JPH02132155A - 封止用樹脂組成物 - Google Patents

封止用樹脂組成物

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JPH02132155A
JPH02132155A JP28395888A JP28395888A JPH02132155A JP H02132155 A JPH02132155 A JP H02132155A JP 28395888 A JP28395888 A JP 28395888A JP 28395888 A JP28395888 A JP 28395888A JP H02132155 A JPH02132155 A JP H02132155A
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JP
Japan
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resin
bismaleimide
pts
formula
resin composition
Prior art date
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Pending
Application number
JP28395888A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Suzuki
憲一 鈴木
Akihiro Hirata
平田 明広
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はガラス転移点(以下Tgという)が高く、デバ
イスとの接着性に優れ、かつ低応力である半導体封止用
樹脂組戊物に関する。
(従来技術) 現在半導体素子を封止する方法として、エボキシ樹脂成
形材料を用いトランスファー成形にょろり{脂封止が一
般的に行われている。
しかしながら、半導体素子の高集積化、デバイスの大型
フラット化、封止硬化物の薄肉化、基板への搭載に際し
ての表面実装化等が進み、これに伴い封止材料に要求さ
れる性能も大幅に変わって来つつある。
特に表面実装化に伴い半田耐熱性がクローズアップされ
てきている。
これらの問題に対処するには、硬化樹脂が低応力で、か
つT&が高く半田浴温度以上であることが望まれている
従来のエポキシ樹脂またはシリコーン変性エポキシ樹脂
ではこれらの性能を満たすことが困難である。
一方エポキシ樹脂に替わる高Tg樹脂としてビスマレイ
ミド系樹脂が注目されてきているが、この樹脂の硬化物
は弾性率が高く脆いため、ヒートサイクルテストにより
クランクを生じたり、デバイスとの密着性が悪かったり
、耐湿性に劣るという欠点があった。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は従来のエポキシ樹脂またはシリコーン変性エポ
キシ樹脂の欠点である半田耐熱性を改良するため鋭意検
討を行いなされたものであり、その目的とするところは
高Tgであり、デバイスとの接着性に優れ、かつ低応力
性を有している半導体封止用樹脂組成物を提供するにあ
る。
(課題を解決するための手段) 本発明はビスマレイミドおよび/またはその誘導体と芳
香族ジアミンの反応によって得られるビスマレイミド系
樹脂(A)と下記式〔I〕で示されるハイドロジェンオ
ルガノボリシロキサンと(II)で示される多官能芳香
族ボリアリル化合物とを白金系触媒存在下で反応せしめ
て得られる付加重合体CB)とエボキシ樹脂(C)及び
無機質充填材(D)を必須成分とする半導体封止用樹脂
組成物である. (式中R.,R,はアルキル基または7エニル基、nは
10−200の整数) (式中R,は水素原子,ハロゲン原子,水酸基O =SO,  シー0− mは0〜IOの整数) 本発明において用いられるビスマレイミド系樹脂は一般
式(III)で示される化合物である。
?だしn≧Q,mi(iは0〜nの整数),■.+1,
m,+1.Zi.  ム.,.ム.,は1またはまたは
ベンゼン核どうしが直接結合していることを示す。
Y(よ −CH2−,−0−,,SO,−,−8− ,
 −,S−S−,またはベンゼン核どうしが直接結合し
ていることを示すものであり、Yは上記各結合基の1種
またはそれ以上の結合基の混合でベンゼン核どうしが結
合していることを示す。
RはH,CH.またはC.H5を示す。
これらの化合物としては、例えば4,4′−ジアミノジ
フエニルメタン、4.4’−ジアミノジ7二二エーテル
、3.3’−ジアミノジフェニルスルホン、2.2″−
ジ(p−アミノフェニル)フロパン、3.4.3’,4
’−テトラアミノージフェニルメタンとか、アニリンと
ホルムアルデヒドから得られるアニリン樹脂などの芳香
族ポリアミンをマレイミド化したものをあげることがで
きる。
本発明に用いられるポリシロキサンー芳香族ポリアリル
化合物の付加重合体は白金系触媒存在下で反応せしめて
得られる反応生成物である。
用いられるハイドロジェン才ルガノポリシロキサンは下
記式〔I〕で示されるボリシロキサンでありその重合度
は10〜200の範囲である。
(式中R.,Rよはアルキル基またはフェニル基、nは
to−200(7)i数) 重合度がlO以下の場合、硬化樹脂の低応力効果が低下
し、200以上では芳香族ボリアリル化合物とのハイド
ロシリル化反応が完結し難い。
多官能芳香族ポリアリル化合物は下記式〔II〕で示さ
れ、その重合度はO〜10の範囲である。
(式中R,は水素π子,ハロゲン原子,水酸基〇 一SO、  シ一〇一 mは0−10の整数) 重合度が10以上の場合、硬化樹脂の低応力効果が低下
する。
更にポリシロキサンへの芳香族ポリアリル化合物の付加
量はポリシロキサン中のハイドロシリル基1個に対し、
芳香族ポリアリル化合物中のアリル基が2〜10個が好
ましい。
少なすぎると未友応のポリシロキサンが残存し、成形時
に金型曇りを起こし、また多すぎると低応力化に効果が
ない。
尚、反応方法は適宜選択が可能であり、その際の触媒は
白金系触媒が良く、特に塩素酸白金の水和物のイングロ
パノール溶液が好んで用いられる。
反応終了後は室温で液状の茶褐色の付加重合体が得られ
る。
このボリシロキサンー芳香族ポリアリル化合物の付加重
合体(B)はビスマレイミド系樹脂(A)100重量部
に対しlO〜50重量部が好ましい。
!offii部以下であれば低応力化に効果がなく、又
50重量部以上であればTgが低下してしまう。
本発明に用いるエポキシ樹脂としては特に制約は無いが
例えばビスフェノールAのジグリシジルエーテル、4.
4’−ジ(1.2−エポキシエチル)ジフェニルエーテ
ル、4.4 ’−(1.2−エボキシエチル)ジ7エニ
ルエーテル、レゾルシンのグリシジルエーテル、ブタジ
エンジエポキサイド、ビス−(2.3−エボキシシク口
ペンチル)エーテル、2.2−ビス(3.4−エポキシ
シク口ペンチル)プロパン、7口ログリシンのジグリシ
ジルエーテル、メチル7oロダリシンのジグリシジルエ
ーテルなどの2官能のエボキシ化合物、フェノールーホ
ルムアルデ辷ドノボラックのポリグリシジルエーテル、
トリメチロールプロバンのトリグリシジルエー・テル、
グリセリンのトリグリシジルエーテル、1.3.5−ト
リ(1,2−エポキシエチル)ヘンゼン、ポリアリルグ
リシジルエーテノ呟パラアミノフェノールのトリグリシ
ジルエーテルなどの3官能以上のエボキシ化合物が用い
られる。
これらの化合物は、単独もしくは併用して使用すること
かできる。
エポキシ樹脂の添加量はビスマレイミド系樹脂lOO重
量部に対し5〜50重量部が好ましい。
5重量部以下であればデバイスとの接着性に効果がなく
、又50重量部以上であればTgが低下してし7まう。
本発明に用いる無機充填材としてはシリカ粉末、アルミ
ナ、三酸化アンチモン、水酸化アルミニウム水和物、酸
化チタン等が挙げられ、これらを単独又は2種以上混合
して用いることが可能である。
これら無機充填材のうち半厚体封止材料組成物としては
シリカ粉末が好んで用いられる。
尚、無機充填材の配合量はビスマレイミド系樹脂(A)
に対して50〜500重量部配合することが好ましい。
50:iIi量部以下では硬化樹脂の性能が不十分であ
り、500重量部以上であれば成形性が悪くなってしま
い実用に適さない。
又これらの必須成分以外のものとして成形材料化に際し
て硬化促進剤、滑剤、難燃化剤、離型剤、シランカ7プ
リング剤等を適宜配合添加することが出来る。
本発明の半導体封止用樹脂組成物を成形材料として製造
する場合の一般的な方法としては、これらの必須成分に
各種添加剤を加えて均一に混合した組成物を二−ダー、
熱ロール等により混線処理をおこない、冷却後粉砕して
成形材料とする。
得られた成形材料を半導体の封止用として用いれば高T
gであり、しかも低応力特性の両立化がはかれ、非常に
信頼性のある封止用樹脂組成物を得ることが出来る。
(実施例) 参考fil(ビスマレイミド系樹脂の合成)4.4’−
ジアミノジフエニルメタン(DDM)20重量部を15
0゜Cで加熱融解し、これを撹拌しなからN,N’−4
.4’−ジ7エニルメタンビスマレイミド(BMI)8
0重量部を徐々に添加しビスマレイミド系樹脂(A)を
得た。
得られた樹脂の融点は103℃であった。
参考例2(付加重合体の合成) 平均重合度l50の両末端に水酸基をもつノ・イドロジ
ェンジメチルボリシロキサン(オイルD) 50重量部
と平均重合度50の両末端に水酸基をもつハイドロジエ
ンポリシロキサン(オイルE)50ffii&部との混
合物に1重量%の塩化白金酸インブロパノール溶液を2
重量部を添加した後90°Cに加熱した。
これにo,o’−ジアリルビスフェノールA15重合部
を1時間にわたって滴下し、その後系をl00゜Cに昇
温しで反応を3時間続けた。
冷却後粘度が25゜Cで13200cpsの付加重合体
(B)を得た。
実施例l 第1表に示す配合で、参考例1及び2によって得られた
ビスマレイミド系樹脂(A)、付加重合体(B)、エボ
キシ樹脂(C)およびシリカ粉末(D)に硬化促進剤、
アミノシラン、着色剤および離型剤を配合し、熱ロール
で混練し成形材料を得た。
これをトランスファー成形により180℃,3分で成形
しさらに180℃,8時間ポスl・キュアーしtこ。
その特性を第1表に示す。
比較例1.2 実施例lにおいてエポキシ樹脂(C)の添加量を第1表
に示す量に替えて同様に成形して性能評価をおこなった
。その結果を第1表に示す。
比較例3 実施例1において付加重合体(B)を添加せずに成形材
料とし、これを同様に成形して性能評価をおこなった。
その結果を第1表に示す。
(以下 余白) (発明の効果) 本発明による封止用樹脂組成物を用いた硬化樹脂は高T
gであるため封正体の耐半田クラツクイ8頼性に優れ、
更にデバイスとの接着性も良く、かつ低応力であり耐ヒ
ートサイクル性に優れており半導体素子封止用樹脂組成
物として非常に信頼性の高い優れたものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(A)ビスマレイミドおよび/またはその誘導体
    と芳香族ジアミンとの反応により得られるビスマレイミ
    ド系樹脂 (B)下記式〔 I 〕で示されるハイドロジエンオルガ
    ノポリシロキサンと〔II〕で示される多官能芳香族ポリ
    アリル化合物とを白金系触媒存在下で反応せしめて得ら
    れる付加重合体 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中R_1、R_2はアルキル基またはフェニル基、
    nは10〜200の整数) ▲数式、化学式、表等があります▼……〔II〕 (式中R_3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基または
    アルキル基、 R_4は−O−、−CH_2−、▲数式、化学式、表等
    があります▼、 −SO_2−、▲数式、化学式、表等があります▼、 mは0〜10の整数) (C)エポキシ樹脂 (D)無機質充填材 を必須成分とする封止用樹脂組成物。
JP28395888A 1988-11-11 1988-11-11 封止用樹脂組成物 Pending JPH02132155A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04114027A (ja) * 1990-09-03 1992-04-15 Nippon Oil Co Ltd 積層板用樹脂組成物及び積層板の製造法
CN109054381A (zh) * 2018-07-06 2018-12-21 苏州生益科技有限公司 改性马来酰亚胺树脂组合物及其制备的半固化片和层压板

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