JPH02117959A - 封止用樹脂組成物 - Google Patents

封止用樹脂組成物

Info

Publication number
JPH02117959A
JPH02117959A JP26828788A JP26828788A JPH02117959A JP H02117959 A JPH02117959 A JP H02117959A JP 26828788 A JP26828788 A JP 26828788A JP 26828788 A JP26828788 A JP 26828788A JP H02117959 A JPH02117959 A JP H02117959A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
bismaleimide
resin
formulas
addition polymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26828788A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Suzuki
憲一 鈴木
Akihiro Hirata
平田 明広
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP26828788A priority Critical patent/JPH02117959A/ja
Publication of JPH02117959A publication Critical patent/JPH02117959A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はガラス転移点(以下Tgという)が高く、かつ
低応力である半導体封止用樹脂組成物に関する。
(従来技術) 現在半導体素子を封止する方法として、エポキシ樹脂成
形材料を用いトランスファー成形による樹脂封止が一般
的に行われている。
しかしながら、半導体素子の高集積化、デバイスの大型
フラット化、封止硬化物の薄肉化、基板への搭載に際し
ての表面実装化等が進み、これに伴い封止材料に要求さ
れる性能も大幅に変わって来つつある。
特に表面実装化に伴い半田耐熱性がクロースアップされ
てきている。
これらの問題に対処するには、硬化樹脂が低応力で、か
つTgが高X半田浴温度以上であることが望まれている
。
従来のエポキシ樹脂またはシリコーン変性エポキシ樹脂
ではこれらの性能を満たすことが困難である。
一方エポキシ樹脂に替わる高Tg樹脂としてビスマレイ
ミド系樹脂が注目されてきているが、この樹脂の硬化物
は弾性率が高く脆いため、ヒートサイクルテストにより
クラックを生じたり、デバイスとの密着性が悪かったり
、耐湿性に劣るという欠点があった。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は従来のエポキシ樹脂またはシリコーン変性エポ
キシ樹脂の欠点である半田耐熱性を改良するため鋭意検
討を行いなされたものであり、その目的とするところは
高Tgであり、かつ低応力性を有している半導体封止用
樹脂組成物を提供するにある。
(課題を解決するだめの手段) 本発明はビスマレイミドおよび/またはその誘導体と芳
香族ジアミンの反応によって得られるビスマレイミド系
樹脂(A)と下記式(1)で示されるハイドロジエンオ
ルガノポリンロキサンと〔■〕で示される多官能芳香族
ポリアリル化合物とを白金系触媒存在下で反応せしめて
得られる付加重合体(B)及び無機質充填材を必須成分
とする半導体封止用樹脂組成物である。
(式中R,,R,はアルキル基またはフェニル基、nは
10〜200の整数) (式中R1は水素原子、ハロゲン原子、水酸基またはア
ルキル基、 =so、  堤−0− mは0〜10の整数) 本発明において用いられるビスマレイミド系樹脂は一般
式〔■〕で示される化合物である。
ただしn≧O,ml(iはO−nの整数)。
m*+++I’ns+x+Z1+  ff1l+l+ 
l、etはIまたはXは−CH2−、−〇−、−8o、
、−3−、−3−3−。
またはベンゼン核どうしが直接結合していることを示す
。
Ylよ −CH,、−0−、−8O,、、S−、−、S
屹−5またはベンゼン核どうしが直接結合していること
を示すものであり、Yは上記各結合基の1種またはそれ
以上の結合基の混合でベンゼン核どうしが結合している
ことを示す。
RはH,CH,またはC,H5を示す。
これらの化合物としては、例えば4.4′−ジアミノジ
フェニルメタン、4.4’−ジアミノジフエニ工−テル
、3.3’−ジアミノジフェニルスルホン、2.2′−
ジ(p−アミノフェニル)プロパン、3゜4.3’、4
’−テトラアミ八ジフェニルメタンとが、アニリンとホ
ルムアルデヒドから得られるアニリン樹脂などの芳香族
ポリアミンをマレイミド化したものをあげることができ
る。
本発明に用いられるポリシロキサン−芳香族ポリアリル
化合物の付加重合体は白金系触媒存在下で反応せしめて
得られる反応生成物である。
用いられるハイドロジェンオルガノボリシロキサンは下
記式(1〕で示されるポリシロキサンでありその重合度
は10〜200の範囲である。
(式中R,,R,はアルキル基またはフェニル基、nは
10−200の整数) 重合度がIO以下の場合、硬化樹脂の低応力効果が低下
し、200以上では芳香族ポリアリル化合物とのハイド
ロシリル化反応が完結し難い。
更にポリシロキサンへの芳香族ポリアリル化合物の付加
量はポリシロキサン中のハイドロンリル基lWAに対し
、芳香族ポリアリル化合物中のアリル基が2〜10個が
好ましい。
少なすぎると未反応のポリシロキサンが残存し、成形時
に金型曇りを起こし、また多すぎると低応力化に効果が
ない。
尚、反応方法は適宜選択が可能であり、その際の触媒は
白金系触媒が良く、特に塩素酸白金の水和物のインプロ
パツール溶液が好んで用いられる。
反応終了後は室温で液状の茶褐色の付加重合体が得られ
る。
このポリシロキサン−芳香族ポリアリル化合物の付加重
合体(B)はビスマレイミド系樹脂(A)100重量部
に対し10〜50重量部が好ましい。
10重量部以下であれば低応力化に効果がなく、又50
重量部以上であればTgが低下してしまう。
本発明に用いる無機充填材としてはシリカ粉末、アルミ
ナ、三酸化アンチモン、水酸化アルミニウム水和物、酸
化チタン等が挙げられ、これらを単独又は2種以上混合
して用いることが可能である。
これら無機充填材のうち半導体封止材料組成物としては
シリカ粉末が好んで用いられる。
尚、無機充填材の配合量はビスマレイミド系樹脂(A)
に対して50〜4001ii部配合することが好ましい
。
50重量部以下では硬化樹脂の性能が不十分であり、4
00重量部以上であれば成形性が悪くなってしまい実用
に適さない。
又これらの必須成分以外のものとして成形材料化に際し
て硬化促進剤、滑剤、離燃化剤、離壓剤、ンランカンプ
リング剤等を適宜配合添加することが出来る。
本発明の半導体封止用樹脂組成物を成形材料として製造
する場合の一般的な方法としては、これらの必須成分に
各種添加剤を加えて均一に混合した組成物をニーダ−1
熱ロール等により混純処理をおこない、冷却後粉砕して
成形材料とする。
得られた成形材料を半導体の封止用として用いれば高T
gであり、しかも低応力特性の両立化がはかれ、非常に
信頼性のある封止用樹脂組成物を得ることが出来る。
(実施例) 参考例1 (ビスマレイミド系樹脂の合成)4.4−ジ
アミノジフェニルメタン(DDM)18重量部を150
’Oで加熱融解し、これを撹拌しなからN、N ’−4
,4’−’;フェニルメタンビスマレイミド(BMI)
82重量部を徐々に添加しビスマレイミド系樹脂(A)
を得た。
得られた樹脂の融点は100°Cであった。
参考例2(付加重合体の合成) 平均重合度150の両末端に水酸基をもつハイドロジエ
ンジメチルポリシロキサン(オイルD) 40重量部と
平均重合度50の両末端に水酸基をもつハイドロジェン
ボリンロキサン(オイルF)60!ffi部との混合物
に1重金%の塩化白金酸イソプロパツール溶液を2重量
部を添加した後80℃に加熱した。
これに0.O′−ジアリルビスフェノールA15重量部
を1時間にわた2て滴下し、その後糸を100°Cに昇
温して反応を3時間続けた。
冷却後粘度が25℃で12500cpsの付加重合体(
B)を得た。
実施例1 第1表に示す配合で、参考例1及び2によって得られた
ビスマレイミド系樹脂(A)と付加重合体(B)とシリ
カ粉末に硬化促進剤、アミノシラン、着色剤および離型
剤を配合し、熱ロールで混練し成形材料を得た。これを
トランスファー成形により180°c、 3分で成形し
さらに180℃、8時間ポストキュアーした。
その特性を第1表に示す。
比較例1.2 実施例1において付加重合体(B)の添加量を第1表に
示す量に替えて同様に成形して性能評価をおこなった。
その結果を第1表に示す。
比較例3 実施例1において付加重合体(B)をオルソクレゾール
型エポキシ樹脂に替えて同様に成形して性能評価をおこ
なった。その結果を第1表に示す。
(以下余白) (発明の効果) 本発明による封止用樹脂組成物を用いた硬化樹脂は高T
gであるため封止体の耐半田クラック信頼性に優れ、か
つ低応力であり耐ヒートサイクル性に優れており半導体
素子封止用樹脂組成物として非常に信頼性の高い優れた
ものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(A)ビスマレイミドおよび/またはその誘導体
    と芳香族ジアミンとの反応により得られるビスマレイミ
    ド系樹脂 (B)下記式〔 I 〕で示されるハイドロジエンオルガ
    ノポリシロキサンと〔II〕で示される多官能芳香族ポリ
    アリル化合物とを白金系触媒存在下で反応せしめて得ら
    れる付加重合体 ▲数式、化学式、表等があります▼……〔 I 〕 (式中R_1、R_2はアルキル基またはフェニル基、
    nは10〜200の整数) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基または
    アルキル基、 R_4は−O−、−CH_2−、▲数式、化学式、表等
    があります▼、 −SO_2− ▲数式、化学式、表等があります▼ mは0〜10の整数) (C)無機質充填材 を必須成分とする封止用樹脂組成物。
JP26828788A 1988-10-26 1988-10-26 封止用樹脂組成物 Pending JPH02117959A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26828788A JPH02117959A (ja) 1988-10-26 1988-10-26 封止用樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26828788A JPH02117959A (ja) 1988-10-26 1988-10-26 封止用樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02117959A true JPH02117959A (ja) 1990-05-02

Family

ID=17456440

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26828788A Pending JPH02117959A (ja) 1988-10-26 1988-10-26 封止用樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02117959A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05175262A (ja) * 1991-12-26 1993-07-13 Hitachi Chem Co Ltd 樹脂封止型半導体装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05175262A (ja) * 1991-12-26 1993-07-13 Hitachi Chem Co Ltd 樹脂封止型半導体装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8309652B2 (en) Curable silicone composition and cured product therefrom
JPS6148544B2 (ja)
JPS58219218A (ja) 熱硬化性エポキシ樹脂組成物
JPS62254454A (ja) 半導体装置
JPS62254453A (ja) 半導体装置
JPH03766A (ja) ポリオルガノシロキサン組成物
JPH044213A (ja) 半導体封止用樹脂の製造方法
JPH02132155A (ja) 封止用樹脂組成物
JPH02155950A (ja) 封止用樹脂組成物
JPH03192151A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH044212A (ja) 半導体封止用樹脂組成物
JPH02222419A (ja) シリコーン変性マレイミド樹脂およびその組成物
JPH0214214A (ja) 封止用樹脂組成物
JPH02187461A (ja) 封止用樹脂組成物
JPH0356533A (ja) 半導体封止用樹脂の製造方法
JPH05295270A (ja) 封止材用組成物
JP2857216B2 (ja) 半導体封止用樹脂の製造方法
JP2857217B2 (ja) 半導体封止用樹脂の製造方法
JPH03738A (ja) 封止用樹脂
JPH0321637A (ja) 封止用樹脂
JPH04183710A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH02191659A (ja) エポキシ樹脂組成物
JPH03192113A (ja) 半導体封止用樹脂組成物
JPH01198618A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH0326712A (ja) 封止用樹脂の製造方法