JPH02133311A - 高純度シリカの製造方法 - Google Patents

高純度シリカの製造方法

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JPH02133311A
JPH02133311A JP28577888A JP28577888A JPH02133311A JP H02133311 A JPH02133311 A JP H02133311A JP 28577888 A JP28577888 A JP 28577888A JP 28577888 A JP28577888 A JP 28577888A JP H02133311 A JPH02133311 A JP H02133311A
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silica
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acid
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Koichi Orii
折居 晃一
Iwao Oshima
大島 巌
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Mitsubishi Chemical Corp
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Nitto Chemical Industry Co Ltd
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    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/126Preparation of silica of undetermined type
    • C01B33/128Preparation of silica of undetermined type by acidic treatment of aqueous silicate solutions

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  • Inorganic Chemistry (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高純度シリカの製造方法に関する。
詳しくは、アルカリけい酸塩水溶液から、アルカリ金属
、塩素、ウランなど放射性を有する不純物のほか、特に
チタンの含有率が極めて低い高純度シリカを製造する方
法に関する。
本発明の方法により得られる高純度シリカは、電子部品
封止用樹脂組成物の充填剤、分散剤などとして、また、
特殊セラミックスの原料として好適に用いられるほか、
透明石英ガラスの原料としての用途が期待される。
従来より、透明石英ガラスの原料としては天然水晶が用
いられている。しかし、半導体分野において電子部品素
子の集積度が高まるのに伴って、使用する原材料に対す
る高純度化の要求が厳しくなるのに対して、良質の天然
水晶は枯渇しつつある。そのため、天然水晶を合成高純
度シリカで代替しようとする検討が行われている。
本発明は、このような要望に対応できる高純度シリカを
製造する方法を提供することを目的とするものである。
〔従来の技術] 天然水晶に代わる合成高純度シリカを得る方法の一つと
して、アルカリけい酸塩水溶液を原料とする高純度シリ
カの製法としては; 1) けい酸アルカリ水溶液を酸で処理することによっ
て精製する方法: (特開昭59−54632号、特開昭60−19101
6号など)。
2) −ヒ記の処理に際して、11 tO,の存在下で
行う方法 (特開昭61−286212号など)などが
提案されている。
(発明が解決しようとする問題点〕 これらの方法によって、純度のかなり高いシリカを製造
することはできる。しかし、1)の方法には、Tiの除
去が困難であるという難点がある。
Tiは、石英ガラスの紫外部における透過率を低ドさせ
るので、石英ガラスの原料からは除去しなければならな
い不純物の代表的なものである。
−Cに、T1の鉱酸への溶解度は小さいので原料中に含
まれるTiを所要の濃度レベルまで抽出除去するには多
段階の酸洗浄処理を要し、コスト高になる。実際面で、
けい酸アルカリ水溶液を原料として、Ti含有率が59
11Mを下回るシリカを得ることは困難であった。
また、2)の方法は、H20□を用いてTiを鉱酸への
溶解度の大きい錯体に変換することによって抽出除去を
容易にしようとするものである。微量のTiを抽出除去
するのに1(20□を用いることは有効であるが、Hi
ntは熱分解によって猛毒性を有するオゾンを生成する
という難点を有し、また、Tiの抽出処理の際に発泡す
るなど実用面において取扱いの点で問題がある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、従来の方法における前記の問題点を改善
するための研究を行い、アルカリけい酸塩水?g ’e
、を原料として、微量のTiを除去する際の抽出助剤と
して過硫酸アンモニウム (以下、A P Sという)
が好適であることを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、[一般式:M20・n5io□(た
だし、Mはアルカリ金属元素、nはSiO□のモル故で
0.5〜5を示す)で表されるアルカリけい酸塩の水溶
液を鉱酸と反応させ、得られたシリカを鉱酸で処理して
不純物を抽出除去し高純度シリカを製造する方法におい
て、前記の反応および/または不純物抽出を過硫酸アン
モニウムの存在下で行うことを特徴とする高純度シリカ
の製造方法」を要旨とする。
本発明の方法で原料のアルカリけい酸塩水溶液としては
、けい酸のナトリウム塩、カリウム塩。
J千つム塩などの水18液を用いることができる。
また、反+1t、おまび不純物抽出の各工程で用いられ
るili: i讃としては、硫酸、も)14酸、塩酸な
どが挙げられ、実用上、硫酸を用いるのが好ましい。
Ti抽出助剤としての^psの添加方法は、i′+?■
記鉱酸の水)8液にAPSを溶解させてもよいし、また
、予め調製されたAI”S水溶液を前記鉱酸と混合して
もよい。
APSの使用墳は、存在するTiに対して等モル以−ヒ
、好ましくは10〜100倍モルに相当する量とするの
がよい。
Ti抽出処理は、温度20°C以上、好ましくは50〜
140’cの1・n囲で行うのがよい。
常圧における処理液の沸点よりも高い温度で加(F下で
処理すると、Ti抽出処理の所要時間を短縮することが
できる。加圧抽出の際の温度は、高い程好ましいが酸に
よる装置の腐食やエネルギーコストを考慮すると、11
0〜+40’Cの範囲が実JT)的である。
Ti抽出処理の時間は、回分式の場合には5分から5時
間程度、また、連続式の場合には30秒から30分程度
、好ましくは1〜10分程度程度る。
酸処理を施して得られたシリカは、次いで+IT意の温
度の水を用いて渋滞し、必要によりろ過操作を組みさせ
て脱酸脱水処理する。
なお、本発明で使用する酸は精製または、U子グレード
と称される高純変品を、また原料や使用する酸の希釈ま
たはシリカの洗αなどに用いる水は不純物の少ない純水
を用いることが好ましい。
なお、アルカリ金属の過硫酸塩もT1抽出助剤としての
機能を有するが、本発明で目的とするシリカはアルカリ
金属についてもその含有率が低いことが望ましいので、
本発明の方法において用いられるTi抽出助剤としての
過硫酸塩化合物はアンモニウム塩であることが好ましい
〔発明の効果) 本発明の方法によれば、アルカリけい酸塩六溶液を原料
として、不純物含有率としてアルカリ金属: 10pp
m以下、塩素:3ppm以下、ウランなど放射性元素=
 3ρpb以下、更に、チタン:5pp+m以下である
、不純物音を率が極めて低い高純度のシリカ粒子を得る
ことができる。
本発明の方法で用いられる^psは、入手が容易であり
、安全性が高く取板いやすいのでシリカの製造工程で問
題なく使用することができる。
本発明の方法で得られたシリカ粒子は従来技術による場
合に比較して、不純物含有率が極めて低いので、特に高
集積回路封止用樹脂組成物の充填剤として用いられ、ま
た、透明石英ガラスや特殊セラミックスなどの原料とし
ての用途が期待される。
〔実施例〕
以下、本発明の方法を実施例および比較例により具体的
に説明する。
実施例−1゜ けい酸ソーダ13号CJIS [1408,3号相当品
SiJ: 2B%+ Na z O:  9%、 Ti
:60ppm)  6 kgを減圧下で50°Cに加温
して脱水濃縮し、5iOz: 32%の繊維化用原液を
得た。本原液の粘度は30°Cで約100ボイズであり
、曳糸性も良好であった。
この原液をろ過後、押し出し機を用い孔径0.2mmφ
、孔数200個の金−白金合金製ノズルを通して6m/
分の速度で、50°Cに保持した反応浴−子めAPS:
 17.1gを溶解させた、硫酸13重量%水溶液2O
N中へ押し出した。
押し出された原液はNa 20が酸と反応し中和されて
凝固し、透明な繊維状ゲルに変化した。
反応浴からの繊維状ゲルの取り出しは、ベルトコンベア
ーにより、コンヘアーの速度は1m/分で、繊維状ゲル
の反応浴での浸漬時間は約1分であった。
得られた繊維状ゲルの40gを、予めAPS O,41
gを溶解させた、硫酸13重量%硫酸水?8液: 50
0 mfl中に浸漬し、撹拌しなから100“Cで30
分間処理した。繊維状ゲルはこまかく開裂し、長さ2〜
5脇の短繊維状シリカとなった。
次いで、得られた短繊維状シリカを脱イオン水500 
dの中に入れて10分間撹拌した後、ヌソチェを用いて
脱水した。
この酸による抽出処理−水洗の操作を3回繰り返し、更
に水による渋滞を5回繰り返した後のシリカ中の硫酸根
濃度は1ppI11以下であった。
得られたシリカを150”Cで1夜乾燥後、1200°
Cで1時間加熱処理した。
得られたシリカ中の不純物含有率は、表−1に示される
ように、いづれも1 ppm以下であった。
実施例−2゜ APS使用量を表−2に示すように変えたほかは、実施
例−1と同様の方法によって処理し、シリカを得た。得
られたシリカ中の不純物含有率は表−1に併記した通り
で、Ti含有率はいづれも5 pl)lf1未満であっ
た。
比較例−1゜ APSを使用しないほかは、実施例−1と同様の方法に
よって処理し、シリカを得た。
得られたシリカ中の不純物含有率は、表−1に併記した
通りで、Tiは5.0ppm+であった。
表−1゜ シリカ中の不純物含有率: 表−2゜ 日東化学工業株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)一般式:M_2O・nSiO_2(ただし、Mはア
    ルカリ金属元素、nはSiO_2のモル数で0.5〜5
    を示す)で表されるアルカリけい酸塩の水溶液を鉱酸と
    反応させ、得られたシリカを鉱酸で処理して不純物を抽
    出除去し高純度シリカを製造する方法において、前記の
    反応および/または不純物抽出を過硫酸アンモニウムの
    存在下で行うことを特徴とする高純度シリカの製造方法
JP28577888A 1988-11-14 1988-11-14 高純度シリカの製造方法 Expired - Fee Related JPH0755818B2 (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018118865A (ja) * 2017-01-24 2018-08-02 太平洋セメント株式会社 精製シリカの製造方法
JP2018118867A (ja) * 2017-01-24 2018-08-02 太平洋セメント株式会社 精製シリカの製造方法
JP2020007164A (ja) * 2018-07-02 2020-01-16 株式会社アドマテックス 繊維状フィラー含有スラリー状組成物及びその製造方法

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