JPH02130708A - 複合型磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、磁気ギャップ部近傍の磁気回路が強磁性金属
薄膜によって形成されている磁気ヘッドに関するもので
ある。

（従来の技術） 近年、ＶＴＲ等の磁気記録再生装置に於いて、記録信号
の高密度化、高周波化が進んでおり、これに伴って、磁
性粉としてＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の強磁性金属粉末を用い
た抗磁力の高い塗布型メタルテープ、或は強磁性金属材
料を蒸着によりベースフィルム上に成膜した蒸着テープ
等が使用される様仁なっている。斯種磁気テープに信号
゛記録を行なう為には、高い飽和磁束密度を有する磁性
材料からなる磁気ヘッドが必要となる。

そこで、従来より第６図に示す如く、フェライト等の強
磁性酸化物よりなる一対の磁性コア半体（１）（１１）
の突合せ部に、磁気ギャップ部（３）を挟んで、センダ
スト等の強磁性金属層（２４）　（２５）を形成した複
合型の磁気ヘッドが提案されている　（特開昭６１−２
８７０１８［Ｃ１１ＢＳ／２３］）。

該磁気ヘッドに於いては、強磁性金属層（２４）（２５
）の磁気ギャップ部形成面とコア半体（１）（１１）の
強磁性金属層形成面とを非平行に設けると共に、磁気ギ
ャップ部（３）の両側にはガラス部（４６）　（４６）
を形成し、これによって所謂擬似ギャップの発生を阻止
し、実質的なトラック幅を所定値に規制している。

上記磁気ヘッドの製造方法を第７ｍ＜ａ＞〜（ｇ）に示
す。

先ず第７図（ａ）の如く磁性基板（１２）の表面に、底
面が傾斜した薄膜形成溝（１４）を凹設した後、同図（
ｂ）の如く、磁性基板（１２）の溝形成面に強磁性金属
膜（２２）をスパッタリング形成する。

次に、同図（ｅ）の如く強磁性金属Ｉｌｌ！　（２２）
の表面にガラス（４７）を充填した後、その表面を研磨
して、同図（ｄ）の如く基板（１２〉の表面に強磁性金
、［（２３）及びガラス（２７）の充填部を露出せしめ
る。

更に、第７図（ｅ）の如く磁性基板（１２）の表面に、
前記充填部に沿ってトラック幅規制溝（１６）を凹設す
る。

第７図（ｆ）に示す様に、上記工程を経て作製された一
対のブロック半体（７４）　（７５）の内、一方のブロ
ック半体（７４）にコイル溝（６１）と融着溝（６２）
を凹設した後、両ブロック半体（７４）（７５）をｓ　
ｉ　ＯｚＮＩ　＜図示省略）を介して互いに重ね合せ、
更に加熱炉内にて、融着溝（６２）に挿入したガラス棒
（４８）を溶融せしめることにより、同図（Ｆｌ）の如
く両ブロック半体（７４）（７５）をガラス接合してコ
アブロック（７０）を作製する。

最後に、前記コアブロック（７０）をスライスし、テー
プとの対接面を曲面研磨することによって、第６図の磁
気ヘッドを完成する。

（解決しようとする課題） ところが、第６図に示す磁気ヘッドに於いては、強磁性
酸化物のコア半体（１）（１１）が磁気ギャップ部（３
〉に連接して形成されている為、コア半体（１）（１１
）が磁気テープに対し磁石として作用し、これによって
摺動ノイズが発生する問題があった。

又、該磁気ヘッドの製造に於いては、第７図（ｅ）に示
すトラック幅規制溝（１６）の加工精度が最終的な磁気
ギャップ部のトラック幅の精度を左右するから、溝の機
械加工に高い精度が要求され、これによって大幅に工数
が増加する問題があった。

然も、第７図（ｂ）の如く磁性基板（１２）の全表面に
、磁性基板（１２）とは熱膨張係数が大きく異なる強磁
性金属膜（２２）が形成されるから、同図（ｆ）に示す
ガラス接合工程にて、強磁性金属Ｍ　（２２）及び磁性
基板（１２）表層部に過大な内部応力が発生し、これに
よって強磁性金属Ｍ　（２２）が！１ｌｌｌｌＩ！した
り、磁性基板（１２）にクラックが発生し、歩留りが低
下する問題があった。

本発明の目的は、摺動ノイズの発生を可及的に抑制出来
、又、従来よりも少ない工数で、然も歩留り良く製造す
ることが出来る構造の磁気ヘッドを提供することである
。

（課題を解決する為の手段） 本発明に係る磁気ヘッドは、強磁性酸化物よりなる一対
の磁性コア半体（１）（１１）の突会せ部に、磁気ギャ
ップ部（３）を挟んで一対の強磁性金属層（２）（２１
）を配備している。該強磁性金属層（２）（２１）は、
磁気ギャップ部形成面に対して非平行な平面或は曲面上
に形成される。

コア半体（１）（１１）の突合せ部には、磁気ギャップ
部＜３）全体及び強磁性金属層（２）（２１）の大部分
を包囲して、ガラス部＜４）　＜４１）　（５）　＜５
１）が設けられる。

又、強磁性金属層（２）（２１）の磁気ギャップ部（３
）から離間する方向の両端部（第２図中Ａ、Ａ）は、ガ
ラス部＜４＞　（４１）（，５）　（５１）とコア半体
＜１）（１１）との界面を貫通してコア半＃（１）（１
１）中へ伸びている。

（作　用） コア半体（１）（１１）中へ侵入した強磁性金属層（２
）〈２１）の両端部Ａ、Ａによって、コア半体（１）（
１１）と強磁性金属層（２＞（２１）とが互いに磁気的
に接続され、磁気ギャップ部（３）を介在した磁気ルー
プが形成される。

（発明の効果） 本発明に係る複合型磁気ヘッドに於いては、磁気ギャッ
プ部（３）の全周囲を包囲してガラス部（４）（４１）
（５）（５１）が形成されており、又、磁気記録媒体と
の対接面り１０）に於ける磁気ギャップ部（３）とコア
半体（１）（１１）との間には、十分な距離が設けられ
ているから、従来の如き摺動ノイズは生じない 又、強磁性金属層（２）（２１）の大部分がガラス部（
４）（４１）（５）　（５１）によって包囲され、強磁
性金属層（２）（２１）とコア半体（１）（１１）との
接触面積は、従来の磁気ヘッドに比べて狭いことに対応
して、該磁気ヘッドの製造工程においては、コア半体（
１）＜２）の資材となる磁性基板（１２）と強磁性金属
１（２）　（２１）となる強磁性金属ＩＩＩ　（２２）
との接触面積が、従来の磁気ヘッドの場合に比べて狭く
なるく第４図（ｅ）（ｆ）参照〉、従って、一対のブロ
ック半体をガラス接合する際〈第４図（ｉ＞（ｊ）参照
）、熱応力に起因する欠陥は発生せず、従来の磁気ヘッ
ドに比べて歩留りが改善される。

然も、磁気ギャップ部（３）のトラック幅は、強磁性金
属層（２＞（２１）の成膜厚さによって規定されるから
、従来の磁気ヘッドの如きトラック幅規制溝は不要であ
る。従って、磁気ヘッドの製造に必要な工数は従来より
も少なくて済む。

（実施例） 実施例は本発明を説明するためのものであって、特許請
求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する様
に解すべきではない。

第１図及び第２図は本発明に係る複合型磁気ヘッドの一
例を示している。

Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の強磁性酸化物よりなる一対の
磁性コア半体（１）（１１）の突合せ部に、Ｓｉｏ２か
らなる磁気ギャップ部（３）を挟んで、センダスト或は
アモルファス合金等からなる一対の強磁性金属層（２）
（２１）が形成されている。

該強磁性金属層（２）（２１）は、テープ対接面（１０
）上の表面形状が２字状を呈しており、両コア半体（１
）（１１）の接合面に対して略４５度傾斜した平面上を
磁気ギャップ部（３）から離れる方向に伸び、両端部Ａ
、Ａがコア半体（１）（１１）中に侵入し、更に該端部
Ａからコア接合面側へ折り返し、コア接合面まで伸びて
いる。

又、コア半体（１）（１１）の突合せ部には、磁気ギャ
ップ部（３）全体及び強磁性金属層（２）（２１）の大
部分を包囲して、高融点ガラス部（４）（４１）と低融
点ガラス部（５）（５１）が設けられている。該ガラス
部は、テープ対接面（１０）からコイル窓（６）の深さ
位置まで伸びている。

尚、後述の如く高融点ガラス部（４）（４１）及び低融
点ガラス部（５）（５１）は、熱膨張係数がコア半体（
１）（１１）の強磁性酸化物よりも大きく、且つ強磁性
金属層（２）（２１）よりも小なるガラス資材から形成
される。

以下、上記磁気ヘッドの製造方法について説明する９ 先ず第４図（ａ）に示す磁性基板（１２）を作製し、該
磁性基板（１２）の表面に、同図（ｂ）の如く断面矩形
のガラス充填？ＩＩ（１３）を回転砥石等によって繰り
返し凹設する。

次に、第４図（ｃ）の如く磁性基板（１２）の溝形成面
に、軟化点が略６５０℃、膨張係数が０〜３００℃にて
略１４０Ｘ１０−７ｍ／’Ｃの高融点ガラス膜（４２）
を形成する。高融点ガラス膜（４２）の形成は、例えば
第５図（ａ）（ｂ）に示す方法によって行なわれる。即
ち、第５図（ａ）の如く石英ガラスよりなる一対の加圧
治具（１００）　（１０１）の間に、磁性基板（１２）
、高融点ガラスＭ　（４２）の資材となるガラス板（４
４）、及び金属箔（１０２）を介装し、同図（ｂ）の如
く両加圧治具によってガラス板（４４）を磁性基板（１
２）に加圧した状態で、加熱炉内にてガラス板（４４）
を溶融せしめるのである。

その後、第４図（ｄ）の如く磁性基板（１２）のガラス
充填面を研磨して、高融点ガラス（４３）が充填された
溝（１３〉を露出せしめる。

前記研磨面に、゛第４図（ｅ）の如くガラス充填溝（１
３）に対して略直交する薄膜形成溝（１４）を、ガラス
充填溝（１３）よりも大なる深さで凹設する。該薄膜形
成溝（１４）の底面は、研摩面に対して傾斜した平面く
例えば４５度の斜面）或は曲面に形成される。

第４図（ｆ）に示す如く、磁性基板（１２）の溝形成面
に、センダスト或はアモルファス合金等からなる強磁性
金属膜（２２）を、スパッタリングによりトラック幅に
対応する所定厚さに形成する。

第４図（ｇ）の如く前記強磁性金属膜（２２）の表面に
、軟化点が略４００℃、膨張係数が０〜３００℃にて略
１４０Ｘ　１０−’論／　”Ｃの低融点ガラス膜（５２
）を形成する。低融点ガラス膜（５２）の形成には、第
５図と同様の方法を用いることが出来る。

更に第４図（ｈ）に示す様に、前記低融点ガラス膜（５
Ｚ）の形成面に平面研字を施して、強磁性金属＜２３）
、低融点ガラス（５３）及び高融点ガラス（４３）を表
面に露出したブロック半体（７１）を作製する。

前記工程を経て得られた一対のブロック半体（７１）＜
７２）の内、一方のブロック半体（）２）に、第４図（
ｉ）に示す様に高融点ガラス（４３）の充填溝に沿って
、コイル講（６１）を７凹設する。

その後、第４図（ｊ）に示す様に、前記一対のブロック
半体（）１）（７２）を、ＳｉＯ２の非磁性層（３１）
を介して、強磁性金属（２３）の層が突き合う位相で互
いに接合し、加熱炉内にて低融点ガラス（５３）を溶融
せしめる。これによって両ブロック半体（７１）り７２
）が互いに固定され、一体のコアブロック（７）が得ら
れる。

前記コアブロック（７）を図中Ｘ線に沿って切断し、第
４図（ｋ）に示すヘッドブロック（８）を作製する。更
に、該ヘッドブロック（８）を図中Ｙ線に沿ってスライ
スし、磁気テープとの対接面を曲面研磨することによっ
て、第１図に示す磁気ヘッドが完成する。

高融点ガラス部（４）（４１）及び低融点ガラス部（５
）（５１）の組成及び物理特性を下記衣に示す。

尚、第３図（ａ）（ｂ）に示す如く、テープ対接面（１
０）に溝加工（９）（９１）を施すことにより、磁気ギ
ャップ部（３）の以外の箇所、即ち強磁性金属層＜２）
（２１）とコア半体（１）（１１）とが高融点ガラス部
（４）（４１）を挟んで僅かな距離で対向する部分（第
２図中Ｂ）に於ける磁束漏れを完全に防止することが出
来る。

第１図に示す磁気ヘッドに於いては、テープ対接面（１
０）ににて磁気ギャップ部（３）とコア半体（１）（１
１）とが十分に離間しているから、従来の如き摺動ノイ
ズが生じることはない。

又、第４図（ｆ）に示す強磁性金属膜（２２）の形成工
程にて、磁性基板（１２）の表面にはガラス充填部が形
成されているから、強磁性金属膜（２２）と磁性基板（
１２）との接触面積は、従来の磁気ヘッドの場合に比べ
て半減する。従って、同図（ｊ）に来すガラス接合工程
にて、熱膨張係数の差に基づいて磁性基板（１２）と強
磁性金属膜（２２）に生じる内部応力は、従来に比べて
小さい、然も、前述の如く低融点ガラス及び高融点ガラ
スの熱膨張係数は、磁性基板（１２）よりも大きく、且
つ強磁性金属膜（２２）よりも小さいから、前記内部応
力がガラス部によって緩和されることになる。

従って、第４図（ｈ）の如くブロック半体（７１）の表
面を研磨する際、或は第４図Ｕ）の如く一対のブロック
半体（７１）（７２）をガラス接合する際、強磁性金属
層が剥離したり、磁性基板にクラックが生じることはな
い。

然も、第２図の如く磁気ギャップ部（３）の両側には、
低融点ガラス部（５）（５１）及び高融点ガラス部（４
）（４１）が設けられ、これらのガラス部によってトラ
ック幅が規定されるから、第４図（ｈ）から同図（ｊ＞
に至る製造工程で、従来の如きトラック幅規制溝の加工
（第７図（ｅ））は不要である。尚、本発明の磁気ヘッ
ドでは、第４図（ｂ）に示すガラス充填溝（１３）の加
工が必要なるが、ガラス充填溝（１３）の形状寸法はト
ラック幅に関与しないから、該溝加工に高い精度は不要
である。従って、本発明の磁気ヘッドの製造に必要な工
数は従来の磁気ヘッドよりも減少する。

図面及び上記実施例の説明は、本発明を説明するための
ものであって、図面及び上記実施例の説明は、特許請求
の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する様に
解すべきではない。

又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である
ことは勿論である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの斜面図、第２図は同
上の平面図、第３図（ａ）は他の実施例を示す磁気ヘッ
ドの平面図、第３図（ｂ）は同図（ａ）　Ｂ−Ｂ線に沿
う断面図、第４図（、）〜（ｋ＞は第１図の磁気ヘッド
製造工程を示す斜面図、第５図はガラス充填工程を説明
する図、第６図は従来の磁気ヘッドの斜面図、第７図（
、）〜（ｇ）は第６図の磁気ヘッドの製造工程を示す斜
面図である。 （１）（１１）・・・コア半体 （２）（２１）・・・強磁性金属層 （３）・・・磁気ギャップ部 （４）（４１）・・・高融点ガラス部 （５）（５１）・・・低融点ガラス部 第５図 手続補正書（自発〕 １゜ 事件の表示 ２、発明の名称 特願昭６３−２８５３０９ 複合型磁気ヘラ 三洋電機株式会社 ５、補正の対象 明４Ｉ書発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 〈１〉　　明細書第９頁第１８行目 「略１４０　Ｘ　１０”’ｍ／’Ｃ〜形成」を （２）明細書第９頁第１９行目 ｒ高融点ガラスＷＡ（４２）の形成」をｒ高融点ガラス
（４２）の充填１に補正。 （３）　　明細書第１０頁第２行目〜第３行目ｒ高融点
ガラスｆｉｌ（４２）Ｊを ｃ高融点ガラス（４２）Ｊに補正。 （４）　　明細書第１１頁第２行目〜第３行目「略１４
０Ｘ１０−’輔／℃〜形成には」をｒ略１４０ｘｌＯ−
’／’Ｃの低融点ガラス（５２）を形成する。低融点ガ
ラス（５２）の充填には１に補正。 （５）明細書第１１頁第５行目〜第６行目「低融点ガラ
ス膜（５２）Ｊを ｒ低融点ガラス（５２）Ｊに補正。 （６）　　明細書第１１頁第６行目〜第７行目「強磁性
金属（２３）Ｊを ７強磁性金属膜（２３）Ｊに補正。 （７）明細書第１１頁第１５行目 「位相」を ｒ位置１に補正。 （８）明細書第１２頁第１５行目 表中のｒ（０〜３００℃）（ｍ／’Ｃ）Ｊをｒ（Ｑ〜３
００℃）（／”Ｃ）Ｊに補正。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ［１］強磁性酸化物よりなる一対の磁性コア半体（１）
   （１１）の突合せ部に、磁気ギャップ部（３）を挟んで
   一対の強磁性金属層（２）（２１）を配備し、該強磁性
   金属層（２）（２１）は、磁気ギャップ部形成面に対し
   て非平行な平面或は曲面上に形成されている複合型磁気
   ヘッドに於いて、コア半体（１）（１１）の突合せ部に
   は、磁気ギャップ部（３）全体及び強磁性金属層（２）
   （２１）の大部分を包囲して、ガラス部（４）（４１）
   （５）（５１）が設けられ、強磁性金属層（２）（２１
   ）の磁気ギャップ部（３）から離間する方向の両端部は
   、ガラス部（４）（４１）（５）（５１）とコア半体（
   １）（１１）との界面を貫通してコア半体（１）（１１
   ）中へ伸びていることを特徴とする複合型磁気ヘッド。