JPH0356533A - 半導体封止用樹脂の製造方法 - Google Patents

半導体封止用樹脂の製造方法

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JPH0356533A
JPH0356533A JP19151689A JP19151689A JPH0356533A JP H0356533 A JPH0356533 A JP H0356533A JP 19151689 A JP19151689 A JP 19151689A JP 19151689 A JP19151689 A JP 19151689A JP H0356533 A JPH0356533 A JP H0356533A
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bismaleimide
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Kenichi Suzuki
憲一 鈴木
Hisafumi Enoki
尚史 榎
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明はガラス転移点(以下Tgという)が高く、耐湿
性、相溶性に優れ、かつ低応力特性に優れた半導体封止
用樹脂の製造方法に関するものである。
(従来技術) 近年IC,LSI,}ランジスター、ダイオードなどの
半導体素子や電子回路等の封止には特性、コスト等の点
からエポキシ樹脂組成物が多量に、かつ最も一般的に用
いられている。
しかし、電子部品の量産性指向、高集積化や表面実装化
の方向に進んで来ておりこれに伴い封止樹脂に対する要
求は厳しくなってきている。
特に高集積化に伴うチップの大型化、パッケージの薄肉
化や表面実装時における半田浸漬(200〜300℃)
によって装置にクラックが発生し易くなっており信頼性
向上のために半導体封止用樹脂としては低応力特性と耐
熱性が強く望まれている。
半導体封止用樹脂としては現在エポキシ樹脂が主流であ
るが耐湿性、低応力特性の点で未だ満足されるものは得
られていない。
これらに対処するためにエポキシ系樹脂においてはシリ
コーン化合物等の添加やシリコーン変性エポキシ樹脂の
利用によって低応力特性をもたせる試みがなされている
が、耐熱性という点ではエボキシ樹脂を用いているかぎ
り、改良に限界があり、表面実装時の半田浸漬後の信頼
性の高いものが得られていない。
これらの半田耐熱性に対処するには樹脂特性として低応
力であり、かつTgが高く半田浴温度以上であることが
望まれている。
エボキシ樹脂に変わる高耐熱性を有する樹脂としてはマ
レイミド樹脂が注目されてきているが、低応力特性に劣
り、堅くて脆いという欠点がある。
ポリアミノマレイミド樹脂においては堅くて脆いという
欠点は改良されて来ているが、低応力特性の面では未だ
不十分である。
ポリマレイミドとアルケニルフェノール類またはアルケ
ニルフェノールエーテル類などを重合触媒存在下で反応
させる例(特開昭52−994 ,特開昭58−117
219号公報)やアリルエーテル化置換フェノール類/
ポラック樹脂とN,N ’−ビスマレイミド化合物から
なる樹脂組成物(特開昭62−11716,特開昭62
−22812,特開昭62−22813号公報)もある
が、ポリアミノマレイミド樹脂と同様に低応力特性に劣
る欠点がある。
ポリアミノマレイミド樹脂を含むマレイミド樹脂の低応
力特性の改善策として各種シリコーン化合物の添加が試
みられているが相溶性が著しく劣り、相分離して、均質
な樹脂が得られない。
とくに、シリコーンオイルを用いた場合にはオイルのプ
リードが生じるためにロール滑り、金型汚れを起こして
しまう。又シリコーンゴムを用いた場合には接着性が低
下してしまう。
又相溶性を向上さ♂るために末端に一〇H基、一〇CH
,基等の反応性基を持ったシリコーン化合物を添加する
例(Brit UK PAT2018802(1984
),FR2544325,特開昭57−90827.5
6−20023.57−90012.5874749号
公報)もあるが成形時にガスが発生し7クレを生じたり
、耐熱性や耐湿性の低下を招き満足のいく性能を発揮で
きていない。
又、ビスマレイミドとジアミンとアミノ基含有ポリシロ
キサンとを溶液中で反応させる例(特開昭62−246
933号公報)も試みられている。
しかし、無溶媒ではアミノ基含有ボリシロキサンとビス
マレイミド、ジアミンとの相溶性が悪く、均質な樹脂が
得られていない。
溶剤を用いると相溶性は向上するが、反応終了時に溶剤
を完全に除去することは困難で、そのtこめに貯蔵安定
性が低下したり、戊形時にガス、フクレなどが発生して
、実用上問題点が多く残る。
(発明の目的) 本発明の目的とするところは相溶性が良く、一般の特性
を低下させることなく、耐湿性、低応力特性に優れ、か
つ高耐熱性を有し、半田浸漬後の信頼性に非常に優れた
半導体封止用樹脂の製造方法を提供することにある。
(発明の構戊) 本発明は下記式〔I〕で示されるビスマレイミドと、下
記式CI!)で示されるジアミノポリシロキサンとを、 下記式〔I〕で示される多官能性ボリアリルエーテルフ
ェノール類の存在下で、生成樹脂の融点が50〜102
゜Cとなるまで反応させることを特徴とする封止用樹脂
の製造方法である。
(作用) 本発明において用いられるビスマレイミドは下記式CI
)で表される。
R.:2価の芳香族基 具体例としては、N.N ’−m−7 xニレンビスマ
レイミド、N,N’−p−7二二レンビスマレイミド、
N + N ’−m−トルイレンビスマレイミド、N,
N’−4.4’−ビフエニレンビスマレイミド、N.N
 ’−4.4 ’−(3.3 ’−ジメチルービ7エニ
レン〕ビスマレイミド、N,N ’−4 .4 ’−(
3.3′−ジメチルジフェニルメタン〕ビスマレイミド
、N.N ’−4.4 ’−(3,3 ’−ジエチルジ
フエニルメタン〕ビスマレイミl’、N,N ’−4.
4 ’−ジフェニルメタンビスマレイミ}’、N,N 
’−4.4 ’−ジフエニルプロパンビスマレイミl’
、N,N ’−4.4 ’−ジフエニルエーテルビスマ
レイミ}’、N,N ’−3.3 ’−ジフエニルスル
ホンビスマレイミF、N,N″−4.4″−ジフエニル
スルホンビスマレイミドなどを挙げることができる。こ
れらは2種以上含まれていても何ら差し支えない。
本発明に用いられるジアミノポリシロキサンは下記式(
I[)で示されるポリシロキサンであり、その重合度n
は1〜100の範囲のものである。
R2:アルキレン基またはフエニレン基R,,R,:ア
ルキル基またはフェニル基重合度が100以上の場合、
相溶性が低下してしまう。ジアミノボリシロキサンはビ
スマレイミド100重量部に対し5〜50重量部が好ま
しい。
51t量部以下では硬化樹脂の低応力効果が低下し、又
、501i量部以上であれば相溶性が悪化し、強度が低
下する。
多官能性ボリアリルエーテルフェノール類は下記式(I
II)で示され、その重合度mはO−10の範囲である
一S○「 −と一〇一 マレイミド100重量部に対し、10−100重量部が
好ましい。10重量部以下であれば相溶性が低下し、ま
た100重畳部以上であれば硬化樹脂の耐熱性が低下す
る。
ビスマレイミド(A)とジアミノポリシロキサン(B)
の反応方法は、多官能性ポリアリルエーテルフェノール
類(C)の共存下で100〜2000Cの任意の温度で
行い、反応の終点は、得られた樹脂の融点が50〜12
0゜Cの範囲となるまで反応させる。
なお、反応の終点を確認するには、反応系より少量の樹
脂を取り出し、冷却し、融点を測定し、確認する。
又、得られた樹脂を用いて戊形材料化するには硬化促進
剤、エポキシ樹脂、無機充填材、滑剤、難燃剤、離型剤
、シランカツプリング剤等を必要に応じて適宜配合添加
し、加熱混練することによって材料化できる。
本発明の半導体封止用樹脂組戒物を戊形材料として製造
する一般的な方法としては、これらの必須戊分に各種添
加剤を加えて均一に混合した組戊物を二−ダー、熱ロー
ル等により混線処理を行い、冷却後粉砕して戊形材料と
する。
得られた戊形材料を半導体の封止用としてもちいれば高
Tgであり、しかも低応力特性6こ優れ、非常に信頼性
の高い半導体封止用樹脂組戊物を得ることができる。
(実施例) 実施例l〜3 第l表に示す配合でジアミノポリシロキサンとo,o’
−ジアリルエーテルビス7エノールAとを加熱して溶解
し、これにN,N ’−4.4 ’−ジ7エニルメタン
ビスマレイミドを添加し、20分間反応させ、融点が6
0〜80゜Cの均質なシリコーン変性マレイミド樹脂得
た。
比較例l〜5 第1表に示す配合で実施例と同様に反応させた。
比較例1,3.5は相溶性が悪く、均質な樹脂が得られ
なかった。
実施例4〜6 第2表に示すように実施例1〜3で得たシリコーン変性
マレイミド樹脂にシリカ粉末、硬化促進剤、アミノシラ
ン、着色剤および離型剤を配合し、熱ロールで混練し或
形材料を得た。
得られた戊形材料をトランスファー戊形により180℃
,3分で戊形しフクレの無い光沢の有る戒形品が得られ
た、この戊形品をさらに180℃.8時間後硬化を行い
特性を評価した。結果を第2表に示す。
実施例l〜3の樹脂を用いた実施例4〜6の戊形材料は
常温での曲げ弾性率が小さく、低応力で、内部応力も小
さい。しかも、ガラス転移点温度が高く、250℃での
曲げ強度も大きく、耐熱性、耐半田クラック性に優れて
いる。
比較例6.7 比較例2.比較例4の樹脂を第2表に示す配合で同様に
戊形して特性を評価した。結果を第2表に示す。
比較例2.4の樹脂を用いた比較例6.7の成形材料は
常温での曲げ弾性率が高すぎたり、吸水率が大きいため
耐半田クラック性に劣るものであっIこ。
(以 下 余 白) (発明の効果) 本発明の製造方法による半導体封止用樹脂を用いた組戊
物の硬化したものは高Tgであり、耐湿性及び熱時の強
度に優れているI;め封正体の耐半田クラック性が良く
、かつ低応力であり耐ヒートサイクル性にも優れており
、半導体封止用樹脂組威物として非常に信頼性の高い優
れたものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(A)下記式〔 I 〕で示されるビスマレイミド
    100重量部 ▲数式、化学式、表等があります▼‐‐‐‐‐‐‐‐(
    I 〕 R_1:2価の芳香族基 (B)下記式〔II〕で示されるジアミノポリシロキサン
    5〜50重量部 ▲数式、化学式、表等があります▼‐‐‐‐‐‐〔II〕 R_2:アルキレン基又はフェニレン基 R_3、R_4:アルキル基又はフェニル基n:1〜1
    00 (C)下記式〔III〕で示される多官能ポリアリルエー
    テルフェノール類10〜100重量部 ▲数式、化学式、表等があります▼‐‐‐‐‐‐〔III
    〕 R_5:−O−,−CH_2−、▲数式、化学式、表等
    があります▼、 −SO_2−、▲数式、化学式、表等があります▼ m:0〜10 の(A)と(B)とを(C)の共存下で、生成樹脂の融
    点が50〜1200℃となるまで反応させることを特徴
    とする封止用樹脂の製造方法。
JP19151689A 1989-07-26 1989-07-26 半導体封止用樹脂の製造方法 Expired - Lifetime JP2872701B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116239777A (zh) * 2022-10-11 2023-06-09 苏州生益科技有限公司 改性双马来酰亚胺预聚物、树脂组合物及树脂组合物的应用
WO2024077887A1 (zh) * 2022-10-11 2024-04-18 苏州生益科技有限公司 改性双马来酰亚胺预聚物、树脂组合物及树脂组合物的应用

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CN116239777A (zh) * 2022-10-11 2023-06-09 苏州生益科技有限公司 改性双马来酰亚胺预聚物、树脂组合物及树脂组合物的应用
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