JPH02131936A - フレキシブル銅張積層板 - Google Patents
フレキシブル銅張積層板Info
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- JPH02131936A JPH02131936A JP28571988A JP28571988A JPH02131936A JP H02131936 A JPH02131936 A JP H02131936A JP 28571988 A JP28571988 A JP 28571988A JP 28571988 A JP28571988 A JP 28571988A JP H02131936 A JPH02131936 A JP H02131936A
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- JP
- Japan
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- foil
- formula
- primary diamine
- copper
- aromatic primary
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- Laminated Bodies (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、電子工業分野において普及しつつあるフレキ
シブル銅張り積層板(Flexible Copper
Clad Laminate ,以下FCLと略す)に
関するものである。
シブル銅張り積層板(Flexible Copper
Clad Laminate ,以下FCLと略す)に
関するものである。
[従来の技術1
FCLは、主として可撓性を有するプリント配線板用の
基材として使用されるが、その他tm波シールド用材料
、面発熱体、フラソトケーブル、包装材料等に使用され
る。
基材として使用されるが、その他tm波シールド用材料
、面発熱体、フラソトケーブル、包装材料等に使用され
る。
近年においては、プリント配線板が収容されるケース類
がコンパクトになるなどのために、FCLのプリント配
線板用の基材としての利用が増大している. このようなFCLは従来、通常は厚さ5μ−以上の有機
重合体からなる接着剤を用いて、銅箔に耐熱性重合体フ
ィルムを張り合わせることにより製造されている.しか
し、この接着剤を使用したFCLは、その接着剤の特性
が不十分であるために耐熱性重合体フィルムの優れた特
性を十分に生かすことができず、特に耐熱性の点で問題
があった。
がコンパクトになるなどのために、FCLのプリント配
線板用の基材としての利用が増大している. このようなFCLは従来、通常は厚さ5μ−以上の有機
重合体からなる接着剤を用いて、銅箔に耐熱性重合体フ
ィルムを張り合わせることにより製造されている.しか
し、この接着剤を使用したFCLは、その接着剤の特性
が不十分であるために耐熱性重合体フィルムの優れた特
性を十分に生かすことができず、特に耐熱性の点で問題
があった。
そのために、耐熱性重合体フィルムとw4箔が接着剤を
介することなく直接的に固着させられているFCLとす
る方法が従来から検討されている.たとえば、米国特許
3,179,634 、同3,736,170 、特開
昭49429. 862号、同58−190,091号
、同59−162.044号などがある. しかしながら、これらの方法による接着剤不使用のFC
Lは耐熱性重合体フィルムと銅箔との接着力が不十分で
あること、あるいは接着力が十分であってもその強度が
安定せず、特に高温雰囲気での接着力の劣化が大きいな
どの欠点があった.特に、耐熱性重合体の中でもポリイ
ミドとポリアミドイミドの場合は、種々の原因により安
定して大きい接着力を得ることは難しい. さらに、米国特許3,736,170 、特開昭59−
162, 044号の実施例に記述されているように
、FCL用の耐熱性重合体として好適なフェノール性溶
媒に不溶のポリイミドの場合には、耐熱性重合体フィル
ムと銅箔との間の引き剥がし強度があまり高いとは言え
ず、折り曲げ応力が大きい場合、あるいは回路幅が狭い
場合には、回路の信頼性から考えて接着力が十分である
とは言えない。
介することなく直接的に固着させられているFCLとす
る方法が従来から検討されている.たとえば、米国特許
3,179,634 、同3,736,170 、特開
昭49429. 862号、同58−190,091号
、同59−162.044号などがある. しかしながら、これらの方法による接着剤不使用のFC
Lは耐熱性重合体フィルムと銅箔との接着力が不十分で
あること、あるいは接着力が十分であってもその強度が
安定せず、特に高温雰囲気での接着力の劣化が大きいな
どの欠点があった.特に、耐熱性重合体の中でもポリイ
ミドとポリアミドイミドの場合は、種々の原因により安
定して大きい接着力を得ることは難しい. さらに、米国特許3,736,170 、特開昭59−
162, 044号の実施例に記述されているように
、FCL用の耐熱性重合体として好適なフェノール性溶
媒に不溶のポリイミドの場合には、耐熱性重合体フィル
ムと銅箔との間の引き剥がし強度があまり高いとは言え
ず、折り曲げ応力が大きい場合、あるいは回路幅が狭い
場合には、回路の信頼性から考えて接着力が十分である
とは言えない。
[発明が解決しようとするtiBl
ポリイミドフィルムが厚さ5μ醜以上のエボキシ樹脂、
アクリル樹脂等の有機重合体からなる接着着層を介して
wA箔に張り合わせられたFCLはすでに提案されてい
るが、そのような有機重合体からなる接着剤を使用する
既存のFCLは、その特性が多くの点において要求水準
に達していない.また、接着剤層の存在しないFCLは
耐熱性の点では接着剤層の存在するPCLに比べて優れ
ているが、接着力や耐熱性重合体フィルムの強度、耐折
性等の点のバランスのとれたFCLはいまだ実用化には
到っていない。
アクリル樹脂等の有機重合体からなる接着着層を介して
wA箔に張り合わせられたFCLはすでに提案されてい
るが、そのような有機重合体からなる接着剤を使用する
既存のFCLは、その特性が多くの点において要求水準
に達していない.また、接着剤層の存在しないFCLは
耐熱性の点では接着剤層の存在するPCLに比べて優れ
ているが、接着力や耐熱性重合体フィルムの強度、耐折
性等の点のバランスのとれたFCLはいまだ実用化には
到っていない。
かかる状況に鑑み、本発明では耐熱性が高く、腰が強く
、耐折性に優れ、引き剥がし強度が高く適切な熱膨張率
をもった優れた特性のFCLを提供するものであり、こ
のようなFCLは産業上、特に電子工業上極めて脊用な
ものである。
、耐折性に優れ、引き剥がし強度が高く適切な熱膨張率
をもった優れた特性のFCLを提供するものであり、こ
のようなFCLは産業上、特に電子工業上極めて脊用な
ものである。
[課題を解決するための手段コ
すなわち、本発明は、
芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族第一級ジアミ
ンを反応させて生成したポリイミドのフィルムが銅箔上
に形成されているフレキシブル銅張り積層板において、
咳芳香族テトラカルボン酸無水物が以下の(1)式、咳
芳香族第一級ジアミンが以下の(2a)式と(2b)式
の混合物であることを特徴とするフレキシブル銅張りf
IN板、であり、また}{2ht−@−NHz (2a》 82N−o−0−@−G−0−@−NH2《2b》 (2a)弐で表された芳香族第一級ジアミンと(2b)
式で表された芳香族第一級ジアミンとの当量比が90〜
40 : 10〜60であるフレキンブル銅張り積層板
であり、また、 上記規定のフレキシブル銅張り積層板の製法にして、(
2a)弐で表された芳香族第一級ジアミンと(2b)式
で表された芳香族第一級ジアミンを当盪比で90〜40
: 10〜60の割合で混合し、芳香族テトラカルボ
ン酸無水物と反応させて生成したボリアミド酸の有機溶
媒溶液を、銅箔上にコーティングした後、加熱、乾燥、
脱水してポリイミドフィルム層を銅箔上に形成させるこ
とを特徴とするフレキシブル銅張り積層板の製法、であ
る. すなわち、本発明の要旨は、 通常、ポリイミドはテトラカルボン酸二無水物と、ジア
ミンを原料として合成されるところ、本発明においては
、テトラカルボン酸二無水物として(1)で示される3
,3゜,4,4゜−ビフエニルテトラカルボン酸二無水
物を用い、ジアミンとして(2a)で示されるバラフェ
ニレンジアミンおよび(2b)で示される4,4″−ビ
ス(3−アミノフエノキシ)ビフエニルを、好ましくは
当量比90〜40 : 10〜60で混合して使用する
ものである. 上記のテトラカルボン酸二無水物とジアミンは、有機溶
媒中で反応してボリアミド酸となり、銅箔上にコーティ
ングされた後、加熱、乾燥、脱水されてフレキシブル銅
張り積層板とされる.本発明で生成するポリアミド酸は
、特に限定はないが、望まし《は、パラフエニレンジア
ミンと4.4゜−ビス(3−アミノフエノキシ)ビフェ
ニルを、当量比90〜40 : 10〜60、好ましく
は80〜60 : 20〜40で、温度は一般には−2
0℃〜100゜C1好ましくは0゜C〜40゛Cで混合
した後、3,3゜,4.4’−ビフエニルテトラカルボ
ン酸無水物と、−20″C以上で使用する溶媒の沸点未
満の温度範囲で、好ましくはθ℃〜40″Cで、10分
以上、好ましくは1〜48時間反応させる(方法1)か
、あるいは、バラフエニレンジアミンと3.3”.4,
4゜−ビフエニルテトラカルボン61無水物とを−20
゜C以上で使用する溶媒の沸点未満の温度範囲で、好ま
しくは0゛C〜40゜Cで、10分以上、好ましくは1
〜48時間反応させて生成したボリアミド酸(A)
と、ボリアミド酸(A) と同様の条件と方法で4,
4゜−ビス(3−アミノフエノキシ)ビフエニルと3.
3゜.4,4゜−ビフェニルテトラカルボン酸無水物と
を反応させて生成したポリアミド酸(B) とをジアミ
ン換算の当量比で90〜40 : 10〜60、好まし
くは80〜60 : 20〜40で混合する(方法2)
ことにより得られる.以上のようにして得られるボリア
ミド酸溶液中のボリアミド酸の濃度は、5〜50%であ
ることが好ましい.これらの方法のうち機械的物性等の
点から、方法1で製造した場合に特に好ましい結果が得
られる.ジアミンの中で、4.4′−ビス(3−アミノ
フェノキシ)ビフェニルが当量比で60%を越える場合
には、生成したポリイミドは熱可塑性が強いために、ポ
リイミドフィルムに半田ごて(300〜350℃)が直
接触れた場合に、容易にフィルムが損傷を受けたり、高
温半田浴(280゜C以上)にフロートされた場合にフ
ィルムが変形を起こすことがあり、また腰が弱いために
、回路形成してコ不クター等に接続する際等に操作性が
悪く、プリント配線板としての取り扱いが難し《なる.
また、4,4゜−ビス(3−アミノフヱノキシ)ビフエ
ニルが当量比でlO%未満の場合には、生成したポリイ
ミドフィルムの銅箔との接着力が低く、フレキシブルプ
リント回路の回路が容易にフィルムから剥がれ易く、実
用に耐えることができないという欠点が生じる.重合、
およびコーティングの際に用いられる有機溶媒としては
、たとえばN−メチル−2−ビロリドン、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、1
.3−ジメチル−2=イミダゾリジノン、N,N−ジエ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルメトキシアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、ピリジン、ジメチルスル
ホン、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラメチル尿素
、N−メチル力プロラクタム、テトラヒド口フラン、一
ジオキサン、p−ジオキサン、■,2−ジメトキシエタ
ン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、1.2−ビ
ス(2−メトキシエトキシ)エタン、ビス−[2− (
2−メトキシエトキシ)エチル}エーテル等がある。
ンを反応させて生成したポリイミドのフィルムが銅箔上
に形成されているフレキシブル銅張り積層板において、
咳芳香族テトラカルボン酸無水物が以下の(1)式、咳
芳香族第一級ジアミンが以下の(2a)式と(2b)式
の混合物であることを特徴とするフレキシブル銅張りf
IN板、であり、また}{2ht−@−NHz (2a》 82N−o−0−@−G−0−@−NH2《2b》 (2a)弐で表された芳香族第一級ジアミンと(2b)
式で表された芳香族第一級ジアミンとの当量比が90〜
40 : 10〜60であるフレキンブル銅張り積層板
であり、また、 上記規定のフレキシブル銅張り積層板の製法にして、(
2a)弐で表された芳香族第一級ジアミンと(2b)式
で表された芳香族第一級ジアミンを当盪比で90〜40
: 10〜60の割合で混合し、芳香族テトラカルボ
ン酸無水物と反応させて生成したボリアミド酸の有機溶
媒溶液を、銅箔上にコーティングした後、加熱、乾燥、
脱水してポリイミドフィルム層を銅箔上に形成させるこ
とを特徴とするフレキシブル銅張り積層板の製法、であ
る. すなわち、本発明の要旨は、 通常、ポリイミドはテトラカルボン酸二無水物と、ジア
ミンを原料として合成されるところ、本発明においては
、テトラカルボン酸二無水物として(1)で示される3
,3゜,4,4゜−ビフエニルテトラカルボン酸二無水
物を用い、ジアミンとして(2a)で示されるバラフェ
ニレンジアミンおよび(2b)で示される4,4″−ビ
ス(3−アミノフエノキシ)ビフエニルを、好ましくは
当量比90〜40 : 10〜60で混合して使用する
ものである. 上記のテトラカルボン酸二無水物とジアミンは、有機溶
媒中で反応してボリアミド酸となり、銅箔上にコーティ
ングされた後、加熱、乾燥、脱水されてフレキシブル銅
張り積層板とされる.本発明で生成するポリアミド酸は
、特に限定はないが、望まし《は、パラフエニレンジア
ミンと4.4゜−ビス(3−アミノフエノキシ)ビフェ
ニルを、当量比90〜40 : 10〜60、好ましく
は80〜60 : 20〜40で、温度は一般には−2
0℃〜100゜C1好ましくは0゜C〜40゛Cで混合
した後、3,3゜,4.4’−ビフエニルテトラカルボ
ン酸無水物と、−20″C以上で使用する溶媒の沸点未
満の温度範囲で、好ましくはθ℃〜40″Cで、10分
以上、好ましくは1〜48時間反応させる(方法1)か
、あるいは、バラフエニレンジアミンと3.3”.4,
4゜−ビフエニルテトラカルボン61無水物とを−20
゜C以上で使用する溶媒の沸点未満の温度範囲で、好ま
しくは0゛C〜40゜Cで、10分以上、好ましくは1
〜48時間反応させて生成したボリアミド酸(A)
と、ボリアミド酸(A) と同様の条件と方法で4,
4゜−ビス(3−アミノフエノキシ)ビフエニルと3.
3゜.4,4゜−ビフェニルテトラカルボン酸無水物と
を反応させて生成したポリアミド酸(B) とをジアミ
ン換算の当量比で90〜40 : 10〜60、好まし
くは80〜60 : 20〜40で混合する(方法2)
ことにより得られる.以上のようにして得られるボリア
ミド酸溶液中のボリアミド酸の濃度は、5〜50%であ
ることが好ましい.これらの方法のうち機械的物性等の
点から、方法1で製造した場合に特に好ましい結果が得
られる.ジアミンの中で、4.4′−ビス(3−アミノ
フェノキシ)ビフェニルが当量比で60%を越える場合
には、生成したポリイミドは熱可塑性が強いために、ポ
リイミドフィルムに半田ごて(300〜350℃)が直
接触れた場合に、容易にフィルムが損傷を受けたり、高
温半田浴(280゜C以上)にフロートされた場合にフ
ィルムが変形を起こすことがあり、また腰が弱いために
、回路形成してコ不クター等に接続する際等に操作性が
悪く、プリント配線板としての取り扱いが難し《なる.
また、4,4゜−ビス(3−アミノフヱノキシ)ビフエ
ニルが当量比でlO%未満の場合には、生成したポリイ
ミドフィルムの銅箔との接着力が低く、フレキシブルプ
リント回路の回路が容易にフィルムから剥がれ易く、実
用に耐えることができないという欠点が生じる.重合、
およびコーティングの際に用いられる有機溶媒としては
、たとえばN−メチル−2−ビロリドン、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、1
.3−ジメチル−2=イミダゾリジノン、N,N−ジエ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルメトキシアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、ピリジン、ジメチルスル
ホン、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラメチル尿素
、N−メチル力プロラクタム、テトラヒド口フラン、一
ジオキサン、p−ジオキサン、■,2−ジメトキシエタ
ン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、1.2−ビ
ス(2−メトキシエトキシ)エタン、ビス−[2− (
2−メトキシエトキシ)エチル}エーテル等がある。
ポリアミド酸7容液をw4箔上にコーティングする場合
は、生成したボリアミド酸溶液をそのまま、あるいは前
述の有機溶媒で希釈して、または溶媒の沸点以下の温度
で10分以上加熱することによってボリアミド酸を5〜
40重盪%、特に好ましくはlO〜30重世%含有し、
かつ、対数粘度が0.5〜6a/g (35゜c,′a
度0.5g/100d、N,N−シ/{−ル7−t=ト
アミドで測定した値)、特に1.0〜4dl/gである
溶液を用いることが、製造したポリイミドの物性および
ボリアミド酸の塗布適性、乾燥工程での経済性から好ま
しい。なお簡便な方法としては、塗布時に回転粘度計で
粘度の目安をつけることができ、そのイ直としては10
0〜l00000cpsである.ボリアミド酸溶液を銅
箔上にコーティングする操作は、流延塗布により行なわ
れることが好ましく、具体的には、1i1箔表面にポリ
アミド酸溶液を製膜用スリットから吐出させて均一な厚
さの塗膜層を形成させる.なお、塗Wj4Jiの厚さは
最終的に得られるポリイミドフィルム層の厚さがlus
〜1000μm程度の厚さになるように調整される.他
のコーティング手段として、ドクターブレート、ロール
コーター、ナイフコーター、コンマコーター、フローコ
ーター等の公知の手段を利用することができる. w4箔は圧延銅箔、電解w4箔ともに使用することがで
きるが、その厚さは通常1μII〜100μ鰯程度であ
る.また、銅箔とポリイミドとの接着力を高めるために
、w4Fgの表面に金属単体、合金またはそれらの酸化
物、たとえば銅単体、酸化銅、ニノケルー銅合金、亜鉛
一銅合金等を形成させたり、銅箔の表面をカンブリング
剤、たとえばアミノシラン系カンプリング剤、エポキシ
シラン系カップリング剤、メルカブタン系カップリング
剤等で処理することも好ましい。さらに、銅箔表面の防
錆のために、銅箔上に酸化亜鉛処理、亜鉛−クロメート
処理、酸化クロム処理等を行なうことも好ましい。
は、生成したボリアミド酸溶液をそのまま、あるいは前
述の有機溶媒で希釈して、または溶媒の沸点以下の温度
で10分以上加熱することによってボリアミド酸を5〜
40重盪%、特に好ましくはlO〜30重世%含有し、
かつ、対数粘度が0.5〜6a/g (35゜c,′a
度0.5g/100d、N,N−シ/{−ル7−t=ト
アミドで測定した値)、特に1.0〜4dl/gである
溶液を用いることが、製造したポリイミドの物性および
ボリアミド酸の塗布適性、乾燥工程での経済性から好ま
しい。なお簡便な方法としては、塗布時に回転粘度計で
粘度の目安をつけることができ、そのイ直としては10
0〜l00000cpsである.ボリアミド酸溶液を銅
箔上にコーティングする操作は、流延塗布により行なわ
れることが好ましく、具体的には、1i1箔表面にポリ
アミド酸溶液を製膜用スリットから吐出させて均一な厚
さの塗膜層を形成させる.なお、塗Wj4Jiの厚さは
最終的に得られるポリイミドフィルム層の厚さがlus
〜1000μm程度の厚さになるように調整される.他
のコーティング手段として、ドクターブレート、ロール
コーター、ナイフコーター、コンマコーター、フローコ
ーター等の公知の手段を利用することができる. w4箔は圧延銅箔、電解w4箔ともに使用することがで
きるが、その厚さは通常1μII〜100μ鰯程度であ
る.また、銅箔とポリイミドとの接着力を高めるために
、w4Fgの表面に金属単体、合金またはそれらの酸化
物、たとえば銅単体、酸化銅、ニノケルー銅合金、亜鉛
一銅合金等を形成させたり、銅箔の表面をカンブリング
剤、たとえばアミノシラン系カンプリング剤、エポキシ
シラン系カップリング剤、メルカブタン系カップリング
剤等で処理することも好ましい。さらに、銅箔表面の防
錆のために、銅箔上に酸化亜鉛処理、亜鉛−クロメート
処理、酸化クロム処理等を行なうことも好ましい。
前述のようにして調整されたボリアミド酸塗布層を、次
に加熱して脱溶媒、脱水縮合反応を行なう.この操作は
、常圧、減圧、あるいは加圧など任意の条件で行なうこ
とができる.また加熱方法は熱風、赤外、遠赤外等いず
れを用いてもよく、また併用することもさしつかえない
。これらの脱溶媒、脱水工程で、銅箔表面が酸化される
温度以上の温度にさらされる場合には、w4箔表面の酸
化が起こり、w4箔の機械特性、電気特性および接着性
の低下が起こり易くなることがあるため、銅箔が酸化さ
れる温度以上では脱溶媒、脱水工程を窒素、ヘリウム、
ネオン、アルゴン等の不活性ガス中で行なうことが、銅
箔表面の酸化を防止するために特に好ましい.ここで不
活性ガス中とは、銅箔表面が、所定時間の加熱の際に実
質的に電気特性あるいは接着力等に悪影響を与える酸化
反応を受けない気体雰囲気中であることを意味し、加熱
温度にも依存するが、通常酸素4度が10%以下、好ま
しくは5%以下、さらに好ましくは1%以下である気体
雰囲気を意味する. 以上に述べたように、本発明で提案されたFCLは、接
着剤を含まないために耐熱性が良好で、優れたポリイミ
ドの使用により耐折性、引き剥がし強度、腰の強さ等の
点で優れた特性を存する.〔実施例) 次に実施例を示してさらに本発明を説明する.実施例 攪拌機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器中に
おいて(2a)のジアミンたるバラフエニレンジアミン
151g(1.4モル)と(2b)のジアミンたる4.
4’−(3−アミノフェノキシ)ビフエニル221g(
0.6モル)を、N,N−ジメチルホルムアミド350
0adに溶解した.この溶液に窒素雰囲気下において3
.3″,4,4゜−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物588g(2.0モル)を加えて、室温にて24時間
反応させた. こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1 .
8 a / gであった. このボリアミド酸溶液を、ジメチルフォルムアミドで1
8%まで希釈し、回転粘度を10, 000cpsに調
節した. このボリアミド酸溶液を、電解w4箔(福田金属金属箔
粉工業(株)製、CF−T8、厚さ35μ噴)上に均一
に流延塗布し、135゜Cで5分間、さらに180’C
で4分間加熱乾燥した後、250゜Cの窒素雰囲気中で
3分間さらに350゜Cの窒素雰囲気中で5分間加熱し
て、銅箔上にポリイミドフィルムが形成されたフレキシ
ブル銅張り積層板を得た.こうして得られたフレキシブ
ル基板のポリイミド層の膜厚は30μmであった。
に加熱して脱溶媒、脱水縮合反応を行なう.この操作は
、常圧、減圧、あるいは加圧など任意の条件で行なうこ
とができる.また加熱方法は熱風、赤外、遠赤外等いず
れを用いてもよく、また併用することもさしつかえない
。これらの脱溶媒、脱水工程で、銅箔表面が酸化される
温度以上の温度にさらされる場合には、w4箔表面の酸
化が起こり、w4箔の機械特性、電気特性および接着性
の低下が起こり易くなることがあるため、銅箔が酸化さ
れる温度以上では脱溶媒、脱水工程を窒素、ヘリウム、
ネオン、アルゴン等の不活性ガス中で行なうことが、銅
箔表面の酸化を防止するために特に好ましい.ここで不
活性ガス中とは、銅箔表面が、所定時間の加熱の際に実
質的に電気特性あるいは接着力等に悪影響を与える酸化
反応を受けない気体雰囲気中であることを意味し、加熱
温度にも依存するが、通常酸素4度が10%以下、好ま
しくは5%以下、さらに好ましくは1%以下である気体
雰囲気を意味する. 以上に述べたように、本発明で提案されたFCLは、接
着剤を含まないために耐熱性が良好で、優れたポリイミ
ドの使用により耐折性、引き剥がし強度、腰の強さ等の
点で優れた特性を存する.〔実施例) 次に実施例を示してさらに本発明を説明する.実施例 攪拌機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器中に
おいて(2a)のジアミンたるバラフエニレンジアミン
151g(1.4モル)と(2b)のジアミンたる4.
4’−(3−アミノフェノキシ)ビフエニル221g(
0.6モル)を、N,N−ジメチルホルムアミド350
0adに溶解した.この溶液に窒素雰囲気下において3
.3″,4,4゜−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物588g(2.0モル)を加えて、室温にて24時間
反応させた. こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1 .
8 a / gであった. このボリアミド酸溶液を、ジメチルフォルムアミドで1
8%まで希釈し、回転粘度を10, 000cpsに調
節した. このボリアミド酸溶液を、電解w4箔(福田金属金属箔
粉工業(株)製、CF−T8、厚さ35μ噴)上に均一
に流延塗布し、135゜Cで5分間、さらに180’C
で4分間加熱乾燥した後、250゜Cの窒素雰囲気中で
3分間さらに350゜Cの窒素雰囲気中で5分間加熱し
て、銅箔上にポリイミドフィルムが形成されたフレキシ
ブル銅張り積層板を得た.こうして得られたフレキシブ
ル基板のポリイミド層の膜厚は30μmであった。
このフレキシブル基板の特性は表1に示される通りであ
った。
った。
比較例1
実施例において、ジアミンとしてパラフエニレンジアミ
ン216g(2.0モル)のみを用いてボリアミド酸溶
液を合成した.こうして合成したボリアミド酸溶液を濃
度18%、回転粘度10000cpsに調節した。
ン216g(2.0モル)のみを用いてボリアミド酸溶
液を合成した.こうして合成したボリアミド酸溶液を濃
度18%、回転粘度10000cpsに調節した。
こうして得られたボリアミド酸溶液を実施例と同様に、
電解銅箔上に均一に流延塗布し、加熱して銅箔上にポリ
イミドフィルムが形成されたフレキシブル銅張り積層板
を得た。
電解銅箔上に均一に流延塗布し、加熱して銅箔上にポリ
イミドフィルムが形成されたフレキシブル銅張り積層板
を得た。
こうして得られたフレキシブル基板のポリイミド層の膜
厚は30μmであった. このフレキシブル基板の特性は表1に示される通りであ
った. 比較例2 実施例において、ジアミンとして4.4’−(3−アミ
ノフェノキシ)ビフェニル736g(2.0モル)のみ
を用いてボリアミド酸溶液を合成した.こうして合成し
たポリアミド酸溶液を濃度18%、回転粘度10000
cpsに調節した。
厚は30μmであった. このフレキシブル基板の特性は表1に示される通りであ
った. 比較例2 実施例において、ジアミンとして4.4’−(3−アミ
ノフェノキシ)ビフェニル736g(2.0モル)のみ
を用いてボリアミド酸溶液を合成した.こうして合成し
たポリアミド酸溶液を濃度18%、回転粘度10000
cpsに調節した。
こうして得られたボリアミド酸溶液を実施例と同様に、
電解1t;I箔上に均一に流延塗布し、加熱して洞箔上
にポリイミドフィルムが形成されたフレキシブル銅張り
積層板を得た. こうして得られたフレキシブル基板のポリイミド層の膜
厚は30μmであった. このフレキシブル基板の特性は表1に示される通りであ
った. 実施例および比較例の特性を次に比較する.比較例1に
ついては耐熱性に問題はないが、引き剥がし強度が小さ
く、耐折性にも劣るのでフレキシブル基板としては十分
な性能を有しているとは言えず、比較例2については引
き剥がし強度が高く、耐折性にも問題はないものの、耐
手半田性に劣る短所がある.一方、実施例については引
き剥がし強度、耐折性、耐手半田性について十分に使用
に耐え得る.また、フィルムの引っ張り弾性率は「硬さ
」とも言えるものであるが、フレキシブル基板としては
、300〜450kg/ms”程度が使用し易く、比較
例1は硬過ぎ、比較例2は柔らか過ぎ、実施例の基板が
実用上丁度適当な「硬さ」を有しているのである。
電解1t;I箔上に均一に流延塗布し、加熱して洞箔上
にポリイミドフィルムが形成されたフレキシブル銅張り
積層板を得た. こうして得られたフレキシブル基板のポリイミド層の膜
厚は30μmであった. このフレキシブル基板の特性は表1に示される通りであ
った. 実施例および比較例の特性を次に比較する.比較例1に
ついては耐熱性に問題はないが、引き剥がし強度が小さ
く、耐折性にも劣るのでフレキシブル基板としては十分
な性能を有しているとは言えず、比較例2については引
き剥がし強度が高く、耐折性にも問題はないものの、耐
手半田性に劣る短所がある.一方、実施例については引
き剥がし強度、耐折性、耐手半田性について十分に使用
に耐え得る.また、フィルムの引っ張り弾性率は「硬さ
」とも言えるものであるが、フレキシブル基板としては
、300〜450kg/ms”程度が使用し易く、比較
例1は硬過ぎ、比較例2は柔らか過ぎ、実施例の基板が
実用上丁度適当な「硬さ」を有しているのである。
[発明の効果]
本発明により提案された銅箔上にポリイミドフィルムを
形成させたFCLは、接着剤層を用いていないために耐
熱性に優れており、かつ耐折性も良く、引き剥がし強度
も高く、腰の強い優れた特性を持つフレキシブル銅張り
積層板であり、このようなフレキシブル鋼張り積層板は
、特にフレキシブルプリント配線板として使用した場合
には、掴めて有用な材料とされることができる。
形成させたFCLは、接着剤層を用いていないために耐
熱性に優れており、かつ耐折性も良く、引き剥がし強度
も高く、腰の強い優れた特性を持つフレキシブル銅張り
積層板であり、このようなフレキシブル鋼張り積層板は
、特にフレキシブルプリント配線板として使用した場合
には、掴めて有用な材料とされることができる。
Claims (3)
- 1.芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族第一級ジ
アミンを反応させて生成したポリイミドのフィルムが銅
箔上に形成されているフレキシブル銅張り積層板におい
て、該芳香族テトラカルボン酸無水物が以下の(1)式
、該芳香族第一級ジアミンが以下の(2a)式と(2b
)式の混合物であることを特徴とするフレキシブル銅張
り積層板。 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(2a) ▲数式、化学式、表等があります▼(2b) - 2.請求項第1項において、(2a)式で表された芳香
族第一級ジアミンと(2b)式で表された芳香族第一級
ジアミンとの当量比が90〜40:10〜60であるフ
レキシブル銅張り積層板。 - 3.請求項第1項に規定するフレキシブル銅張り積層板
の製法にして、(2a)式で表された芳香族第一級ジア
ミンと(2b)式で表された芳香族第一級ジアミンを当
量比で90〜40:10〜60の割合で混合し、芳香族
テトラカルボン酸無水物と反応させて生成したポリアミ
ド酸の有機溶媒溶液を、銅箔上にコーティングした後、
加熱、乾燥、脱水してポリイミドフィルム層を銅箔上に
形成させることを特徴とするフレキシブル銅張り積層板
の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28571988A JPH02131936A (ja) | 1988-11-14 | 1988-11-14 | フレキシブル銅張積層板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28571988A JPH02131936A (ja) | 1988-11-14 | 1988-11-14 | フレキシブル銅張積層板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02131936A true JPH02131936A (ja) | 1990-05-21 |
Family
ID=17695141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28571988A Pending JPH02131936A (ja) | 1988-11-14 | 1988-11-14 | フレキシブル銅張積層板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02131936A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0459351A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-26 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 銅被膜ポリイミド基板の熱処理法及び加熱装置 |
| JPH04199760A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-20 | Nippon Mektron Ltd | 片面型可撓性回路基板の製造法 |
| JP2006192861A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-07-27 | Noritake Co Ltd | 可撓性ポリイミド金属積層板の製造方法および装置 |
| KR100646248B1 (ko) * | 2004-05-04 | 2006-11-23 | 주식회사 엘지화학 | 2층 동장 적층판의 제조방법 |
| JP2008053762A (ja) * | 2007-11-12 | 2008-03-06 | Sharp Corp | 半導体装置及びそれを用いた表示用モジュール |
-
1988
- 1988-11-14 JP JP28571988A patent/JPH02131936A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0459351A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-26 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 銅被膜ポリイミド基板の熱処理法及び加熱装置 |
| JPH04199760A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-20 | Nippon Mektron Ltd | 片面型可撓性回路基板の製造法 |
| KR100646248B1 (ko) * | 2004-05-04 | 2006-11-23 | 주식회사 엘지화학 | 2층 동장 적층판의 제조방법 |
| JP2006192861A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-07-27 | Noritake Co Ltd | 可撓性ポリイミド金属積層板の製造方法および装置 |
| KR101247397B1 (ko) * | 2005-01-17 | 2013-03-25 | 가부시키가이샤 노리타케 캄파니 리미티드 | 가요성 폴리이미드 금속 적층판의 제조 방법 및 장치 |
| TWI406756B (zh) * | 2005-01-17 | 2013-09-01 | 諾利塔克股份有限公司 | Flexible polyimide metal laminated sheet manufacturing method and device |
| JP2008053762A (ja) * | 2007-11-12 | 2008-03-06 | Sharp Corp | 半導体装置及びそれを用いた表示用モジュール |
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