JPH02135346A - 防塵膜の取付け方法 - Google Patents

防塵膜の取付け方法

Info

Publication number
JPH02135346A
JPH02135346A JP63289213A JP28921388A JPH02135346A JP H02135346 A JPH02135346 A JP H02135346A JP 63289213 A JP63289213 A JP 63289213A JP 28921388 A JP28921388 A JP 28921388A JP H02135346 A JPH02135346 A JP H02135346A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
frame
dustproof
film
dust
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63289213A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2658297B2 (ja
Inventor
Takayoshi Matsuyama
松山 隆義
Takao Takahashi
伯夫 高橋
Mitsugi Kamimura
上村 貢
Takashi Ariga
有賀 隆
Eiji Yoshimoto
義本 英司
Seiya Futamura
二村 誠也
Masaru Morijiri
森尻 勝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP28921388A priority Critical patent/JP2658297B2/ja
Publication of JPH02135346A publication Critical patent/JPH02135346A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2658297B2 publication Critical patent/JP2658297B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 半導体装置の製造工程において用いられるホトマスク、
特に防塵膜をレチクルマスク表面へ取付ける方法に関し
、 防塵膜の交換に際し被防塵マスクから接着されたフレー
ムを、容易に剥離できる防塵膜の取付は方法の提供を目
的とし、 一方に防塵膜が展着されたフレームを接着することによ
って、塵埃が表面に付着するのを防止するマスクの防塵
方法において、フレームを接着するに先立って被防塵マ
スクの表面に、ポリビニルアルコール(以下PVAと略
称する)皮膜が形成されるように構成する。
〔産業上の利用分野] 本発明は半導体装置の製造工程において用いられるホト
マスクに係り、特に防塵膜をレチクルマスク表面へ取付
ける方法に関する。
半導体装置の歩留りを低下させる最大の要因は塵埃の付
着であり、特にホトマスクを形成する際の基準となるレ
チクルマスクに塵埃が付着すると、ホトマスクに欠陥が
生じ正常なパターンの形成が不可能になる。かかるマス
ク表面への塵埃の付着を防止する手段として一般に、ペ
リクル膜と称する防塵膜がマスク表面に取付けられてい
る。
しかし取付は方法に不備があると防塵膜を交換する際に
マスクが損傷を受ける。そこでマスクを損傷することな
く容易に防塵膜を交換できる取付は方法の実現が望まれ
ている。
〔従来の技術〕
第3図は従来の防塵膜の取付は方法を示す側断面図であ
る。
図において従来の防塵膜の取付は方法はレチクルマスク
1の両面に、レチクルマスク1の四方を取り囲むフレー
ム2が接着され、ニトロセルロースからなる極く薄い防
塵膜、即ちペリクル膜3がフレーム2の反対側の端面に
展着されている。なおレチクルマスク1とフレーム2の
間に介在する4は接着剤である。
このようにレチクルマスク1の四方をフレーム2で取り
囲み、光をよく通す防塵膜3をレチクルマスクlから離
れた位置に設けることによって、レチクルマスク1の表
面への塵埃の付着を防止することができる。また防塵膜
3の表面に塵埃が付着してもレチクルマスク1から離れ
ていて輪郭がぼけるため、塵埃が小さければホトマスク
を形成する際の障害にはならない。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし長期間使用すると防塵膜3の表面に付着する塵埃
が増加し、レチクルマスク1からフレーム2を外して防
塵膜3を交換しなければならない。
しかるに従来の取付は方法ではフレーム2が直接レチク
ルマスク1に接着されているため、レチクルマスク1か
ら外す際にフレーム2が変形し再使用が不可能な場合が
ある。またレチクルマスクlからフレーム2を外す際に
マスク面に傷がついたり、レチクルマスク1に残った接
着剤によってマスク面が汚染されたりする等の問題があ
った。
本発明の目的は防塵膜の交換に際し被防塵マスクから接
着されたフレームを、容易に剥離できる防塵膜の取付は
方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
第1図は本発明になる防塵膜の取付は方法を示す側断面
図である。なお全図を通し同じ対象物は同一記号で表し
ている。
上記課題は一方に防塵膜3が展着されたフレーム2を接
着することによって、塵埃が表面に付着するのを防止す
るマスク1の防塵方法において、フレーム2を接着する
に先立って被防塵マスクlの表面に、PVA皮膜5が形
成される本発明になる防塵膜の取付は方法により達成さ
れる。
〔作 用〕
第1図において接着に先立って被防塵マスクの表面にP
VA皮膜を形成しておくことによって、防塵膜の交換に
際しフレームおよび接着剤の被防塵マスクからの剥離が
極めて容易になり、被防塵マスクとフレームの損傷が少
ない防塵膜の取付は方法を実現することができる。
〔実施例〕
以下添付図により本発明の実施例について説明する。な
お第2図はフレームとレチクルマスクの接合部を示す図
である。
本発明になる防塵膜の取付は方法では第1図に示す如く
、レチクルマスクlの両面にPVA皮膜5がスピンコー
ド法によって形成され、レチクルマスク1の四方を取り
囲むフレーム2は接着剤4を用いて、PVA皮膜5を挟
んでレチクルマスク1に接着されている。
またフレーム2の反対側の端面にはニトロセルロースか
らなる防塵膜3が展着されている。P−VA皮11is
およびニトロセルロースからなる防塵膜3は光をよく通
し、かかる膜を設けることによってレチクルマスクの機
能が阻害されることは無い。
レチクルマスクlの両面に形成されたPVA皮膜5は水
溶性で、レチクルマスクからフレームを外して防塵膜を
交換する際は、レチクルマスクを水に浸すことによって
フレームが接着剤と共に容易に剥離され、レチクルマス
ク1から外す際にフレーム2が変形するとか、マスク面
に傷がついたり接着剤でマスク面が汚染されたりする等
の障害が無くなる。
その他に従来の防塵膜の取付は方法ではレチクルマスク
1と、フレーム2および防塵膜3で囲まれた空間は完全
に密封されており、露光時の熱によって内部の温度が上
昇し空気が膨張すると、防塵膜3が盛り上がってマスク
形成を阻害する場合がある。
しかし本発明になる防塵膜の取付は方法では第2図に示
す如く、スピンコード法によって形成されたPVA皮膜
5の表面には凹凸6があり、レチクルマスクlとフレー
ム2および防塵膜3で囲まれた空間の空気は、この凹凸
6と接着剤4とで形成される隙間を通して出入りするこ
とができ、内部温度の上昇によって空気が膨張しても防
塵膜3が盛り上がることは無い。
ちなみに発明者らが行った実験によればPVA皮膜5の
膜厚が、5000人程度0ときにフレーム2の接着や剥
離が最も円滑に行われる。しかもこのときの表面におけ
る凹凸には約1000人の高低差があり、レチクルマス
クとフレームおよび防塵膜で囲まれた空間に、この凹凸
の間を通して空気を出入りさせることが充分可能である
。なお同時に塵埃も出入りするがその程度の大きさの塵
埃は実用上問題にはならない。
このように接着に先立って被防塵マスクの表面にPVA
皮膜を形成しておくことによって、防塵膜の交換に際し
フレームおよび接着剤の被防塵マスクからの剥離が極め
て容易になり、被防塵マスクとフレームの損傷が少ない
防塵膜の取付は方法を実現することができる。
〔発明の効果〕
上述の如く本発明によれば防塵膜の交換に際し被防塵マ
スクから接着されたフレームを、容易に剥離できる防塵
膜の取付は方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明になる防塵膜の取付は方法を示す側断面
図、 第2図はフレームとレチクルマスクの接合部を示す図、 第3図は従来の防塵膜の取付は方法を示す側断面図、 である。図において ■はレチクルマスク、  2はフレーム、3は防塵膜、
     4は接着剤、 5はPVA皮膜、   6は凹凸、 をそれぞれ表す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 一方に防塵膜(3)が展着されたフレーム(2)を接着
    することによって、塵埃が表面に付着するのを防止する
    マスク(1)の防塵方法において、フレーム(2)を接
    着するに先立ち被防塵マスク(1)の表面に、ポリビニ
    ルアルコール皮膜(5)が形成されることを特徴とする
    防塵膜の取付け方法。
JP28921388A 1988-11-16 1988-11-16 防塵膜の取付け方法 Expired - Lifetime JP2658297B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28921388A JP2658297B2 (ja) 1988-11-16 1988-11-16 防塵膜の取付け方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28921388A JP2658297B2 (ja) 1988-11-16 1988-11-16 防塵膜の取付け方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02135346A true JPH02135346A (ja) 1990-05-24
JP2658297B2 JP2658297B2 (ja) 1997-09-30

Family

ID=17740245

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28921388A Expired - Lifetime JP2658297B2 (ja) 1988-11-16 1988-11-16 防塵膜の取付け方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2658297B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2658297B2 (ja) 1997-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100441349B1 (ko) 포토마스크보호용프레임지지펠리클
US4833051A (en) Protective device for photographic masks
US4737387A (en) Removable pellicle and method
TWI431415B (zh) 具有光罩及遮蓋光罩之防塵薄膜組件的光罩單元與其製造方法。
JP7357432B2 (ja) Euv用ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法、及び半導体の製造方法
EP0548312B1 (en) Pressure relieving pellicle
JP2002196477A (ja) 光化学的に安定なエキシマレーザー用遠紫外線ペリクル
JP2011008082A (ja) ペリクル
JP4512782B2 (ja) マスク構造体及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
JPH02135346A (ja) 防塵膜の取付け方法
JPH1062966A (ja) リソグラフィー用ペリクル
JPH02250055A (ja) フォトマスク及び半導体装置の製造方法
JPH01105255A (ja) ガラスマスク
JP7533659B2 (ja) ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法及び半導体の製造方法
JP2005352096A (ja) ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル
JPH06100825B2 (ja) パタ−ン形成方法
JPS6131331Y2 (ja)
JPH08114911A (ja) フォトマスク用ペリクル及びフォトマスク
JPS6358348A (ja) レクチルの表面保護用具
JPS63309954A (ja) 半導体装置製造用マスク
JPS6355551A (ja) ホトマスクの保護具
JPH0266546A (ja) 半導体装置製造用マスク
JPH01219836A (ja) 投影プリント用マスク
JPH0627644A (ja) ペリクルおよびペリクルの製造方法
JPH04174846A (ja) マスク保護部材