘導結合プラズマ質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63163260A JPH0212748A (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63163260A JPH0212748A (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0212748A true JPH0212748A (ja) | 1990-01-17 |
| JPH0576130B2 JPH0576130B2 (ja) | 1993-10-22 |
Family
ID=15770422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63163260A Granted JPH0212748A (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0212748A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5475347A (en) * | 1993-10-30 | 1995-12-12 | Dong Il Technology Ltd. | Compact AC noise filter with ground inductor |
| JP2010251324A (ja) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Siemens Ag | とりわけ粒子線治療設備用のガス噴射システムおよびガス噴射システムを動作させるための方法 |
-
1988
- 1988-06-30 JP JP63163260A patent/JPH0212748A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5475347A (en) * | 1993-10-30 | 1995-12-12 | Dong Il Technology Ltd. | Compact AC noise filter with ground inductor |
| JP2010251324A (ja) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Siemens Ag | とりわけ粒子線治療設備用のガス噴射システムおよびガス噴射システムを動作させるための方法 |
| EP2242339A3 (de) * | 2009-04-16 | 2014-04-09 | Siemens Aktiengesellschaft | Gasinjektionssystem und Verfahren zum Betrieb eines Gasinjektionssystems, insbesondere für eine Partikeltherapieanlage |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0576130B2 (ja) | 1993-10-22 |
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