JPH02134600A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JPH02134600A JPH02134600A JP28988588A JP28988588A JPH02134600A JP H02134600 A JPH02134600 A JP H02134600A JP 28988588 A JP28988588 A JP 28988588A JP 28988588 A JP28988588 A JP 28988588A JP H02134600 A JPH02134600 A JP H02134600A
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- JP
- Japan
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- electron beam
- irradiation
- transporting
- processed
- along
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- Pending
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 12
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 21
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 3
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は電子線照射装置に関する。
（従来の技術）
周知のように電子線照射装置は、電子線照射源を内蔵す
る真空室と、電子線が照射される被処理物が通過する照
射室とによって、主として構成されている。
る真空室と、電子線が照射される被処理物が通過する照
射室とによって、主として構成されている。
照射室の内部には、被処理体であるウェブを搬送するロ
ーラが配置されてあり、これによって搬送されるウェブ
に、真空室からの電子線が照射されるようになっている
。
ーラが配置されてあり、これによって搬送されるウェブ
に、真空室からの電子線が照射されるようになっている
。
第３図は従来のこの種装置を示し、１は電子線照射源２
を内蔵する真空室、３は電子線照射源２からの電子線が
照射される被処理物４が通過する照射室、５は照射窓で
ある。
を内蔵する真空室、３は電子線照射源２からの電子線が
照射される被処理物４が通過する照射室、５は照射窓で
ある。
照射室３の内部には、ウェブ処理のために、被処理物４
を搬送するためのローラ６からなる搬送機構７が設置さ
れている。８は軸受である。従来では図に示すように基
本的には１系列の照射用として構成されるのを普通とし
ている。
を搬送するためのローラ６からなる搬送機構７が設置さ
れている。８は軸受である。従来では図に示すように基
本的には１系列の照射用として構成されるのを普通とし
ている。
（発明が解決しようとする課題）
ところでこの種の照射にあたり、照射条件の変更が要求
されることがある。その場合２系列幅の狭いものを搬送
し、電子線を同時に照射することは可能であっても、そ
の２系列の照射条件は全く同じである。そのため別の照
射条件の下での、複数系列の照射は不可能である。
されることがある。その場合２系列幅の狭いものを搬送
し、電子線を同時に照射することは可能であっても、そ
の２系列の照射条件は全く同じである。そのため別の照
射条件の下での、複数系列の照射は不可能である。
この発明は電子線の照射を、照射系列の多寡に関係なく
、その照射条件が容易に変更できるようにすることを目
的とする。
、その照射条件が容易に変更できるようにすることを目
的とする。
（課題を解決するための手段）
この発明は照射室の内部に、搬送機構を照射幅方向に沿
って複数設置し、各搬送機構の搬送速度を可変とするか
、または各搬送機構を照射方向に沿ってその位置を可変
としたことを特徴とする。
って複数設置し、各搬送機構の搬送速度を可変とするか
、または各搬送機構を照射方向に沿ってその位置を可変
としたことを特徴とする。
（作用）
搬送機構を複数としたので、各搬送機構によって別個に
被処理物を搬送することができる。そして各搬送機構の
搬送速度および／またはその位置が互いに別個に調整出
来るので、搬送速度、位置のいずれか一方または両方調
整することによって、電子線エネルギー、照射線量の一
方または両方を、調整することができるようになる。
被処理物を搬送することができる。そして各搬送機構の
搬送速度および／またはその位置が互いに別個に調整出
来るので、搬送速度、位置のいずれか一方または両方調
整することによって、電子線エネルギー、照射線量の一
方または両方を、調整することができるようになる。
（実施例）
この発明の実施例を第１図、第２図によって説明する。
なお第３図と同じ符号を付した部分は、同一または対応
する部分を示す、この発明にしたがい照射幅方向（被処
理物４の搬送方向に体して直交する方向）に沿って、複
数の搬送機構７を設置する。各搬送機構７を構成してい
るローラ６の回転速度、すなわち搬送速度は互い別個に
調整自在とされである。
する部分を示す、この発明にしたがい照射幅方向（被処
理物４の搬送方向に体して直交する方向）に沿って、複
数の搬送機構７を設置する。各搬送機構７を構成してい
るローラ６の回転速度、すなわち搬送速度は互い別個に
調整自在とされである。
また各搬送機構７は、電子線源２からの電子線照射方向
に沿って、その位置が別個に可変自在とされている。そ
のためにはジヤツキのような昇降機構９を用意し、これ
によって軸受８を昇降させるなどして、ローラ６を昇降
させるようにしている。
に沿って、その位置が別個に可変自在とされている。そ
のためにはジヤツキのような昇降機構９を用意し、これ
によって軸受８を昇降させるなどして、ローラ６を昇降
させるようにしている。
１０は電子線キャッチャ−で、被処理物４に照射され、
余った電子線（被処理物を透過した電子１ＩＩＡ）を処
理するものである。
余った電子線（被処理物を透過した電子１ＩＩＡ）を処
理するものである。
各搬送機構７によって別個の被処理物４が搬送可能であ
る。その場合電子線源２からの電子線の放射条件に変更
がなくとも、各搬送機構７の搬送速度を変更させれば、
各被処理物４の照射線量が変更されるようになる。
る。その場合電子線源２からの電子線の放射条件に変更
がなくとも、各搬送機構７の搬送速度を変更させれば、
各被処理物４の照射線量が変更されるようになる。
また各搬送機構７を昇降させることによって、その位置
を変更すれば、各被処理物４の電子線のエネルギーが変
更されるようになる。その際照射線量も変更されるよう
になる。
を変更すれば、各被処理物４の電子線のエネルギーが変
更されるようになる。その際照射線量も変更されるよう
になる。
以上の説明は各搬送機構７によって別個の被処理物を同
時に搬送させた場合の例であったが、方の搬送機構７の
みで搬送するようにしてもよい。
時に搬送させた場合の例であったが、方の搬送機構７の
みで搬送するようにしてもよい。
この場合は搬送速度なり、位置を変更することによって
、照射条件が異なる照射に簡単に変更できるようになる
。
、照射条件が異なる照射に簡単に変更できるようになる
。
（発明の効果）
以上詳述したようにこの発明によれば、搬送機構を複数
とし、各搬送機構によって別個に被処理物を搬送するよ
うにしたので、各搬送機構によって搬送される被処理物
の照射条件を、別個にかつ容易に調整することができる
といった効果を奏する。
とし、各搬送機構によって別個に被処理物を搬送するよ
うにしたので、各搬送機構によって搬送される被処理物
の照射条件を、別個にかつ容易に調整することができる
といった効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第１図はこの発明の実施例を示す正面図、第２図は第１
図の側面図、第３図は従来例の正面図である。
図の側面図、第３図は従来例の正面図である。
Claims (3)
- （１）電子線照射源を内蔵する真空室と、電子線を被処
理物に照射する照射室とを備えてなる電子線照射装置に
おいて、 前記照射室の内部に、搬送速度が別個に可変とされた、
被処理物搬送用の搬送機構を、前記電子線の照射幅方向
に沿って複数設置してなる電子線照射装置。 - （２）電子線照射源を内蔵する真空室と、電子線を被処
理物に照射する照射室とを備えてなる電子線照射装置に
おいて、 前記照射室の内部に、被処理物搬送用の搬送機構を、前
記電子線の照射幅方向に沿って複数設置するとともに、
前記各搬送機構を前記電子線の照射方向に沿ってその位
置を別個に可変自在としてなる電子線照射装置。 - （３）電子線照射源を内蔵する真空室と、電子線を被処
理物に照射する照射室とを備えてなる電子線照射装置に
おいて、 前記照射室の内部に、搬送速度が別個に可変とされた、
被処理物搬送用の搬送機構を、前記電子線の照射幅方向
に沿って複数設置するとともに、前記各搬送機構を前記
電子線の照射方向に沿ってその位置を別個に可変自在と
してなる電子線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28988588A JPH02134600A (ja) | 1988-11-15 | 1988-11-15 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28988588A JPH02134600A (ja) | 1988-11-15 | 1988-11-15 | 電子線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02134600A true JPH02134600A (ja) | 1990-05-23 |
Family
ID=17749032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28988588A Pending JPH02134600A (ja) | 1988-11-15 | 1988-11-15 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02134600A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020036056A1 (ja) * | 2018-08-17 | 2020-02-20 | 日立造船株式会社 | 電子線照射装置およびこれを具備する接着設備並びに接着方法 |
-
1988
- 1988-11-15 JP JP28988588A patent/JPH02134600A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020036056A1 (ja) * | 2018-08-17 | 2020-02-20 | 日立造船株式会社 | 電子線照射装置およびこれを具備する接着設備並びに接着方法 |
| JP2020027078A (ja) * | 2018-08-17 | 2020-02-20 | 日立造船株式会社 | 電子線照射装置およびこれを具備する接着設備並びに接着方法 |
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