JPH02138235A - 光学活性化合物、同中間体、該化合物を含有する液晶組成物及び該液晶組成物を用いた液晶光変調装置 - Google Patents
光学活性化合物、同中間体、該化合物を含有する液晶組成物及び該液晶組成物を用いた液晶光変調装置Info
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- JPH02138235A JPH02138235A JP1184960A JP18496089A JPH02138235A JP H02138235 A JPH02138235 A JP H02138235A JP 1184960 A JP1184960 A JP 1184960A JP 18496089 A JP18496089 A JP 18496089A JP H02138235 A JPH02138235 A JP H02138235A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野〕
本発明は、光学活性化合物および該化合物を含有する液
晶組成物に閏する。本発明の化合物およびこれを含有す
る組成物は、強誘電性液晶相を示し、例えば液晶表示素
子など電気光学的スイッチング要素として有用であり、
液晶光変調装置に適用することができる。
晶組成物に閏する。本発明の化合物およびこれを含有す
る組成物は、強誘電性液晶相を示し、例えば液晶表示素
子など電気光学的スイッチング要素として有用であり、
液晶光変調装置に適用することができる。
［従来の技術１
液晶表示素子は、その低電圧作動性、低消費電力性、薄
型軽量であること、受光型で眼が疲れないことなどの優
れた特徴を有するため、各種の表示装置として広範囲に
使用されている。
型軽量であること、受光型で眼が疲れないことなどの優
れた特徴を有するため、各種の表示装置として広範囲に
使用されている。
現在ノドコロ、Ｔｗｉｓｔｅｄ １４ｃｍａｔｉｃ型（
ＴＮ型）と呼ばれるネマチック液晶を用いた液晶表示装
置が使用されている。しかし、このネマチック液晶を用
いた表示装置は、他の発光型の表示装置、例えばＣＲＴ
、ＥＬ等と比較して応答が非常に遅いという欠点があっ
た。そのため表承情報酷の多い大画面デイスプレィに応
用するとコントラストの良い表示ができないため、広範
囲な応用を図る上で制約を受けていた。最近、５ｕｐｅ
ｒ ’ｒｗｉｓｔｅｄＮｅａ＋ａｔｉｃ （Ｓ Ｔ
Ｎ型）またはＳＢＥと呼ばれるコントラストを向上させ
たネマチック液晶表示装置が見出された。しかし、ＳＴ
Ｎ型液晶表示においても応答が大幅に改善されたとは言
い難く、表示情報量の更に多いデイスプレィへの応用に
は限界がある。このため、応答性に優れた新しい液晶表
示方式の開発が種々試みられている。
ＴＮ型）と呼ばれるネマチック液晶を用いた液晶表示装
置が使用されている。しかし、このネマチック液晶を用
いた表示装置は、他の発光型の表示装置、例えばＣＲＴ
、ＥＬ等と比較して応答が非常に遅いという欠点があっ
た。そのため表承情報酷の多い大画面デイスプレィに応
用するとコントラストの良い表示ができないため、広範
囲な応用を図る上で制約を受けていた。最近、５ｕｐｅ
ｒ ’ｒｗｉｓｔｅｄＮｅａ＋ａｔｉｃ （Ｓ Ｔ
Ｎ型）またはＳＢＥと呼ばれるコントラストを向上させ
たネマチック液晶表示装置が見出された。しかし、ＳＴ
Ｎ型液晶表示においても応答が大幅に改善されたとは言
い難く、表示情報量の更に多いデイスプレィへの応用に
は限界がある。このため、応答性に優れた新しい液晶表
示方式の開発が種々試みられている。
強誘電性液晶は、メモリー機能および高速応答を示すこ
とから大画面デイスプレィへの応用に関し大きな期待が
寄せられつつある。強誘電性を示す液晶には、カイラル
スメクチックＣ相やカイラルスメクチックＣ相Ｊ相等が
知られており、これ等のうち、特に実用性の高いのはカ
イラルスメクチックＣ相を示す強誘電性液晶と考えられ
ている。
とから大画面デイスプレィへの応用に関し大きな期待が
寄せられつつある。強誘電性を示す液晶には、カイラル
スメクチックＣ相やカイラルスメクチックＣ相Ｊ相等が
知られており、これ等のうち、特に実用性の高いのはカ
イラルスメクチックＣ相を示す強誘電性液晶と考えられ
ている。
カイラルスメクチックＣ相を示す強誘電性液晶は、１９
７５年Ｒ，Ｂ、 Ｍｅｙｅｒらにより初メチ合成すれた
もので、その代表例に４−（４’ −ｎ−デシルオキシ
ベンジリデンアミノ）ケイ皮酸 ２−メチルブチルエス
テル（以下、ＤＯＢＡＨＢＣと略称する）がある［Ｊ、
Ｐｈｙｓｉｑｕｅ、 ３６． Ｌ−６９（１９７５）
］。
７５年Ｒ，Ｂ、 Ｍｅｙｅｒらにより初メチ合成すれた
もので、その代表例に４−（４’ −ｎ−デシルオキシ
ベンジリデンアミノ）ケイ皮酸 ２−メチルブチルエス
テル（以下、ＤＯＢＡＨＢＣと略称する）がある［Ｊ、
Ｐｈｙｓｉｑｕｅ、 ３６． Ｌ−６９（１９７５）
］。
ＤＯＢＡＨＢＣを用いて薄膜タイプの液晶セルを作製し
、μｓｅｃオーダーの高速応答性が見出された［Ｎ、Ａ
、Ｃ１ａｒｋら、Ａｐｐｌ、 Ｐｈｙｓ、 Ｌｅｔｔ、
、３６．８９（１９８０）１のを契機にカイラルスメク
チックＣ相を示す強誘電性液晶（以下、これを単に強誘
電性液晶と称することもある）を用いた液晶表示素子、
光プリンターヘッド等の光変調素子の開発がはじめられ
た。
、μｓｅｃオーダーの高速応答性が見出された［Ｎ、Ａ
、Ｃ１ａｒｋら、Ａｐｐｌ、 Ｐｈｙｓ、 Ｌｅｔｔ、
、３６．８９（１９８０）１のを契機にカイラルスメク
チックＣ相を示す強誘電性液晶（以下、これを単に強誘
電性液晶と称することもある）を用いた液晶表示素子、
光プリンターヘッド等の光変調素子の開発がはじめられ
た。
そのため、その後多くのカイラルスメクチックＣ相を示
す強誘電性液晶化合物の開発が行われ、現在種々の強誘
電性液晶化合物が知られるようになっている。しかしな
がら、強誘電性液晶を用いた大画面デイスプレィ等を製
造する上で信頼性や性能の面で十分良好な強誘電性液晶
化合物はまだ見出されていない。
す強誘電性液晶化合物の開発が行われ、現在種々の強誘
電性液晶化合物が知られるようになっている。しかしな
がら、強誘電性液晶を用いた大画面デイスプレィ等を製
造する上で信頼性や性能の面で十分良好な強誘電性液晶
化合物はまだ見出されていない。
［発明が解決しようとする課題］
強誘電性液晶を液晶表示素子等として実用化するには、
高速応答性を始め配向性、メモリー性、しきい値特性、
これら特性の温度依存性等が良好であることが必要であ
る。又、室温を含む十分に広い温度範囲で動作し得るよ
うにカイラルスメクチックＣ相を示す温度範囲が広いこ
と、物理的化学的な安定性に優れること等が必要である
。
高速応答性を始め配向性、メモリー性、しきい値特性、
これら特性の温度依存性等が良好であることが必要であ
る。又、室温を含む十分に広い温度範囲で動作し得るよ
うにカイラルスメクチックＣ相を示す温度範囲が広いこ
と、物理的化学的な安定性に優れること等が必要である
。
これ等のうち、特に物理的化学的に安定であること、高
速応答性、メモリー性を出現させるために大ぎな自発分
極を持たせることが重要である。
速応答性、メモリー性を出現させるために大ぎな自発分
極を持たせることが重要である。
しかし、これまでに開発された強誘電性液晶では上記の
性能を満足できる化合物が見当たらない。
性能を満足できる化合物が見当たらない。
例えば、上述したＤＯＢＡＨＢＣはシッフ塩基系の液晶
であるため水、光等に対する化学的安定性の面で難点が
あり、また自発分権も４ｎＣ１０２以下と小さい。
であるため水、光等に対する化学的安定性の面で難点が
あり、また自発分権も４ｎＣ１０２以下と小さい。
化学的に安定な強誘電性液晶化合物として、エステル系
の液晶が報告されている。しかし、これらは自発分極が
十分には大きくないこと、カイラルスメクチックＣ相の
温度範囲が十分に広くないこと等満足のいくものとは言
えない。
の液晶が報告されている。しかし、これらは自発分極が
十分には大きくないこと、カイラルスメクチックＣ相の
温度範囲が十分に広くないこと等満足のいくものとは言
えない。
一方、自発分極を大きくするために、カイラルスメクチ
ックＣ相の出現に必須な光学活性基として不斉炭素を２
個有する化合物が合成されている。
ックＣ相の出現に必須な光学活性基として不斉炭素を２
個有する化合物が合成されている。
例えば、ジキラルエボキシド側鎖を有する液晶化合物［
ウオールベ等、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサイアテイー、１０８．７４２４ （１９８６）
］あるいは隣接位不斉炭素上にハロゲン原子とメチル基
とを有する液晶化合物（特開昭６０−１６８７８０、同
６０−２１８３５８、同６１−６８４４９、同６２−４
０、同６２−４６、同６２−１０３０４３、同６２−１
１１９５０、同６２−１４２１３１、同６２−１７５４
４３号公報等）などを挙げることができる。
ウオールベ等、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサイアテイー、１０８．７４２４ （１９８６）
］あるいは隣接位不斉炭素上にハロゲン原子とメチル基
とを有する液晶化合物（特開昭６０−１６８７８０、同
６０−２１８３５８、同６１−６８４４９、同６２−４
０、同６２−４６、同６２−１０３０４３、同６２−１
１１９５０、同６２−１４２１３１、同６２−１７５４
４３号公報等）などを挙げることができる。
その代表例として４′−オクチルオキシ−４−ビフェニ
ル （２８，３８）−２−り０ルー３−メチルペンタノ
エート（特開昭６１−６８４４９号）がある。この液晶
化合物は自発分権が１８０ｎ Ｃ／ ｃａ ２と非常に
大きな値を示す。しかし、脂肪族のクロル化合物である
ため化学的安定性に乏しい。そこで、４′−オクチルカ
ルボニルオキシ−４−［（ｓ） −２−メトキシ（ｓ）
−３−メチルペンチルオキシカルボニル］ビフェニル（
特開昭６２−２２８０３６号）が合成されている。これ
は化学的安定性には優れるが、自発分極が１７ｎＣ／α
２と十分なものとはいえない。
ル （２８，３８）−２−り０ルー３−メチルペンタノ
エート（特開昭６１−６８４４９号）がある。この液晶
化合物は自発分権が１８０ｎ Ｃ／ ｃａ ２と非常に
大きな値を示す。しかし、脂肪族のクロル化合物である
ため化学的安定性に乏しい。そこで、４′−オクチルカ
ルボニルオキシ−４−［（ｓ） −２−メトキシ（ｓ）
−３−メチルペンチルオキシカルボニル］ビフェニル（
特開昭６２−２２８０３６号）が合成されている。これ
は化学的安定性には優れるが、自発分極が１７ｎＣ／α
２と十分なものとはいえない。
［課題を解決するための手段］
本発明者らは、物理的化学的な安定性に優れ、自発分極
の大きな強誘電性液晶化合物を見出すべく種々検討を行
い本発明に至った。即ち、化学的に安定なエステル化合
物と２個の不斉炭素を持つ光学活性基とを組み合せた液
晶化合物について鋭意検討を行い本発明に至った。
の大きな強誘電性液晶化合物を見出すべく種々検討を行
い本発明に至った。即ち、化学的に安定なエステル化合
物と２個の不斉炭素を持つ光学活性基とを組み合せた液
晶化合物について鋭意検討を行い本発明に至った。
特に、２個の不斉炭素を有する光学活性基において、化
学的安定性に乏しいハロゲン−炭素結合を含まない構造
とすることに成功し、これを液晶化合物の骨格を構成す
るベンゼン等６員環および末端鎖であるアルキル基とに
特定の様式で結合させることによって本発明を達成した
ものである。
学的安定性に乏しいハロゲン−炭素結合を含まない構造
とすることに成功し、これを液晶化合物の骨格を構成す
るベンゼン等６員環および末端鎖であるアルキル基とに
特定の様式で結合させることによって本発明を達成した
ものである。
すなわち、本発明の第一の側面は、
一般式
％式％：：
［式中、Ｒ１は炭素数３〜１４のアルキル基、Ｒ２、Ｒ
３はそれぞれ同−又は異なってもよく炭素数１〜３の低
級アルキル基、Ｒ４は炭素ｌｌＩ［１〜１０のアルキル
基を示し、０１は単結合、エーテル結合、カルボン酸エ
ステル結合またはカルボニル結合、Ｑ １Ｑ３はそれぞ
れエーテル結合、カルボン酸エステル結合、カルボニル
結合またはカルボニルジオキシ結合を示し、Ｍは （Ｘ、Ｙはそれぞれ単結合、カルボン酸エステル結合、
メチレンオキシ結合またはエチレン結合を２ Ｒ３ （式中Ｒ、Ｒ、Ｒ４及びＱ３は前記と同義）。
３はそれぞれ同−又は異なってもよく炭素数１〜３の低
級アルキル基、Ｒ４は炭素ｌｌＩ［１〜１０のアルキル
基を示し、０１は単結合、エーテル結合、カルボン酸エ
ステル結合またはカルボニル結合、Ｑ １Ｑ３はそれぞ
れエーテル結合、カルボン酸エステル結合、カルボニル
結合またはカルボニルジオキシ結合を示し、Ｍは （Ｘ、Ｙはそれぞれ単結合、カルボン酸エステル結合、
メチレンオキシ結合またはエチレン結合を２ Ｒ３ （式中Ｒ、Ｒ、Ｒ４及びＱ３は前記と同義）。
第３の側面は、上記の光学活性化合物を少なくとも１種
を含む液晶組成物、第４の側面は上記の液晶組成物より
なる液晶光変調装置である。
を含む液晶組成物、第４の側面は上記の液晶組成物より
なる液晶光変調装置である。
以下筒１の側面について説明をする。
化合物（Ｉ）は基本骨格Ｍに基づいて、次の化合物（■
′ ）と（■“）とに分けることができる。
′ ）と（■“）とに分けることができる。
原子として１ないし２個の酸素原子または窒素原子を有
していてもよい同素または異項の六員環−１，４−ジイ
ル基）を示す。またポ印を付した炭素は不斉炭素を意味
する。］で表わされる光学活性化合物に関する。
していてもよい同素または異項の六員環−１，４−ジイ
ル基）を示す。またポ印を付した炭素は不斉炭素を意味
する。］で表わされる光学活性化合物に関する。
第２の側面は、一般式（Ｉ）の化合物のジキラル部分を
構成する原料として有用な一般式（ＩＩＩ）で表わされ
るジキラルアルコール類に関する。
構成する原料として有用な一般式（ＩＩＩ）で表わされ
るジキラルアルコール類に関する。
上記化合物（Ｉ）、（■′）、（■“）においてＲ１で
示される炭素数３〜１４のアルキル基としては、直鎖ま
たは分校のいずれであってもよく、具体的には、例えば
、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、
オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、ト
リデシル、テトラデシル等の直鎖状アルキル基、例えば
イソプロピル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ
−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペ
ンチル、イソヘキシル、１−メチルペンチル、２−メチ
ルペンチル、５−メチルヘキシル、２．３．５−トリメ
チルヘキシル、２．７．８−トリメチルデシル、４−エ
チル−５−メチルノニル等の分校状のアルキル基を挙げ
ることができる。なかでも直鎖状で炭素数が６〜１２の
アルキル基、例えばヘキシル、ヘプチル、オクチル、デ
シル、ウンデシル、ドデシルが好ましい。Ｒ、Ｒで示さ
れる炭素数１〜３の低級アルキル基としては、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル等の直鎖状ま
たは分校状のアルキル基が挙げられる。なかでもメチル
が好ましい。Ｒ４で示される１〜１０のアルキル基とし
ては、直鎮状または分校状のいずれであってもよく、具
体的には、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デ
シルなとの直鎖状アルキル基、また例えば、イソプロピ
ル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
イソペンチル、ネオペンチル、ｔＣｒｔ−ペンチル、イ
ソヘキシル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル
、５−メチルヘキシル、４−エチルヘキシル、２゜３．
５−トリメチルヘキシル、４−エチル−５−メチルヘキ
シル等の分校状のアルキル基が挙げられる。なかでも、
直鎖状で炭素数が１〜８のアルキル基、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル、オク
チルが好ましい。
示される炭素数３〜１４のアルキル基としては、直鎖ま
たは分校のいずれであってもよく、具体的には、例えば
、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、
オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、ト
リデシル、テトラデシル等の直鎖状アルキル基、例えば
イソプロピル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ
−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペ
ンチル、イソヘキシル、１−メチルペンチル、２−メチ
ルペンチル、５−メチルヘキシル、２．３．５−トリメ
チルヘキシル、２．７．８−トリメチルデシル、４−エ
チル−５−メチルノニル等の分校状のアルキル基を挙げ
ることができる。なかでも直鎖状で炭素数が６〜１２の
アルキル基、例えばヘキシル、ヘプチル、オクチル、デ
シル、ウンデシル、ドデシルが好ましい。Ｒ、Ｒで示さ
れる炭素数１〜３の低級アルキル基としては、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル等の直鎖状ま
たは分校状のアルキル基が挙げられる。なかでもメチル
が好ましい。Ｒ４で示される１〜１０のアルキル基とし
ては、直鎮状または分校状のいずれであってもよく、具
体的には、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デ
シルなとの直鎖状アルキル基、また例えば、イソプロピ
ル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
イソペンチル、ネオペンチル、ｔＣｒｔ−ペンチル、イ
ソヘキシル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル
、５−メチルヘキシル、４−エチルヘキシル、２゜３．
５−トリメチルヘキシル、４−エチル−５−メチルヘキ
シル等の分校状のアルキル基が挙げられる。なかでも、
直鎖状で炭素数が１〜８のアルキル基、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル、オク
チルが好ましい。
Ｑｌ、Ｑ、Ｑ３で示されるカルボン酸エステル結合とし
ては、 −Ｃ−０−なる順エステル結合と一〇−Ｃ−なる逆エス
テル結合とを挙げることができる。
ては、 −Ｃ−０−なる順エステル結合と一〇−Ｃ−なる逆エス
テル結合とを挙げることができる。
Ｑ 〜Ｑ３の各秤結合のうち、好ましいものとしてＱｌ
が単結合またはエーテル結合、Ｑ２がエーテル結合また
は類エステル、逆エステル、Ｑ３がエーテル結合を挙げ
ることができる。
が単結合またはエーテル結合、Ｑ２がエーテル結合また
は類エステル、逆エステル、Ｑ３がエーテル結合を挙げ
ることができる。
また、ＸＳＹで示されるカルボン酸エステル結合として
は、 −Ｃ−０なる順エステル結合と一〇−Ｃ−なる逆エステ
ル結合とを、またメチレンオキシ結合としでは、−ＣＨ
２０−なる結合と一〇〇Ｈ２−なる結合とを挙げること
ができる。
は、 −Ｃ−０なる順エステル結合と一〇−Ｃ−なる逆エステ
ル結合とを、またメチレンオキシ結合としでは、−ＣＨ
２０−なる結合と一〇〇Ｈ２−なる結合とを挙げること
ができる。
さらに、（）、（σ、ル）で示される六員１ｍ−１，４
−ジイル基はパラ位に２本の結合手を有する基を意味し
、このようなものとして、具体的には、例えばｐ−フェ
ニレン、１．４−シクロヘキシレン、２．５− （１，
３−ジオキサン）ジイル、２，５−ピリジンジイル、２
，５−ピリミジンジイル、２．５− （１，４−ピラジ
ン）ジイル、３．６− （１，２−ピリダジン）ジイル
等を挙げることができ、これらの環はハロゲン、シアノ
、メチル、メトキシで置換されていてもよい。
−ジイル基はパラ位に２本の結合手を有する基を意味し
、このようなものとして、具体的には、例えばｐ−フェ
ニレン、１．４−シクロヘキシレン、２．５− （１，
３−ジオキサン）ジイル、２，５−ピリジンジイル、２
，５−ピリミジンジイル、２．５− （１，４−ピラジ
ン）ジイル、３．６− （１，２−ピリダジン）ジイル
等を挙げることができ、これらの環はハロゲン、シアノ
、メチル、メトキシで置換されていてもよい。
っていてもよい。
好ましい組合わせとしてＸ１Ｙのいずれか一方が単結合
で、他方がカルボン酸エステル結合であつエニレンであ
るものを挙げることができる。また合わせとしてＸが単
結合またはカルボン１％ｌＴステ工二しンであるものを
挙げることができる。
で、他方がカルボン酸エステル結合であつエニレンであ
るものを挙げることができる。また合わせとしてＸが単
結合またはカルボン１％ｌＴステ工二しンであるものを
挙げることができる。
これら化合物（Ｉ＞は、分子内に２個の不斉炭素原子を
有しており、このため４種の光学異性体、すなわち（Ｒ
，Ｒ）、（Ｒ，Ｓ）、（Ｓ、Ｒ）および（Ｓ、Ｓ）型が
存在する。
有しており、このため４種の光学異性体、すなわち（Ｒ
，Ｒ）、（Ｒ，Ｓ）、（Ｓ、Ｒ）および（Ｓ、Ｓ）型が
存在する。
本発明の光学活性化合物（Ｉ）は、不斉炭素原子が、酸
素またはカルボニルに結合した構造をなしているため、
一般に高い自発分極を示す。また、化合物の大部分は、
強誘電性を利用する表示方式に適した液晶相、すなわち
カイラルスメクチックＣ（ＳＣ＊）相を示すとともに、
その温度域が低温で広いという特徴を有している。
素またはカルボニルに結合した構造をなしているため、
一般に高い自発分極を示す。また、化合物の大部分は、
強誘電性を利用する表示方式に適した液晶相、すなわち
カイラルスメクチックＣ（ＳＣ＊）相を示すとともに、
その温度域が低温で広いという特徴を有している。
また本発明の光学活性化合物は、熱、光、水分、空気に
対して極めて安定である。このため本願化合物を液晶材
料として実用に供する際、過熱防止装置の設置や＠湿・
透湿を防止するためのガラスフリットシール等の煩雑な
手間を省くことができる。
対して極めて安定である。このため本願化合物を液晶材
料として実用に供する際、過熱防止装置の設置や＠湿・
透湿を防止するためのガラスフリットシール等の煩雑な
手間を省くことができる。
本発明の光学活性化合物（Ｉ）は、従来公知の液晶化合
物、例えばシッフ塩基系、ビフェニル系、フェニルシク
ロヘキサン系、複素環系の液晶化合物との相溶性に優れ
ているため、これらの液晶化合物に配合することにより
、優れた特性を示す液晶組成物とすることができる。
物、例えばシッフ塩基系、ビフェニル系、フェニルシク
ロヘキサン系、複素環系の液晶化合物との相溶性に優れ
ているため、これらの液晶化合物に配合することにより
、優れた特性を示す液晶組成物とすることができる。
本発明の光学活性化合物（Ｉ）を配合することのできる
液晶化合物としては、例えば強誘電性液晶化合物または
スメクチックＣ相を示す液晶化合物を挙げることができ
る。強誘電性液晶化合物としては、例えば特開昭５９−
１１８７４４、同６０−１３７２９号公報に記載された
ビフェニル型液晶、特開昭５９−１２８３５７、同６０
−５１１４７、同６１−２２０５１、同６１−２４９９
５３号公報に記載されたエステル型液晶、特開昭６０−
２６０５６４、同６１−２４７５６、同６１−８５３６
８、同６１−２１５３７３号公報に記載されたピリミジ
ン型液晶等を挙げることができる。またスメクチックＣ
相を示す液晶化合物としては、例えば特開昭６２−２２
８０３６号公報に記載されたエステル型の液晶化合物、
第１６回フライブルダ液晶討論会（１９８６，３，２１
）および第１回強誘電性液晶に関する国際シンポジウム
（１９８７，９，２１）の各資料に記載されているシク
ロヘキサン型および複素環型液晶等を挙げることができ
る。
液晶化合物としては、例えば強誘電性液晶化合物または
スメクチックＣ相を示す液晶化合物を挙げることができ
る。強誘電性液晶化合物としては、例えば特開昭５９−
１１８７４４、同６０−１３７２９号公報に記載された
ビフェニル型液晶、特開昭５９−１２８３５７、同６０
−５１１４７、同６１−２２０５１、同６１−２４９９
５３号公報に記載されたエステル型液晶、特開昭６０−
２６０５６４、同６１−２４７５６、同６１−８５３６
８、同６１−２１５３７３号公報に記載されたピリミジ
ン型液晶等を挙げることができる。またスメクチックＣ
相を示す液晶化合物としては、例えば特開昭６２−２２
８０３６号公報に記載されたエステル型の液晶化合物、
第１６回フライブルダ液晶討論会（１９８６，３，２１
）および第１回強誘電性液晶に関する国際シンポジウム
（１９８７，９，２１）の各資料に記載されているシク
ロヘキサン型および複素環型液晶等を挙げることができ
る。
また、本発明の強誘電性液晶化合物は、ｒＦｌｕｓｓｉ
ｏｅ Ｋｒ１ｓｔａｌｌｅ ｉｎ ＴａｂｅｌｌｅｎＪ
Ｉ ＆ ＩＩＶＥ８ Ｖｅｒｌａｇ、 Ｌｅｉｐ
ｚｉｇに述べられているネマチック液晶、コレスデリッ
ク液晶などに配合することも可能であり、重版のどのよ
うなネマチック液晶化合物との混合も可能である。ネマ
チック液晶に配合する場合、本発明の強誘電性液晶化合
物のキラリティを利用すれば良く、配合機によってネマ
チック液晶組成物のコレステリックピッチのねじれの方
向やピッチの長さを自由にυＩｔ［ｌＬ得る。
ｏｅ Ｋｒ１ｓｔａｌｌｅ ｉｎ ＴａｂｅｌｌｅｎＪ
Ｉ ＆ ＩＩＶＥ８ Ｖｅｒｌａｇ、 Ｌｅｉｐ
ｚｉｇに述べられているネマチック液晶、コレスデリッ
ク液晶などに配合することも可能であり、重版のどのよ
うなネマチック液晶化合物との混合も可能である。ネマ
チック液晶に配合する場合、本発明の強誘電性液晶化合
物のキラリティを利用すれば良く、配合機によってネマ
チック液晶組成物のコレステリックピッチのねじれの方
向やピッチの長さを自由にυＩｔ［ｌＬ得る。
本発明の光学活性化合物（Ｉ）は次に示すいくつかの方
法により製造することができる。
法により製造することができる。
（第１法） １式（Ｉ）中、骨格成分とジキラル側鎖成
分との結合（Ｑ２）が類エステル 結合 Ｉ （−Ｃ−０−）の揚合］ 上記図式に示すように、基本骨格カルボン酸（Ｉｔ）と
光学活性なジキラル２級アルコール（Ｉ）とから化合物
（Ｉ）を得ることができる。本綜合反応は公知の慣用な
方法で実施できる。すなわち、基本骨格カルボンＭ（Ｉ
Ｉ）と光学活性なジキラル２級アルコール（Ｉ［［）と
をプロトン酸存在下、有機溶媒中脱水綜合反応に付すこ
とにより化合物（Ｉ）を製造できる。本綜合反応で使用
できる有機溶媒とは、例えば、ヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン等の炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類（クロロ
ホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、１．２−ジクロロ
エタン等）、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラジ、ジオキサン等）、酢酸エチル、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド等があげられる。
分との結合（Ｑ２）が類エステル 結合 Ｉ （−Ｃ−０−）の揚合］ 上記図式に示すように、基本骨格カルボン酸（Ｉｔ）と
光学活性なジキラル２級アルコール（Ｉ）とから化合物
（Ｉ）を得ることができる。本綜合反応は公知の慣用な
方法で実施できる。すなわち、基本骨格カルボンＭ（Ｉ
Ｉ）と光学活性なジキラル２級アルコール（Ｉ［［）と
をプロトン酸存在下、有機溶媒中脱水綜合反応に付すこ
とにより化合物（Ｉ）を製造できる。本綜合反応で使用
できる有機溶媒とは、例えば、ヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン等の炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類（クロロ
ホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、１．２−ジクロロ
エタン等）、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラジ、ジオキサン等）、酢酸エチル、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド等があげられる。
かくして製造された目的光学活性化合物（Ｉ）は通常の
分離精製手段（抽出、転溶、カラムクロマトグラフィー
、液体クロマトグラフィー、再結晶、分別結晶等）によ
り反応況合物から甲離精製することができる。また、基
本骨格カルボン酸（ｎ）を塩化チオニル、臭化チオニル
等で酸ハロゲン化物とし、水晶を適当な有ｎ溶媒中光学
活性ジキラル２級アルコール（１）とピリジン、トリエ
チルアミンなどの有機塩基存在下に冷時、室温または加
熱条件下で数時間、場合によっては数日間エステル化反
応に付し、通常の分離精製操作を行ない、高純度の目的
光学活性化合物（Ｉ）を得ることができる。
分離精製手段（抽出、転溶、カラムクロマトグラフィー
、液体クロマトグラフィー、再結晶、分別結晶等）によ
り反応況合物から甲離精製することができる。また、基
本骨格カルボン酸（ｎ）を塩化チオニル、臭化チオニル
等で酸ハロゲン化物とし、水晶を適当な有ｎ溶媒中光学
活性ジキラル２級アルコール（１）とピリジン、トリエ
チルアミンなどの有機塩基存在下に冷時、室温または加
熱条件下で数時間、場合によっては数日間エステル化反
応に付し、通常の分離精製操作を行ない、高純度の目的
光学活性化合物（Ｉ）を得ることができる。
また、本綜合反応は上述の方法以外の公知の縮合方法、
例えばＮ、Ｎ’ −ジシクロへギシル力ルポジイミド（
ＤＣＣ）、１−メチル−２−へ〇ピリジニウムアイオダ
イドで代表される自由試薬、アゾジカルボン酸のジエチ
ルエステル とトリフェニルフォスフイン（光風試薬）またはトリフ
ェニルフオスフインジブロミド等の活性化試薬を用いる
方法や骨格カルボン酸（…）を塩化チオニル、臭化チオ
ニル等で酸ハロゲン化物とし、本酸ハロゲン化物を触媒
ｍのルイス酸（例えば、塩化亜鉛）存在下光学活性ジキ
ラル２級アルコール（ＩＩＩ）のトリメチルシリルエー
テル体と綜合させる方法等を適宜選択して実施しても良
い。
例えばＮ、Ｎ’ −ジシクロへギシル力ルポジイミド（
ＤＣＣ）、１−メチル−２−へ〇ピリジニウムアイオダ
イドで代表される自由試薬、アゾジカルボン酸のジエチ
ルエステル とトリフェニルフォスフイン（光風試薬）またはトリフ
ェニルフオスフインジブロミド等の活性化試薬を用いる
方法や骨格カルボン酸（…）を塩化チオニル、臭化チオ
ニル等で酸ハロゲン化物とし、本酸ハロゲン化物を触媒
ｍのルイス酸（例えば、塩化亜鉛）存在下光学活性ジキ
ラル２級アルコール（ＩＩＩ）のトリメチルシリルエー
テル体と綜合させる方法等を適宜選択して実施しても良
い。
（第２法） ［式（Ｉ）中、骨格成分とジキラル成分と
の結合（Ｑ２）がエーテル結合 （−０−）の場合］ ＬＩＬＬＩ 】 （式中ＲＳＲ、Ｒ、Ｒ、Ｑ 、Ｑ３、Ｍおよび傘印は
前記と同意味を示す。なお、式ＶにおいてＺはハロゲン
原子、有機スルホニルオキシ基等を示す。） 基本骨格アルコールまたはフェノール注水１！２基化合
物（ＩＶ）と光学活性ジキラル２級アルコール（ＩＩＩ
）との公知の縮合反応によっても化合物（Ｉ）を（ｑる
ことができる。例えば、上述の７ゾジカルボン酸ジエチ
ルエステル（ＤＥＡＤ）とトリフェニルフォスフイン（
Ｐｈ３Ｐ）を用いる縮合反応又は、ジキラル２級アルコ
ール（ＩＩＩ）を有機スルホニルクロリドとピリジンや
トリエチルアミン等の有機塩基又は水素化ナトリウム等
の無機塩基存在下適当な有機溶媒中反応させて対応する
有機スルホン酸エステルとし、水晶を基本骨格フェノー
ル注水Ｗｉ基化合物またはアルコール（ＩＶ）と炭酸カ
リウム、水素化ナトリウム等の無機塩基や有機強塩基の
存在下でエーテル化反応を実施できる。
の結合（Ｑ２）がエーテル結合 （−０−）の場合］ ＬＩＬＬＩ 】 （式中ＲＳＲ、Ｒ、Ｒ、Ｑ 、Ｑ３、Ｍおよび傘印は
前記と同意味を示す。なお、式ＶにおいてＺはハロゲン
原子、有機スルホニルオキシ基等を示す。） 基本骨格アルコールまたはフェノール注水１！２基化合
物（ＩＶ）と光学活性ジキラル２級アルコール（ＩＩＩ
）との公知の縮合反応によっても化合物（Ｉ）を（ｑる
ことができる。例えば、上述の７ゾジカルボン酸ジエチ
ルエステル（ＤＥＡＤ）とトリフェニルフォスフイン（
Ｐｈ３Ｐ）を用いる縮合反応又は、ジキラル２級アルコ
ール（ＩＩＩ）を有機スルホニルクロリドとピリジンや
トリエチルアミン等の有機塩基又は水素化ナトリウム等
の無機塩基存在下適当な有機溶媒中反応させて対応する
有機スルホン酸エステルとし、水晶を基本骨格フェノー
ル注水Ｗｉ基化合物またはアルコール（ＩＶ）と炭酸カ
リウム、水素化ナトリウム等の無機塩基や有機強塩基の
存在下でエーテル化反応を実施できる。
なお、ここでいう有機スルホニルクロリドとは、例えば
ｐ−トルエンスルホン酸クロリド、０−トルエンスルホ
ン酸クロリド、ｐ−クロルベンゼンスルホン酸クロリド
、ベンゼンスルホン酸クロリド、α−ナフタリンスルホ
ン酸クロリド、β−ナフタリンスルホン酸り０リド等の
芳香環スルホン酸クロリド、メタンスルホン酸クロリド
、トリフルオロメタンスルホン酸クロリド等が挙げられ
る。
ｐ−トルエンスルホン酸クロリド、０−トルエンスルホ
ン酸クロリド、ｐ−クロルベンゼンスルホン酸クロリド
、ベンゼンスルホン酸クロリド、α−ナフタリンスルホ
ン酸クロリド、β−ナフタリンスルホン酸り０リド等の
芳香環スルホン酸クロリド、メタンスルホン酸クロリド
、トリフルオロメタンスルホン酸クロリド等が挙げられ
る。
また、本エーテル化反応で使用される有機溶媒とは、炭
化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類（ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、酢
酸エチル、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、ジメ
チルボルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（
ＤＭｓｏ）、ヘキサメチルリン酸ドリアミド（ＨＭＰＡ
）等があげられる。また、光学活性ジキラル２級アルコ
ール（ＩＩＩ）の活性化には上述の有機スルホン酸エス
テル化による方法のほかに、ハロゲン体へ変換させる方
法もある。光学活性ジキラル２級アルコール（ＤＩ）の
ハロゲン体への変換には前述の有機スルホン酸エステル
にハロゲン化金属塩（例えばヨウ化ナトリ１クム、ヨウ
化カリウム等）を作用させる方法、ジキラル２級アルコ
ール（■）に直接塩化チオニル、臭化チオニル等のハロ
ゲン化剤を作用させる方法がある。かくして合成された
ジキラル２級アルコール（Ｉ）に対応するハロゲン体を
基本骨格フェノール注水ａｌｌ基化合物またはアルコー
ル（ＩＶ）と炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機
塩基や有機強塩基の存在下有機溶媒中エーテル化反応を
実施できる。かくしてＩＩＩされた目的のエーテル化合
物（Ｉ）は通常の分離精製手段（抽出、転溶、カラムク
ロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、再結晶等
）により反応混合物から＊ｓｉ精製することができる。
化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類（ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、酢
酸エチル、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、ジメ
チルボルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（
ＤＭｓｏ）、ヘキサメチルリン酸ドリアミド（ＨＭＰＡ
）等があげられる。また、光学活性ジキラル２級アルコ
ール（ＩＩＩ）の活性化には上述の有機スルホン酸エス
テル化による方法のほかに、ハロゲン体へ変換させる方
法もある。光学活性ジキラル２級アルコール（ＤＩ）の
ハロゲン体への変換には前述の有機スルホン酸エステル
にハロゲン化金属塩（例えばヨウ化ナトリ１クム、ヨウ
化カリウム等）を作用させる方法、ジキラル２級アルコ
ール（■）に直接塩化チオニル、臭化チオニル等のハロ
ゲン化剤を作用させる方法がある。かくして合成された
ジキラル２級アルコール（Ｉ）に対応するハロゲン体を
基本骨格フェノール注水ａｌｌ基化合物またはアルコー
ル（ＩＶ）と炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機
塩基や有機強塩基の存在下有機溶媒中エーテル化反応を
実施できる。かくしてＩＩＩされた目的のエーテル化合
物（Ｉ）は通常の分離精製手段（抽出、転溶、カラムク
ロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、再結晶等
）により反応混合物から＊ｓｉ精製することができる。
以上、本発明の液晶エステル化合物および液晶エーテル
化合物（Ｉ）の代表的製造方法について述べたが、本発
明の液晶化合物（Ｉ）の製造法はこれら基本骨格化合物
（■または■）と光学活性ジキラル２″ｌ＆アル］−ル
＜ｍ＞または光学活性ジキラル誘導体（Ｖ）とを縮合さ
せる方法に限定されるものではない。例えば、光学活性
ジキラル成分を含む基本骨格の−・部アルコールやフェ
ノール注水８１基化合物と他の骨格成分のカルボン酸又
はフェノール性水酸基化合物との綜合反応や光学活性ジ
キラル成分を含む基本骨格の一部カルボン酸又はフェノ
ール性水酸基化合物と他の骨格成分のアルコール、フェ
ノール性水酸基化合物との縮合反応によっても実施でき
る。
化合物（Ｉ）の代表的製造方法について述べたが、本発
明の液晶化合物（Ｉ）の製造法はこれら基本骨格化合物
（■または■）と光学活性ジキラル２″ｌ＆アル］−ル
＜ｍ＞または光学活性ジキラル誘導体（Ｖ）とを縮合さ
せる方法に限定されるものではない。例えば、光学活性
ジキラル成分を含む基本骨格の−・部アルコールやフェ
ノール注水８１基化合物と他の骨格成分のカルボン酸又
はフェノール性水酸基化合物との綜合反応や光学活性ジ
キラル成分を含む基本骨格の一部カルボン酸又はフェノ
ール性水酸基化合物と他の骨格成分のアルコール、フェ
ノール性水酸基化合物との縮合反応によっても実施でき
る。
なお、本発明液晶化合物（Ｉ）の重要なジキラル成分の
原料である光学活性なジキラルアルコール類（ＩＩＩ）
や光学活性なジキラル誘導体（Ｖ）は試薬として容易に
入手できる光学活性ジキラル化合物から誘導でき、また
化学的な方法による不斉合成、酵素や微生物を用いる生
物学的方法による不斉合成、又光学分割の手法によって
も得ることができる。以上のようにして得られた光学活
性なジキラル２級アルコール類（ＩＩＩ）は化学的方法
や生物学的方法により、不斉炭素上の立体配置を反転さ
せ、他の光学異性体へ変換することができる。
原料である光学活性なジキラルアルコール類（ＩＩＩ）
や光学活性なジキラル誘導体（Ｖ）は試薬として容易に
入手できる光学活性ジキラル化合物から誘導でき、また
化学的な方法による不斉合成、酵素や微生物を用いる生
物学的方法による不斉合成、又光学分割の手法によって
も得ることができる。以上のようにして得られた光学活
性なジキラル２級アルコール類（ＩＩＩ）は化学的方法
や生物学的方法により、不斉炭素上の立体配置を反転さ
せ、他の光学異性体へ変換することができる。
例えば、光学活性２級アルコールの水酸基の反転の代表
的方法として、水ｗ１基を有機スルホン酸エステルとし
たのち、分子間求核置換反応に付して反転させる方法や
光学活性２級アルコールを塩化第１銅存在下Ｎ、Ｎ’
−ジシクロへキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）により活
性化し適当なカルボン酸を作用させて反転させる方法や
光学活性２級アルコールにアゾジカルボン酸のジエチル
エステル（ＤＥＡＤ）と］・リフェニルフオスフィン（
Ｐｈ３Ｐ）および適当なカルボン酸を作用させて反転さ
せる方法などが知られている。
的方法として、水ｗ１基を有機スルホン酸エステルとし
たのち、分子間求核置換反応に付して反転させる方法や
光学活性２級アルコールを塩化第１銅存在下Ｎ、Ｎ’
−ジシクロへキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）により活
性化し適当なカルボン酸を作用させて反転させる方法や
光学活性２級アルコールにアゾジカルボン酸のジエチル
エステル（ＤＥＡＤ）と］・リフェニルフオスフィン（
Ｐｈ３Ｐ）および適当なカルボン酸を作用させて反転さ
せる方法などが知られている。
本発明の光学活性化合物（Ｉ）の重要なジキラル成分の
原料である光学活性を有するジキラルアルコール類（Ｉ
ＩＩ）は新規化合物であって第１に次式で示されるＱ３
がエーテル結合である化合物がその典型例としてあげら
れる。
原料である光学活性を有するジキラルアルコール類（Ｉ
ＩＩ）は新規化合物であって第１に次式で示されるＱ３
がエーテル結合である化合物がその典型例としてあげら
れる。
２ Ｒ３
（Ｒ４は直鎖または分枝の炭素数１〜１０のアルキル基
を、Ｒ１及びＲ３は炭素数１〜３の低級アルキル基を示
す） 次ぎにその典型的例としてＲ２及びＲ３が共にＣＨ３で
ある化合物、即ち、光学活性４−アルキルオキシ−３−
メチル−２−ブタノール類について例挙する。
を、Ｒ１及びＲ３は炭素数１〜３の低級アルキル基を示
す） 次ぎにその典型的例としてＲ２及びＲ３が共にＣＨ３で
ある化合物、即ち、光学活性４−アルキルオキシ−３−
メチル−２−ブタノール類について例挙する。
Ｒ４が直鎖状の炭素数１〜１０のアルキル基のものとし
ては、光学活性４−メトキシ−３−メチル−２−ブタノ
ール、４−エトキシ−３−メチル−２−ブタノール、４
−ブＯポキシー３−メチルー２−ブタノール、４−ブト
キシ−３−メチル２−ブタノール、４−ペンチルオキシ
−３−メチル−２−ブタノール、４−へキシルオキシ−
３メチル−２−ブタノール、４−へブチルオキシ３−メ
チル−２・−ブタノール、４−オクチルオキシ−３−メ
チル−２−ブタノール、４−ノニルオキシ−３−メチル
−２−ブタノール、４−デシルオキシ−３−メチル−２
−ブタノール等が含まれる。
ては、光学活性４−メトキシ−３−メチル−２−ブタノ
ール、４−エトキシ−３−メチル−２−ブタノール、４
−ブＯポキシー３−メチルー２−ブタノール、４−ブト
キシ−３−メチル２−ブタノール、４−ペンチルオキシ
−３−メチル−２−ブタノール、４−へキシルオキシ−
３メチル−２−ブタノール、４−へブチルオキシ３−メ
チル−２・−ブタノール、４−オクチルオキシ−３−メ
チル−２−ブタノール、４−ノニルオキシ−３−メチル
−２−ブタノール、４−デシルオキシ−３−メチル−２
−ブタノール等が含まれる。
また、Ｒ４が分校状の炭素数１〜１０のアルキル基のも
のとしては、光学活性４−イソプロポキシ−３−メチル
−２−ブタノール、４−イソブトキシ−３−メチル−２
−ブタノール、４− ｔｅｒｔブトキシ−３−メチル−
２−ブタノール、４−（２−メチルペンチルオキシ）−
３−メチル−２−ブタノール、４−（３−メチルペンチ
ルオキシ）−３−メチル−２−ブタノール等が含まれる
が、なかでも炭素数３〜６の直鎖状のアルキル基、すな
わち、４−プロポキシ−３−メチル−２−ブタノール、
４−ブトキシ−３−メチル−２−ブタノール、４−ペン
チルオキシ−３−メチル−２−ブタノール、４−へキシ
ルオキシ−３−メチル−２−ブタノールが好ましい。
のとしては、光学活性４−イソプロポキシ−３−メチル
−２−ブタノール、４−イソブトキシ−３−メチル−２
−ブタノール、４− ｔｅｒｔブトキシ−３−メチル−
２−ブタノール、４−（２−メチルペンチルオキシ）−
３−メチル−２−ブタノール、４−（３−メチルペンチ
ルオキシ）−３−メチル−２−ブタノール等が含まれる
が、なかでも炭素数３〜６の直鎖状のアルキル基、すな
わち、４−プロポキシ−３−メチル−２−ブタノール、
４−ブトキシ−３−メチル−２−ブタノール、４−ペン
チルオキシ−３−メチル−２−ブタノール、４−へキシ
ルオキシ−３−メチル−２−ブタノールが好ましい。
また、第２に次式で示されるＣ３が類カルボン酸エステ
ル結合である光学活性なジキラル２級アルコール類（Ｉ
ＩＩ）が挙げられる。
ル結合である光学活性なジキラル２級アルコール類（Ｉ
ＩＩ）が挙げられる。
２ Ｒ３
（Ｒ４は直鎖または分校の炭素数１〜１０のアルキル基
を、Ｒ２及びＲ３はＣ１〜Ｃ３の低級アルキル基を示す
） この場合においても、Ｒ及びＲ３が共にＣＨ３である化
合物、即ち、光学活性４−ヒドロキシ−３−メチルペン
タン酸エステルについて例示する。
を、Ｒ２及びＲ３はＣ１〜Ｃ３の低級アルキル基を示す
） この場合においても、Ｒ及びＲ３が共にＣＨ３である化
合物、即ち、光学活性４−ヒドロキシ−３−メチルペン
タン酸エステルについて例示する。
より具体的には、光学活性４−ヒト０キシ−３−メチル
ペンタン酸メチルニスアル、光学活性４−ヒドロキシ−
３−メチルペンタン酸エチルエステル、光学活性４−ヒ
ドロキシ−３−メチルペンタン酸プロピルエステル、光
学活性４−ヒドロキシ−３−メチルペンタン酸ブチルエ
ステル、光学活性４−ヒトＯキシー３〜メチルペンタン
酸ペンチルエステル、光学活性４−ヒドロキシ−３−メ
チルペンタン酸ヘキシルエステル、光学活性４ヒドロキ
シ−３−メチルペンタン酸へブチルエステル、光学活性
４−ヒト０キシ−３−メチルペンタン酸オクチルエステ
ル、光学活性４−ヒドロキシ−３−メチルペンタン酸ノ
ニルエステル、光学活性４−ヒドロキシ−３−メチルペ
ンタン酸デシルエステル及び同酸のＣ３〜Ｃ１ｏの分枝
アルコールのエステル等が含まれる。なかでも炭素数３
〜６の直鎖状のアルキル基、すなわち光学活性４−ヒド
ロキシ−３−メチルペンタン酸プロピルエステル、４−
ヒドロキシ−３−メチルペンタン酸ブチエステル、４−
ヒドロキシ−３−メチルペンタン酸ペンチルエステル、
４−ヒドロキシ−３メチルペンタン酸ヘキシルエステル
が好ましい。
ペンタン酸メチルニスアル、光学活性４−ヒドロキシ−
３−メチルペンタン酸エチルエステル、光学活性４−ヒ
ドロキシ−３−メチルペンタン酸プロピルエステル、光
学活性４−ヒドロキシ−３−メチルペンタン酸ブチルエ
ステル、光学活性４−ヒトＯキシー３〜メチルペンタン
酸ペンチルエステル、光学活性４−ヒドロキシ−３−メ
チルペンタン酸ヘキシルエステル、光学活性４ヒドロキ
シ−３−メチルペンタン酸へブチルエステル、光学活性
４−ヒト０キシ−３−メチルペンタン酸オクチルエステ
ル、光学活性４−ヒドロキシ−３−メチルペンタン酸ノ
ニルエステル、光学活性４−ヒドロキシ−３−メチルペ
ンタン酸デシルエステル及び同酸のＣ３〜Ｃ１ｏの分枝
アルコールのエステル等が含まれる。なかでも炭素数３
〜６の直鎖状のアルキル基、すなわち光学活性４−ヒド
ロキシ−３−メチルペンタン酸プロピルエステル、４−
ヒドロキシ−３−メチルペンタン酸ブチエステル、４−
ヒドロキシ−３−メチルペンタン酸ペンチルエステル、
４−ヒドロキシ−３メチルペンタン酸ヘキシルエステル
が好ましい。
また、第３に次式で示されるＣ３が逆カルボン酸エステ
ル結合である光学活性なジキラル２級アルコール類（Ｉ
ＩＩ）が挙げられる。
ル結合である光学活性なジキラル２級アルコール類（Ｉ
ＩＩ）が挙げられる。
２ Ｒ３
（Ｒ４は直鎖または分枝の炭素数１〜１０のアルキル基
を、Ｒ及びＲ３はＣ１〜Ｃ３の低級アルキル基を示す） Ｒ２及びＲ３が共にＣｌ−１３の化合物、即ち光学活性
アルキルカルボン酸の３−ヒドロキシ−２メチルブチル
エステルについて以Ｆに例挙する。
を、Ｒ及びＲ３はＣ１〜Ｃ３の低級アルキル基を示す） Ｒ２及びＲ３が共にＣｌ−１３の化合物、即ち光学活性
アルキルカルボン酸の３−ヒドロキシ−２メチルブチル
エステルについて以Ｆに例挙する。
具体的には、光学活性酢Ｆｌ１３−ヒドロキシー２−メ
チルプヂルエステル、光学活性プロピオン酸３−ヒドロ
キシ−２−メチルブチルエステル、光学活性酪１Ｉ３−
ヒドロキシ−２−メチルブチルエステル、光学活性ペン
タン酸３−ヒドロキシ−２−メチルブチルエステル、光
学活性ヘキサン１３−ヒドロキシ−２−メチルブチルエ
ステル、光学活性へブタン酸３−ヒドロキシー２−メチ
ルブチルエステル、光学活性オクタンｌ！［１１３−ヒ
トＯキシ＝２−メチルブチルエステル、光学活性４−ノ
ナン鍍３−ヒドロキシー２−メチルブチルエステル、光
学活性デカン酸３−ヒトＯキシ−２−メチルブチルエス
テル、光学活性ウンデカンＩ！１３−ヒトＤキシ−２−
メチルブチルエステルが含まれる。また、Ｒ４が分校状
の炭素数１〜１０のアルキル基の場合、光学活性２−メ
チルプロピオンＮ３−ヒドロキシ−２−メチルブチルエ
ステル、光学活性３−メチルＦ［３−ヒドロキシ−２−
メチルブチルエステル、光学活性２．２−ジメチルプロ
ピオン１３−ヒドロキシ−２−メチルブチルエステル等
が含まれる。
チルプヂルエステル、光学活性プロピオン酸３−ヒドロ
キシ−２−メチルブチルエステル、光学活性酪１Ｉ３−
ヒドロキシ−２−メチルブチルエステル、光学活性ペン
タン酸３−ヒドロキシ−２−メチルブチルエステル、光
学活性ヘキサン１３−ヒドロキシ−２−メチルブチルエ
ステル、光学活性へブタン酸３−ヒドロキシー２−メチ
ルブチルエステル、光学活性オクタンｌ！［１１３−ヒ
トＯキシ＝２−メチルブチルエステル、光学活性４−ノ
ナン鍍３−ヒドロキシー２−メチルブチルエステル、光
学活性デカン酸３−ヒトＯキシ−２−メチルブチルエス
テル、光学活性ウンデカンＩ！１３−ヒトＤキシ−２−
メチルブチルエステルが含まれる。また、Ｒ４が分校状
の炭素数１〜１０のアルキル基の場合、光学活性２−メ
チルプロピオンＮ３−ヒドロキシ−２−メチルブチルエ
ステル、光学活性３−メチルＦ［３−ヒドロキシ−２−
メチルブチルエステル、光学活性２．２−ジメチルプロ
ピオン１３−ヒドロキシ−２−メチルブチルエステル等
が含まれる。
他方、本発明の光学活性化合物の骨格成分の涼料である
骨格カルボンｌ類は一般式■、より具体的には■′およ
び■”で示されるが、以下具体的に説明する。
骨格カルボンｌ類は一般式■、より具体的には■′およ
び■”で示されるが、以下具体的に説明する。
（■′ ）
式（■′）中においてＲ１が直鎖または分枝の炭素数３
〜１４のアルキル基、Ｑｌが単結合またはエーテル結合
、Ｘ、Ｙがエステル結合（−Ｃ−０−または−〇−Ｃ−
）又は単結合、下記の化合物が骨格カルボン酸（Ｉ）と
して具体的に例示される。すなわち、４− （４’ −
アルキルオキシ又はアルキル−４−ビフェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸、４− （４’ −アルキルオキシ
又はアルキル−４−ビフェニルオキシカルボニル）安息
香酸、４’−（４−フルキルオキシ又はアルキルフェニ
ルカルボニルオキシ）−４−ビフェニルカルボンｌ、４
’ −（４−アルキルオキシ又はアルキルフェニルオキ
シカルボニル）−４＝ビフェニルカルボン キルオキシ又はアルキル）フェニルカルボニルオキシ］
フェニルカルボニルオキシ］安息香耐、４− ［４−
［４− （アルキルオキシ又はアルキル）フェニルオキ
シカルボニル］フェニルカルボニルオキシ１安急香酸、
４− ［４− ［４− （アルキルオキシ又はアルキル
）フェニルオキシカルボニル］フェニルオキシカルボニ
ル１安息香酸、４−［４−［４−（アルキルオキシ又は
アルキル）フェニルカルボニルオキシ］フェニルオギシ
力ルボニル］安息香酸等がある。また、式（ＩＩ″）中
、Ｒ１が直鎖または分校の炭素数３〜１４のアルキル基
、Ｑｌは単結合またはエーテル結合、Ｘがエステル結合 （−Ｃ−０−または−〇−Ｃ−）又は単結合、カルボン
酸として下記が挙げられる。すなわち、４′−アルキル
オキシ又はアルキル−４−ビフェニルカルボン酸、４−
［４− （アルキルオキシ又はアルキル）フェニルカ
ルボニルオキシ］安息香酸、４− ［４− （アルキル
オキシ又はアルキル）フェニルオキシカルボニル］安息
香酸があげられる。また、これら以外の骨格カルボン酸
類（ＩＩ）の典型例としては、例えば、４″−フルキル
オキシ（又はアルキル）−４−ターフェニルカルボン酸
、４’−（トランス−４−アルキルオキシ又はアルキル
シク０ヘキシルカルボニルオキシ＝ビフエニルカルボン
酸、トランス−４−（４’アルキルオキシ又はアルキル
−４−ビフェニルカルボニルオキシ）シクＯヘキシルカ
ルボン酸、２− ［４− （４−アルキルオキシ又はア
ルキルフェニルカルボニルオキシ）フェニル］ピリミジ
ニルー５ーカルボン酸、２− （４’ −アルキルオキ
シ−５−カルボン酸、４’−（５−アルキルオキシ又は
アルキルピリミジニル−２−オキシカルボニル）ビフェ
ニル−４−カルボン酸、４’−［２（５−アルキルオキ
シ又はアルキル−２（ピリジル）エチル１ビフェニル−
４−カルボン酸、４−［４−（トランス−５−フルキル
オキシ又はアルキル−１．３−ジオキサン−２−イル）
フェニルカルボニルオキシ］安息香酸、４’−［４−（
トランス−５−アルキルオキシ又はアルキル−１。
〜１４のアルキル基、Ｑｌが単結合またはエーテル結合
、Ｘ、Ｙがエステル結合（−Ｃ−０−または−〇−Ｃ−
）又は単結合、下記の化合物が骨格カルボン酸（Ｉ）と
して具体的に例示される。すなわち、４− （４’ −
アルキルオキシ又はアルキル−４−ビフェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸、４− （４’ −アルキルオキシ
又はアルキル−４−ビフェニルオキシカルボニル）安息
香酸、４’−（４−フルキルオキシ又はアルキルフェニ
ルカルボニルオキシ）−４−ビフェニルカルボンｌ、４
’ −（４−アルキルオキシ又はアルキルフェニルオキ
シカルボニル）−４＝ビフェニルカルボン キルオキシ又はアルキル）フェニルカルボニルオキシ］
フェニルカルボニルオキシ］安息香耐、４− ［４−
［４− （アルキルオキシ又はアルキル）フェニルオキ
シカルボニル］フェニルカルボニルオキシ１安急香酸、
４− ［４− ［４− （アルキルオキシ又はアルキル
）フェニルオキシカルボニル］フェニルオキシカルボニ
ル１安息香酸、４−［４−［４−（アルキルオキシ又は
アルキル）フェニルカルボニルオキシ］フェニルオギシ
力ルボニル］安息香酸等がある。また、式（ＩＩ″）中
、Ｒ１が直鎖または分校の炭素数３〜１４のアルキル基
、Ｑｌは単結合またはエーテル結合、Ｘがエステル結合 （−Ｃ−０−または−〇−Ｃ−）又は単結合、カルボン
酸として下記が挙げられる。すなわち、４′−アルキル
オキシ又はアルキル−４−ビフェニルカルボン酸、４−
［４− （アルキルオキシ又はアルキル）フェニルカ
ルボニルオキシ］安息香酸、４− ［４− （アルキル
オキシ又はアルキル）フェニルオキシカルボニル］安息
香酸があげられる。また、これら以外の骨格カルボン酸
類（ＩＩ）の典型例としては、例えば、４″−フルキル
オキシ（又はアルキル）−４−ターフェニルカルボン酸
、４’−（トランス−４−アルキルオキシ又はアルキル
シク０ヘキシルカルボニルオキシ＝ビフエニルカルボン
酸、トランス−４−（４’アルキルオキシ又はアルキル
−４−ビフェニルカルボニルオキシ）シクＯヘキシルカ
ルボン酸、２− ［４− （４−アルキルオキシ又はア
ルキルフェニルカルボニルオキシ）フェニル］ピリミジ
ニルー５ーカルボン酸、２− （４’ −アルキルオキ
シ−５−カルボン酸、４’−（５−アルキルオキシ又は
アルキルピリミジニル−２−オキシカルボニル）ビフェ
ニル−４−カルボン酸、４’−［２（５−アルキルオキ
シ又はアルキル−２（ピリジル）エチル１ビフェニル−
４−カルボン酸、４−［４−（トランス−５−フルキル
オキシ又はアルキル−１．３−ジオキサン−２−イル）
フェニルカルボニルオキシ］安息香酸、４’−［４−（
トランス−５−アルキルオキシ又はアルキル−１。
３−ジオキサン−２−イル）］］ビフェニルー４カルボ
ン酸２− ［４− （４−アルキルオキシはアルキルフ
ェニルカルボニルオキシ）フェニル］ピラジニルー５ー
カルボンｆｌ１２、２− （４’ −アルキルオキシ又
はアルキル−４−ビフェニル）ピラジニル−５−カルボ
ン酸、４’−（５−アルキルオキシ又はアルキルピラジ
ニル−２−オキシカルボニル）ビフェニル−４−カルボ
ン酸等が具体的にあげられる。
ン酸２− ［４− （４−アルキルオキシはアルキルフ
ェニルカルボニルオキシ）フェニル］ピラジニルー５ー
カルボンｆｌ１２、２− （４’ −アルキルオキシ又
はアルキル−４−ビフェニル）ピラジニル−５−カルボ
ン酸、４’−（５−アルキルオキシ又はアルキルピラジ
ニル−２−オキシカルボニル）ビフェニル−４−カルボ
ン酸等が具体的にあげられる。
一方、本発明の液晶化合物の骨格成分の原料である骨格
アルコール又はフェノール注水ＭＩＳ化合物は一般弐■
、より具体的には■′および■“Ｒ１−０１舎ｘ舎叶（
Ｉｖ″） で示される。骨格アルコール又はフェノール性水酸塞化
合物は、上述のカルボン酸類のアルコール又は水Ｉ！基
誘導体で、カルボキシ基を水Ｗｉ基で置換したものであ
る。具体的には、４′ −アルキルオキシ又はアルキル
ビフェニル−４−カルボン酸の４−ヒドロキシフェニル
エステル、４′−ヒドロキシ安息香酸の４′−アルキル
オキシ又はアルキル−４−ビフェニルエステル、４−ア
ルキルオキシ又はアルキル安息香酸の４′−ヒドロキシ
４−ビフェニルニスデル、４′−ビトロキシビフ工二ル
ー４−カルボン哉の４−アルキルオキシ又はアルキルフ
ェニルエステル、トランス−４−アルキルオキシ又はア
ルキルシクロヘキサンカルボンル、４′−アルキルオキ
シ又はアルキル−４−ビフェニルカルボン シクロへキシルニスデル、４−アルキルオキシ又はアル
キル安息香酸の４−（５−ヒトＤキシー２ーピリミジニ
ル）フェニルエステル、２− （４’−アルキルオキシ
又はアルキル−４−ビフェニル）ピリミジン−５−オー
ル、４′−ヒドロキシ−４−ビフェニルカルボン酸の５
−アルキルオキシ又はアルキル−２−ピリジニルエステ
ル、４′［２− （５−アルキルオキシ又はアルキル−
２−ピリジル）エチル１ビフェニル−４−オール、４−
［４− （トランス−５−フルキルオキシ又はアルキ
ル−１．３−ジオキサン−２−コイル）１安息香酸の４
−ヒドロキシフェニルエステル、４′−ヒドロキシ−４
−ビフェニルカルボン酸の５−フルキルオキシ又は５−
アルキル−２−ピラジニルエステル等が具体例としてあ
げられる。
アルコール又はフェノール注水ＭＩＳ化合物は一般弐■
、より具体的には■′および■“Ｒ１−０１舎ｘ舎叶（
Ｉｖ″） で示される。骨格アルコール又はフェノール性水酸塞化
合物は、上述のカルボン酸類のアルコール又は水Ｉ！基
誘導体で、カルボキシ基を水Ｗｉ基で置換したものであ
る。具体的には、４′ −アルキルオキシ又はアルキル
ビフェニル−４−カルボン酸の４−ヒドロキシフェニル
エステル、４′−ヒドロキシ安息香酸の４′−アルキル
オキシ又はアルキル−４−ビフェニルエステル、４−ア
ルキルオキシ又はアルキル安息香酸の４′−ヒドロキシ
４−ビフェニルニスデル、４′−ビトロキシビフ工二ル
ー４−カルボン哉の４−アルキルオキシ又はアルキルフ
ェニルエステル、トランス−４−アルキルオキシ又はア
ルキルシクロヘキサンカルボンル、４′−アルキルオキ
シ又はアルキル−４−ビフェニルカルボン シクロへキシルニスデル、４−アルキルオキシ又はアル
キル安息香酸の４−（５−ヒトＤキシー２ーピリミジニ
ル）フェニルエステル、２− （４’−アルキルオキシ
又はアルキル−４−ビフェニル）ピリミジン−５−オー
ル、４′−ヒドロキシ−４−ビフェニルカルボン酸の５
−アルキルオキシ又はアルキル−２−ピリジニルエステ
ル、４′［２− （５−アルキルオキシ又はアルキル−
２−ピリジル）エチル１ビフェニル−４−オール、４−
［４− （トランス−５−フルキルオキシ又はアルキ
ル−１．３−ジオキサン−２−コイル）１安息香酸の４
−ヒドロキシフェニルエステル、４′−ヒドロキシ−４
−ビフェニルカルボン酸の５−フルキルオキシ又は５−
アルキル−２−ピラジニルエステル等が具体例としてあ
げられる。
以上、本発明の光学活性化合物に含有される骨格カルボ
ン酸類（ＩＩ）ならびに骨格フェノール注水ａ基化合物
および骨格アルコール類（ＩＶ）を、また本発明の光学
活性化合物に含有される光学活性ジキラル側鎖成分の原
料である光学活性なジキラルアルコール類（Ｉｌｌ）の
代表例を列挙した。本発明の光学活性化合物（Ｉ）はこ
れら骨格成分と光学活性ジキラル成分とを適宜組合せる
ことにより製造されるが、本発明の光学活性化合物（Ｉ
）の性質は光学活性ジキラル成分に依存しており、特に
上述の列挙した例に限定されるものではない。
ン酸類（ＩＩ）ならびに骨格フェノール注水ａ基化合物
および骨格アルコール類（ＩＶ）を、また本発明の光学
活性化合物に含有される光学活性ジキラル側鎖成分の原
料である光学活性なジキラルアルコール類（Ｉｌｌ）の
代表例を列挙した。本発明の光学活性化合物（Ｉ）はこ
れら骨格成分と光学活性ジキラル成分とを適宜組合せる
ことにより製造されるが、本発明の光学活性化合物（Ｉ
）の性質は光学活性ジキラル成分に依存しており、特に
上述の列挙した例に限定されるものではない。
本発明の光学活性化合物を配合した強誘電性液晶組成物
の自発分極の値が大きいのは、光学活性化合物が２個の
不斉炭素を有し、しかもそれらが化学構造上隣接してい
るためと考える。
の自発分極の値が大きいのは、光学活性化合物が２個の
不斉炭素を有し、しかもそれらが化学構造上隣接してい
るためと考える。
［実施例］
以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明す
る。
る。
実施例１
４’ − ［ （ＩＲ．２８）−３−メトキシ−１。
２−ジメチルプロボギシ１ー４ービフェニルカルボン酸
４−オクチルオキシフェニルエステル（式４式％ ２−ブタノールの製造 本化合物は、次の経路により製造できる。
４−オクチルオキシフェニルエステル（式４式％ ２−ブタノールの製造 本化合物は、次の経路により製造できる。
ｉｌ （２Ｓ．３Ｓ）−４−メトキシ−３−メチル出
発原料である（２Ｒ，３８）−３−ヒドロキシ−２−メ
チル酪酸エチルエステルは、文献既知の方法［ＲＪ、！
−１ｏｆｍａｎ ｅｔ ａｌ、、 Ｃｈｅｉ＋、 Ｂｅ
ｒ、 １１４．２７８６（１９８１）］により、得る
ことができる。すなわち、２−メチル−３−オキソ酪酸
エチルニスデルのパン酵母を用いる不斉還元により、目
的物とそのジアステレオマーである（２Ｓ。
発原料である（２Ｒ，３８）−３−ヒドロキシ−２−メ
チル酪酸エチルエステルは、文献既知の方法［ＲＪ、！
−１ｏｆｍａｎ ｅｔ ａｌ、、 Ｃｈｅｉ＋、 Ｂｅ
ｒ、 １１４．２７８６（１９８１）］により、得る
ことができる。すなわち、２−メチル−３−オキソ酪酸
エチルニスデルのパン酵母を用いる不斉還元により、目
的物とそのジアステレオマーである（２Ｓ。
３３）−３−ヒト０キシ−２−メチル醋酸エチルエステ
ルが、生成比（８２：１８）〜（８７：１３）で得られ
た。以後の実施例においてこの混合物をそのまま使用し
、骨格化合物と縮合して得られる最終化合物をカラムク
ロマトグラフィー、再結晶等の精製操作に付し、単一ジ
アステレオマーを得た。
ルが、生成比（８２：１８）〜（８７：１３）で得られ
た。以後の実施例においてこの混合物をそのまま使用し
、骨格化合物と縮合して得られる最終化合物をカラムク
ロマトグラフィー、再結晶等の精製操作に付し、単一ジ
アステレオマーを得た。
すなわち（２Ｒ，３３）−３−ヒドロキシ−２メチル酪
酸エチルエステルを多く含む粗製物２０．０９．３．４
−ジヒドロ−α−ピラン１２．７９をクロ０ホルム５０
ｄに溶解し、混合物を水冷下でｐ−トルエンスルホン酸
２０旬を加え、混合物を水冷下で７時間かき況ぜた。反
応液を飽和重そう水で洗浄し、有Ｂ１層を乾燥、濃縮し
た。
酸エチルエステルを多く含む粗製物２０．０９．３．４
−ジヒドロ−α−ピラン１２．７９をクロ０ホルム５０
ｄに溶解し、混合物を水冷下でｐ−トルエンスルホン酸
２０旬を加え、混合物を水冷下で７時間かき況ぜた。反
応液を飽和重そう水で洗浄し、有Ｂ１層を乾燥、濃縮し
た。
残留物をカラムクロマトグラフィー［シリカゲル、）１
！開溶媒：ｎ−ヘキサン−酢酸エチル９：１）］で分離
、精製して（２Ｒ，３８）−２−メチル−３−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）酪酸エチルエステル２２．
０９を得た。これをエーテル２００−に溶解し、水冷下
で水素化リチウムアルミニウム２．４７ｇを少量ずつ加
え、水冷下で５時間かきＵぜた。反応液に順次水、１５
％水酸化ナトリウム水ＷＪＨ及び水を加え、不溶物をろ
去した。ろ液を減圧下で濃縮しく２８．３８）−２−メ
チル−３−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ブタノ
ール１７．（ｌを得た。この化合？５７．ｏｙ、ヨウ化
メチル２６．４ｇをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５０
ｍに溶解し、水冷下で、油性水素化ナトリウム（含量約
６０％）１．６４３を少量ずつ加え、混合物を水冷下で
２時間かき混ぜた。反応液を酢酸エチル２００Ｉｄに注
ぎ込み、かき混ぜた。
！開溶媒：ｎ−ヘキサン−酢酸エチル９：１）］で分離
、精製して（２Ｒ，３８）−２−メチル−３−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）酪酸エチルエステル２２．
０９を得た。これをエーテル２００−に溶解し、水冷下
で水素化リチウムアルミニウム２．４７ｇを少量ずつ加
え、水冷下で５時間かきＵぜた。反応液に順次水、１５
％水酸化ナトリウム水ＷＪＨ及び水を加え、不溶物をろ
去した。ろ液を減圧下で濃縮しく２８．３８）−２−メ
チル−３−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ブタノ
ール１７．（ｌを得た。この化合？５７．ｏｙ、ヨウ化
メチル２６．４ｇをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５０
ｍに溶解し、水冷下で、油性水素化ナトリウム（含量約
６０％）１．６４３を少量ずつ加え、混合物を水冷下で
２時間かき混ぜた。反応液を酢酸エチル２００Ｉｄに注
ぎ込み、かき混ぜた。
不溶物をろ去し、ろ液を水洗（３回）した。有８Ｎ層を
乾燥、濃縮し、残留物を減圧下でクーゲル蒸留すること
により、（２Ｓ、３Ｓ）−４−メトキシ−３−メチル−
２−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ブタン６．０
３ｇを得た。これをメタノール１５０ａｌｔに溶解し、
これに非水系強酸性カチオン交換樹脂（アンバーリスト
１５）６．０７を加え、室温で２時間かき混ぜた。使用
したカチオン交換樹脂をろ去し、ろ液を濃縮し残留物を
減圧蒸留（ｂ、ｐ、５６〜ｂ ことにより、（２８，３８）−４−メトキシ−３メチル
−２−ブタノール２．５４ｇを得た。
乾燥、濃縮し、残留物を減圧下でクーゲル蒸留すること
により、（２Ｓ、３Ｓ）−４−メトキシ−３−メチル−
２−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ブタン６．０
３ｇを得た。これをメタノール１５０ａｌｔに溶解し、
これに非水系強酸性カチオン交換樹脂（アンバーリスト
１５）６．０７を加え、室温で２時間かき混ぜた。使用
したカチオン交換樹脂をろ去し、ろ液を濃縮し残留物を
減圧蒸留（ｂ、ｐ、５６〜ｂ ことにより、（２８，３８）−４−メトキシ−３メチル
−２−ブタノール２．５４ｇを得た。
この化合物の’Ｈ−ＮＭＲ，ＩＲスペクトルデータを次
に示す。
に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ 、 ＣＤＣｌ３
）δ：０．８９ （３Ｈ，ｄ）、１．２５ （３Ｈ
。
）δ：０．８９ （３Ｈ，ｄ）、１．２５ （３Ｈ
。
ｄ）、１．４〜１．７ （ＩＨ，ｍ） 、２．６８（Ｉ
Ｈ，Ｉ））、３．２５〜３．５０ （５Ｎ、ｍ）、３．
７０〜４．１０ （ＩＨ，ｍ） ｎｅａｔ 〜１゜ Ｉ Ｒυ 、 、 ３４２Ｇ、１７４０．１
４６０．１２Ｇ０，１１１０゜慨ａＸ
１０２０ ｉｉ） 縮合反応 ｉ）で製造した（２８．３８）−４−メトキシ−３−メ
チル−２・−ブタノール０．４９．４′−ヒドロキシ−
４−ごフェニルカルボン！１４−オクチルオキシフェニ
ルエステル１．Ｏｃｔ、）−リフェニルホスフィン１，
２５９を乾燥テトラヒドロフラン３５威に溶解し、アゾ
ジカルボン酸ジエチル０．８５ｇを滴下した。混合物を
室温で約１時聞かき混ぜた後、減圧下で濃縮した。残留
物をカラムクロマトグラフィー［シリカゲル、展開溶媒
二〇−ヘキサンー酢酸エチル（９：１）］にて分離、精
製した後、酢酸エチル−メタノールから再結晶して０．
２５ｇの表題化合物を得た。
Ｈ，Ｉ））、３．２５〜３．５０ （５Ｎ、ｍ）、３．
７０〜４．１０ （ＩＨ，ｍ） ｎｅａｔ 〜１゜ Ｉ Ｒυ 、 、 ３４２Ｇ、１７４０．１
４６０．１２Ｇ０，１１１０゜慨ａＸ
１０２０ ｉｉ） 縮合反応 ｉ）で製造した（２８．３８）−４−メトキシ−３−メ
チル−２・−ブタノール０．４９．４′−ヒドロキシ−
４−ごフェニルカルボン！１４−オクチルオキシフェニ
ルエステル１．Ｏｃｔ、）−リフェニルホスフィン１，
２５９を乾燥テトラヒドロフラン３５威に溶解し、アゾ
ジカルボン酸ジエチル０．８５ｇを滴下した。混合物を
室温で約１時聞かき混ぜた後、減圧下で濃縮した。残留
物をカラムクロマトグラフィー［シリカゲル、展開溶媒
二〇−ヘキサンー酢酸エチル（９：１）］にて分離、精
製した後、酢酸エチル−メタノールから再結晶して０．
２５ｇの表題化合物を得た。
この化合物の１Ｈ−ＮＭＲ，ＩＲスペクトルデータ、元
素分析値を次に示す。
素分析値を次に示す。
１ＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ −ＣＤＣｌ２ ＞δ： １．
００ （３Ｈ，ｔ）、１．０４ （３Ｈ。
００ （３Ｈ，ｔ）、１．０４ （３Ｈ。
ｄ） 、 １． ０９ 〜１． ５０
（１３ト１ 、 ｍ ）１、 ６０〜２． ０ （
２Ｈ，ｍ）、 １． ９０〜２．４０（ＩＨ，ｍ）
３．２５〜３．６０（５Ｈ，ｍ） 、４．００
（２Ｈ，ｔ＞ 、４． ５３（１）１．ｔｄ）、６．
８９〜Ｂ、２８ （１２）−１゜ｍ） にＢ「 ＩＲυ ｃｍ−１： １７４０．１６１０．１５２０
．８３０．７７０ａＸ 元素分析値 計算値（Ｃ３３Ｈ４２０５として） ：Ｃ，７６，４２：Ｈ，８，１６ 実測値 ：Ｃ，７６、５９；Ｈ，８，２６ 実施例２ ４−オクチルオキシ安息香酸４’−［（１Ｒ。
（１３ト１ 、 ｍ ）１、 ６０〜２． ０ （
２Ｈ，ｍ）、 １． ９０〜２．４０（ＩＨ，ｍ）
３．２５〜３．６０（５Ｈ，ｍ） 、４．００
（２Ｈ，ｔ＞ 、４． ５３（１）１．ｔｄ）、６．
８９〜Ｂ、２８ （１２）−１゜ｍ） にＢ「 ＩＲυ ｃｍ−１： １７４０．１６１０．１５２０
．８３０．７７０ａＸ 元素分析値 計算値（Ｃ３３Ｈ４２０５として） ：Ｃ，７６，４２：Ｈ，８，１６ 実測値 ：Ｃ，７６、５９；Ｈ，８，２６ 実施例２ ４−オクチルオキシ安息香酸４’−［（１Ｒ。
２３）−３−メトキシ−１，２−ジメチルプロポキシ］
−４−ビフェニルエステル（式（■′）において、Ｒが
ｎ−ＣＨ１Ｒ、Ｒ、Ｒ４ がＣＨ１Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３が一〇−１ｘがＹが 実施例１、ｉ）で製造した（２Ｓ、３Ｓ）−４−メトキ
シ−３−メチル−２−ブタノール０．４９．４−オクチ
ルオキシ安息香？ｌＩ４’ −ヒドロキシ−４−ビフェ
ニルエステル１．０ｇから実施例１．１１）と同様の方
法で７１ｑの表題化合物を得た。
−４−ビフェニルエステル（式（■′）において、Ｒが
ｎ−ＣＨ１Ｒ、Ｒ、Ｒ４ がＣＨ１Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３が一〇−１ｘがＹが 実施例１、ｉ）で製造した（２Ｓ、３Ｓ）−４−メトキ
シ−３−メチル−２−ブタノール０．４９．４−オクチ
ルオキシ安息香？ｌＩ４’ −ヒドロキシ−４−ビフェ
ニルエステル１．０ｇから実施例１．１１）と同様の方
法で７１ｑの表題化合物を得た。
この化合物の元素分析値を次に示す。
元素分析値
計算値（Ｃ３３Ｈ４２０５として）
：Ｃ，７６，４２：Ｈ，８，１６
実測値
：Ｃ，７６，５６：Ｈ，８，２６
実施例３
４− ［（１Ｒ，２８）−３−メトキシ−１，２ジメチ
ルプロポキシ］安息香酸４′−オクチルオキシ−４−ビ
フェニルエステル（式（１′）においてＲがｎ ＣＨ
Ｒ、Ｒ、Ｒ４が １８１１箋 ２３ ＣＨ、Ｑ 、Ｑ 、Ｑ３が−０−１Ｘが単結合、の
）の製造 実施例１、ｉ）で製造した（２８．３８）−４メトキシ
−３−メチル−２−１タノール０．４ｇ、４−ヒドロキ
シ安息香酸４′−オクチルオキシ４−ビフェニルエステ
ル１．０９から実施例１．１１）と同様の方法で０．５
０ｇの表題化合物を得た。
ルプロポキシ］安息香酸４′−オクチルオキシ−４−ビ
フェニルエステル（式（１′）においてＲがｎ ＣＨ
Ｒ、Ｒ、Ｒ４が １８１１箋 ２３ ＣＨ、Ｑ 、Ｑ 、Ｑ３が−０−１Ｘが単結合、の
）の製造 実施例１、ｉ）で製造した（２８．３８）−４メトキシ
−３−メチル−２−１タノール０．４ｇ、４−ヒドロキ
シ安息香酸４′−オクチルオキシ４−ビフェニルエステ
ル１．０９から実施例１．１１）と同様の方法で０．５
０ｇの表題化合物を得た。
この化合物の元素分析値を次に示す。
元素分析値
計算値（Ｃ３３Ｈ４２０５として）
：Ｃ，７６、４２；Ｈ，８，１６
実測値
：Ｃ，７６，３９： ト１． ８． ２１実施例
４ ４− ［（Ｉ Ｒ，２Ｓ） −３−メトキシ−１，２ジ
メチルプロポキシ］安息香８４−Ａクチルオギシフェニ
ルエステル（式（Ｉ”）において、Ｒ１がｎ−ＣＨＲ、
Ｒ、ＲがＣＨ３， ８１７’２３４ Ｑ 、Ｑ２、Ｑ３が一〇−１ｘが がＣＨ１Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３が一〇−１Ｘが造 実施例１、ｉ）で製造した（２８．３８）−４−メトキ
シ−３−メチル−２−１タノール０．４５９．４−ヒド
ロキシ安息香酸４−オクチルオキシフェニルエステル１
．０ｇから実施例１ 、ｉｉｌと同様の方法で０．３４
ｇの表題化合物を得た。
４ ４− ［（Ｉ Ｒ，２Ｓ） −３−メトキシ−１，２ジ
メチルプロポキシ］安息香８４−Ａクチルオギシフェニ
ルエステル（式（Ｉ”）において、Ｒ１がｎ−ＣＨＲ、
Ｒ、ＲがＣＨ３， ８１７’２３４ Ｑ 、Ｑ２、Ｑ３が一〇−１ｘが がＣＨ１Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３が一〇−１Ｘが造 実施例１、ｉ）で製造した（２８．３８）−４−メトキ
シ−３−メチル−２−１タノール０．４５９．４−ヒド
ロキシ安息香酸４−オクチルオキシフェニルエステル１
．０ｇから実施例１ 、ｉｉｌと同様の方法で０．３４
ｇの表題化合物を得た。
この化合物の元素分析値を次に示す。
元素分析値
計粋値（Ｃ２７Ｈ３８０５として）
：Ｃ，７３，２７： ト１． ８． ６５実測値
：Ｃ，７３，５５：Ｈ，８，７２
実施例５
４−［（Ｉ Ｒ，２８）−３−メトキシ−１，２−ジメ
チルプロポキシ−４’−（４−オクチルオキシベンジル
オキシ）ごフェニル（式（１′）におイテ、Ｒがｎ−Ｃ
Ｉ−Ｉ Ｒ、Ｒ、Ｒ４１８１７’２３ 実施例１、ｉ）で製造した（２Ｓ、３Ｓ）−４−メトキ
シ−３−メチル−２−ブタノール０．２８９．４−ヒド
ロキシ−４’−（４−オクチルオキシベンジルオキシ）
ビフェニル０．８ｇから実施例１ 、ｉｉ）と同様の方
法で７０１１１９の表題化合物を得た。
チルプロポキシ−４’−（４−オクチルオキシベンジル
オキシ）ごフェニル（式（１′）におイテ、Ｒがｎ−Ｃ
Ｉ−Ｉ Ｒ、Ｒ、Ｒ４１８１７’２３ 実施例１、ｉ）で製造した（２Ｓ、３Ｓ）−４−メトキ
シ−３−メチル−２−ブタノール０．２８９．４−ヒド
ロキシ−４’−（４−オクチルオキシベンジルオキシ）
ビフェニル０．８ｇから実施例１ 、ｉｉ）と同様の方
法で７０１１１９の表題化合物を得た。
この化合物の元素分析値を次に示す。
元素分析値
計算値（０３３Ｈ４４０４として）
：Ｃ，７８，５３： ト１． ８． ７９実測値
：Ｃ，７８，４９： ト１． ８． ６８実施例
６ ４− ［（ＩＲ，２８）−３−ブトキシ−１，２−ジメ
チルプロポキシ］−４−ビフェニルカルボン１４−オク
チルオキシフェニルエステル（式１式％ −２−１タノールの製造 本化合物は、次の経路により製造できる。
６ ４− ［（ＩＲ，２８）−３−ブトキシ−１，２−ジメ
チルプロポキシ］−４−ビフェニルカルボン１４−オク
チルオキシフェニルエステル（式１式％ −２−１タノールの製造 本化合物は、次の経路により製造できる。
実施例１、ｉ）で製造した（２８．３８）−２−メチル
−３−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ブタノール
５．０ｇ、コラ化ブチル２４．５９をＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド４０ｍに溶解した。
−３−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ブタノール
５．０ｇ、コラ化ブチル２４．５９をＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド４０ｍに溶解した。
この溶液に水冷下で油性水素化ナトリウム（含有的６０
％）１．２２５７を少量ずつ加え、混合物を水冷下で２
時間かき混ぜた。反応液を解酸エチル３００ｄに注ぎ込
み、かき混ぜた。不溶物をろ去し、ろ液を水洗（３回）
した。有機層は、乾燥、濃縮した。残留物として得られ
た粗（２８，３８）４−１トキシー３−メチル−２−（
２−テトラヒドロピラニルオキシ）ブタノールをメタノ
ール１５０＃Ｉｉ！に溶解し、これに非水系強酸性カチ
オン交換樹［１（アンバーリスト１５）６．（ｌを加え
、室温で６時間かき混ぜた。使用したカチオン交換樹脂
をろ去し、ろ液を濃縮した。残留物を減圧下でクーゲル
蒸留することにより、（２８，３８）〜４−ブトキシ−
３−メチル−２−ブタノール２．５４ｇを得た。
％）１．２２５７を少量ずつ加え、混合物を水冷下で２
時間かき混ぜた。反応液を解酸エチル３００ｄに注ぎ込
み、かき混ぜた。不溶物をろ去し、ろ液を水洗（３回）
した。有機層は、乾燥、濃縮した。残留物として得られ
た粗（２８，３８）４−１トキシー３−メチル−２−（
２−テトラヒドロピラニルオキシ）ブタノールをメタノ
ール１５０＃Ｉｉ！に溶解し、これに非水系強酸性カチ
オン交換樹［１（アンバーリスト１５）６．（ｌを加え
、室温で６時間かき混ぜた。使用したカチオン交換樹脂
をろ去し、ろ液を濃縮した。残留物を減圧下でクーゲル
蒸留することにより、（２８，３８）〜４−ブトキシ−
３−メチル−２−ブタノール２．５４ｇを得た。
この化合物の’Ｈ−ＮＭＲデータを次に示す。
’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＨＨｚ 、 ＣＤＣＪ３
）δ： ０．８０〜０．９８ （６Ｎ、ｍ）、１
．１２〜１．２４ （５Ｈ，ｍ）、１．４０〜１．９
５ （３Ｈ，ｍ） 、２．３８ （ｉｔ−１，ｂ）
、３ 、 ３５〜３． ４ ２ （４Ｎ、
ｍ） 、 ３． ８０ 〜４、 １５ （ｍ
、 Ｉ Ｎ） ｉｉ） 縮合反応 ｉ）で製造した（２８．３３）−４−ブトキシ−３−メ
チル−２−ブタノール０．５９．４′ヒトＯキシ−４−
ビフェニルカルボン酸４−オクチルオキシフェニルエス
テル１．０ｇから実施例１ 、ｉｉ）と同様の方法で０
．２１ｇの表題化合物を得た。
）δ： ０．８０〜０．９８ （６Ｎ、ｍ）、１
．１２〜１．２４ （５Ｈ，ｍ）、１．４０〜１．９
５ （３Ｈ，ｍ） 、２．３８ （ｉｔ−１，ｂ）
、３ 、 ３５〜３． ４ ２ （４Ｎ、
ｍ） 、 ３． ８０ 〜４、 １５ （ｍ
、 Ｉ Ｎ） ｉｉ） 縮合反応 ｉ）で製造した（２８．３３）−４−ブトキシ−３−メ
チル−２−ブタノール０．５９．４′ヒトＯキシ−４−
ビフェニルカルボン酸４−オクチルオキシフェニルエス
テル１．０ｇから実施例１ 、ｉｉ）と同様の方法で０
．２１ｇの表題化合物を得た。
この化合物の１ト１−ＮＭＲ，ＩＲスペクトルデータ、
元素分析値を次に示す。
元素分析値を次に示す。
’ＨＮＭＲ（９０ＨＩＩｚ 、 ＣＤＣＪ３ ）δ ：
０．８３ 〜１． ０９ （９Ｈ，ｍ）１．２５〜
１．６０ （１５Ｈ，ｍ） 、１．６０〜１．９２（４
Ｈ，ｍ＞ １．９５〜２．３０＜ＩＨ，ｍ） 、３
．４２ （２Ｈ，ｄ）、３．４０（２Ｈ，ｔ）、３．９
６ （２Ｈ，ｔ）、４．２５〜４． ７０ （ＩＨ
，ｍ） 、６．８６〜８． ２５（１２Ｈ，ｍ） Ｂｒ ＩＲυ ｃｍ −’ ： １７４Ｇ、 １６１０．１
５１５ａＸ 元素分析値 計算値（０３６Ｈ４８０，とじて） ：Ｃ，７７，１１：Ｈ，８，６３ 実測値 ：Ｃ，７７、２６；Ｈ，８，５５ 実施例７ ４− ［（ＩＲ，２Ｓ）−３−ブトキシ−１，２ジメチ
ルプロポキシ１安息香Ｍ４’ −オクチルオキシ−４−
ビフェニルエステル（式（１′）において、Ｒがｎ−Ｃ
Ｈ、Ｒ、Ｒ３が ＣＨ，Ｒがｎ−ＣＨ、Ｑｌ、Ｑ２、Ｑ３が−０−１Ｘが
単結合、Ｙが の）の製造 実施例６、ｉ）テ製造した（２８．３８）−４−ブトキ
シ−３−メチル−２−ブタノール０．４９．４−ヒドロ
キシ安息香酸４′−オクチルオキシ−４−ごフェニルエ
ステル１．０ｇから実施例１、ｉｉ）と同様の方法で０
．２５ｇの表題化合物を青だ。
０．８３ 〜１． ０９ （９Ｈ，ｍ）１．２５〜
１．６０ （１５Ｈ，ｍ） 、１．６０〜１．９２（４
Ｈ，ｍ＞ １．９５〜２．３０＜ＩＨ，ｍ） 、３
．４２ （２Ｈ，ｄ）、３．４０（２Ｈ，ｔ）、３．９
６ （２Ｈ，ｔ）、４．２５〜４． ７０ （ＩＨ
，ｍ） 、６．８６〜８． ２５（１２Ｈ，ｍ） Ｂｒ ＩＲυ ｃｍ −’ ： １７４Ｇ、 １６１０．１
５１５ａＸ 元素分析値 計算値（０３６Ｈ４８０，とじて） ：Ｃ，７７，１１：Ｈ，８，６３ 実測値 ：Ｃ，７７、２６；Ｈ，８，５５ 実施例７ ４− ［（ＩＲ，２Ｓ）−３−ブトキシ−１，２ジメチ
ルプロポキシ１安息香Ｍ４’ −オクチルオキシ−４−
ビフェニルエステル（式（１′）において、Ｒがｎ−Ｃ
Ｈ、Ｒ、Ｒ３が ＣＨ，Ｒがｎ−ＣＨ、Ｑｌ、Ｑ２、Ｑ３が−０−１Ｘが
単結合、Ｙが の）の製造 実施例６、ｉ）テ製造した（２８．３８）−４−ブトキ
シ−３−メチル−２−ブタノール０．４９．４−ヒドロ
キシ安息香酸４′−オクチルオキシ−４−ごフェニルエ
ステル１．０ｇから実施例１、ｉｉ）と同様の方法で０
．２５ｇの表題化合物を青だ。
この化合物の元素分析値を次に示す。
元素分析値
計１３値（０３６Ｈ４８０５として）
：Ｃ，７７，１１；Ｈ，８，６３
実測値
：Ｃ，７７，１５：Ｈ，８，６０
実施例８
４’−（４−１−ランス−ペンチルシクロヘキシル）−
４−ビフェニルカルボン酸（ＩＲ，２８）−３−ブトキ
シ−１，２−ジメチルプロピルエステル（式（１′）に
おいて、Ｒ１がｎ−ｃ５Ｈ１１、Ｒ、ＲがＣＨ、ＲＩｆ
ｉｎ ＣＨ１Ｑ１．ＸＳＹが単結合、Ｑ２が Ｏ 実施例６．１）で製造した（２８．３８）−４−ブトキ
シ−３−メチル−２−ブタノール０．５５９．４’ −
（４−トランス−ペンチルシクロヘキシル）−４−ごフ
ェニルカルボンｍｉ、ｏｇから実施例１ 、ｉｉｌと同
様の方法で０．１８９の表題化合物を得た。
４−ビフェニルカルボン酸（ＩＲ，２８）−３−ブトキ
シ−１，２−ジメチルプロピルエステル（式（１′）に
おいて、Ｒ１がｎ−ｃ５Ｈ１１、Ｒ、ＲがＣＨ、ＲＩｆ
ｉｎ ＣＨ１Ｑ１．ＸＳＹが単結合、Ｑ２が Ｏ 実施例６．１）で製造した（２８．３８）−４−ブトキ
シ−３−メチル−２−ブタノール０．５５９．４’ −
（４−トランス−ペンチルシクロヘキシル）−４−ごフ
ェニルカルボンｍｉ、ｏｇから実施例１ 、ｉｉｌと同
様の方法で０．１８９の表題化合物を得た。
この化合物の元素分析値を次に示す。
元素分析値
計ｎＩｔ１（０３６Ｈ５４０３トシテ）：Ｃ，８０，５
５：Ｈ，１０，１８ 実ｍｓ ：Ｃ，８０，６９； ｌ−１，１０，００実施例９ ヨウ化メチルの代りにヨウ化プロピルを用いて、実施例
１、ｉ）と同様の経路で、（２８，３８）−４−プロポ
キシ−３−メチル−２−ブタノールを得た。ついで、４
′−ヒドロキシ−４−ビフェニルカルボン 縮合反応に付し、本実施例化合物を得た。
５：Ｈ，１０，１８ 実ｍｓ ：Ｃ，８０，６９； ｌ−１，１０，００実施例９ ヨウ化メチルの代りにヨウ化プロピルを用いて、実施例
１、ｉ）と同様の経路で、（２８，３８）−４−プロポ
キシ−３−メチル−２−ブタノールを得た。ついで、４
′−ヒドロキシ−４−ビフェニルカルボン 縮合反応に付し、本実施例化合物を得た。
実施例１０
参考例１で得た（２３．３Ｒ）−４−ブトキシ−３−メ
チル−２−ブタノールと対応づる骨格化合物とを縮合反
応に付し、本実施例化合物をＶｌだ。
チル−２−ブタノールと対応づる骨格化合物とを縮合反
応に付し、本実施例化合物をＶｌだ。
実施例１１〜１８
実施例６、ｉ）で得た（２３．３Ｒ）−４−ブトキシ−
３−メチル−２−ブタノールと対応する骨格化合物とを
縮合反応に付し、それぞれ対応する実施例化合物を１９
だ。
３−メチル−２−ブタノールと対応する骨格化合物とを
縮合反応に付し、それぞれ対応する実施例化合物を１９
だ。
実施例１９および２０
参考例２または３で得た光学活性ジキラル二級アルコー
ルと骨格化合物４−ヒト０キシ−４′ごフェニルカルボ
ン ニルエステルとを縮合反応に付し、それぞれ対応する実
施例化合物を得た。
ルと骨格化合物４−ヒト０キシ−４′ごフェニルカルボ
ン ニルエステルとを縮合反応に付し、それぞれ対応する実
施例化合物を得た。
参考例１。
（２８．３Ｒ）−４−ブトキシ−３−メチル２−ブタノ
ールの製造法 文献［Ｇ．Ｆｒａｔｅｒ ｅｔ ａｌ．、 Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ，工旦、１ ２６９ （１ ９８４）］の
方法に準じて合成した（２８．３８）−３−ヒドロキシ
−２−メチル醋酸メチルエステルを出発原料として下記
経路により表題化合物を得た。
ールの製造法 文献［Ｇ．Ｆｒａｔｅｒ ｅｔ ａｌ．、 Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ，工旦、１ ２６９ （１ ９８４）］の
方法に準じて合成した（２８．３８）−３−ヒドロキシ
−２−メチル醋酸メチルエステルを出発原料として下記
経路により表題化合物を得た。
（２８，３８）−３−ヒトＯキシー２−メチル醋酸メチ
ルエステル６．５ｇ（４９，２ｓｖｉｏｌ）をＣＨＣＪ
３２０ｓｌ！に溶かし、３．４−ジヒドロ−α−ビラン
９．２ｇ（０，１０９−ｏｆ ＞およびｐ−ＴｓＯＨ−
Ｈ２Ｏ６０■を加え、室温で２日間かき混ぜる。反応終
了後、反応液に ＣＨ２Ｃ１０２０ｍを加え、ＮａＨＣＯ３水溶液で洗浄
する。有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮す
る。残留物をクーゲルロール蒸留に付し、対応するテト
ラヒドロピラニルエーテル体８．６４９ （８１，２％
）を得た。本化合物６．９１ｇをエーテル１００ｄに溶
かし、水素化リチウムアルミニウム２．２８９ （６０
ｍｓｏｌ）のけんだく液に水冷下少しづつ加えた。反応
液を５℃以下で約１時間かき混ぜたのち、１２０６０ｄ
を氷冷下かき混ぜながら少しづつ加え過剰の水素化リチ
ウムアルミニウムを分解した。エーテル層をデカンテー
ションにより分取し、乾燥後減圧濃縮して粗（２Ｒ，３
８）−２−メチル−３−テトラヒドロピラニルオキシ−
１−ブタノールを油状物として得た。収ｆｆ１５．５９
ｇ（９８％）。
ルエステル６．５ｇ（４９，２ｓｖｉｏｌ）をＣＨＣＪ
３２０ｓｌ！に溶かし、３．４−ジヒドロ−α−ビラン
９．２ｇ（０，１０９−ｏｆ ＞およびｐ−ＴｓＯＨ−
Ｈ２Ｏ６０■を加え、室温で２日間かき混ぜる。反応終
了後、反応液に ＣＨ２Ｃ１０２０ｍを加え、ＮａＨＣＯ３水溶液で洗浄
する。有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮す
る。残留物をクーゲルロール蒸留に付し、対応するテト
ラヒドロピラニルエーテル体８．６４９ （８１，２％
）を得た。本化合物６．９１ｇをエーテル１００ｄに溶
かし、水素化リチウムアルミニウム２．２８９ （６０
ｍｓｏｌ）のけんだく液に水冷下少しづつ加えた。反応
液を５℃以下で約１時間かき混ぜたのち、１２０６０ｄ
を氷冷下かき混ぜながら少しづつ加え過剰の水素化リチ
ウムアルミニウムを分解した。エーテル層をデカンテー
ションにより分取し、乾燥後減圧濃縮して粗（２Ｒ，３
８）−２−メチル−３−テトラヒドロピラニルオキシ−
１−ブタノールを油状物として得た。収ｆｆ１５．５９
ｇ（９８％）。
１８ ＮＭＲ（９０Ｈ１ｌｚ 、 ＣＤＣＪ３）δ：
０．８９−０．９７ （３Ｈ，ｄ、Ｃａ１３）、１．１
３−１．３１ （３Ｈ，（１，ＣＨ３）、１、 ４−
１． ８ （７Ｈ，ｍ、 Ｔ トＩＰ＞
、 ２． ５６（１ト１． ｔ、 Ｏ
Ｈ） ３． ８ （２Ｈ，ｍ。
０．８９−０．９７ （３Ｈ，ｄ、Ｃａ１３）、１．１
３−１．３１ （３Ｈ，（１，ＣＨ３）、１、 ４−
１． ８ （７Ｈ，ｍ、 Ｔ トＩＰ＞
、 ２． ５６（１ト１． ｔ、 Ｏ
Ｈ） ３． ８ （２Ｈ，ｍ。
ＴＨＰ＞、４．６ （２Ｈ，ｍ、−ＣＨ２−）粗（２Ｒ
，３Ｓ）−２−メチル−３−テトラヒドロピラニルオキ
シ−１−ブタノール１．８８５Ｊ（１０１１０１）のＤ
ＭＦ３０−溶液にｎ−Ｂｕ１１８．４を加え、次いで水
冷下６０％油性ＮａＨ４９を少しづつ注ａ深く加えた。
，３Ｓ）−２−メチル−３−テトラヒドロピラニルオキ
シ−１−ブタノール１．８８５Ｊ（１０１１０１）のＤ
ＭＦ３０−溶液にｎ−Ｂｕ１１８．４を加え、次いで水
冷下６０％油性ＮａＨ４９を少しづつ注ａ深く加えた。
反応液に酢酸エチル３００−を加え、不溶物をろ大した
。ろ液を水洗（１００ａｄ！Ｘ２）Ｌ、乾燥後減圧下で
濃縮し粗１−ブトキシー２−メチルー３−テトラヒドロ
ピラニルオキシブタンを油状物として得た。本粗生成物
をメタノール１５０−に溶かし、アンバーリスト−１５
５ｇを加えてｖ温で２日間かき混ぜた。アンバーリスト
−１５をろ去し、ろ液を減圧上濃縮した。残留物をクー
ゲルロール蒸留に付し表題化合物を油状物として得た。
。ろ液を水洗（１００ａｄ！Ｘ２）Ｌ、乾燥後減圧下で
濃縮し粗１−ブトキシー２−メチルー３−テトラヒドロ
ピラニルオキシブタンを油状物として得た。本粗生成物
をメタノール１５０−に溶かし、アンバーリスト−１５
５ｇを加えてｖ温で２日間かき混ぜた。アンバーリスト
−１５をろ去し、ろ液を減圧上濃縮した。残留物をクー
ゲルロール蒸留に付し表題化合物を油状物として得た。
Ｂ、１１．２２０−”２５０ ℃１５劃ｓ側１ｇ、 収
１に０． ９（１。
１に０． ９（１。
’Ｈ−ＮＭＲ（９ＯＮ＋１２ 、 ＣＤＣ，ｅ３’）δ
：０．７９５−０．９８３ （６Ｈ，ｍ。
：０．７９５−０．９８３ （６Ｈ，ｍ。
ＣＨ３） 、 １． １３−１． ２０
（３Ｈ，ｄ。
（３Ｈ，ｄ。
ＣＨ３）、１．３−１．６ （４Ｈ，ｍ、−ＣＨ２−＞
、１．７−１．９ （ＩＨ，ｍ、 ＣＩＨ）、２．８
７−２．９５ （ＩＨ，ｄ、ＯＨ）、３．３３．５ （
４Ｈ，ｍ、 ＣＨｚ ） 、３，４．３−３、ｓ
（１Ｈ，ｍ、（？Ｈ） 参考例２゜ （２８，３３）−４−ブチリルオキシ−３−メチル−２
−ブタノールの製造法 実施例１．で得た中間体（２３，３３）−２−メチル−
３−テトラヒトＯピラニルＡキシブタノールを出発原料
として下記経路により表題化合物を得た。
、１．７−１．９ （ＩＨ，ｍ、 ＣＩＨ）、２．８
７−２．９５ （ＩＨ，ｄ、ＯＨ）、３．３３．５ （
４Ｈ，ｍ、 ＣＨｚ ） 、３，４．３−３、ｓ
（１Ｈ，ｍ、（？Ｈ） 参考例２゜ （２８，３３）−４−ブチリルオキシ−３−メチル−２
−ブタノールの製造法 実施例１．で得た中間体（２３，３３）−２−メチル−
３−テトラヒトＯピラニルＡキシブタノールを出発原料
として下記経路により表題化合物を得た。
ン
−Ｑ
化合物（２８，３８）−２−メチル−３−テトラヒドロ
ピラニルオキシブタノール３．７８９（０，０２園０１
）をピリジン３０ａｅに溶かし、ブチリルクロリド２．
５６９ （０，０２４１ｏ１ ）を室温で滴下した、室
温で３０分聞かき混ぜたのち、反応液に２Ｎ塩酸を加え
、エーテルで抽出する。
ピラニルオキシブタノール３．７８９（０，０２園０１
）をピリジン３０ａｅに溶かし、ブチリルクロリド２．
５６９ （０，０２４１ｏ１ ）を室温で滴下した、室
温で３０分聞かき混ぜたのち、反応液に２Ｎ塩酸を加え
、エーテルで抽出する。
ニーデル層を水洗、Ｍ Ｑ Ｓ Ｏ４乾燥したのち減圧
下で濃縮する。残留物をクロマト精製に付し、目的物を
得た。収量３．７（１（７１，７％）水晶３．４０９
（０，０１３ｍｏｌ ）をメタノール５〇−に溶かし、
アンバーリスト−１５１０９を加え、室温で一夜かき混
ぜた。アンバーリスト−１５をろ去し、ろ液を減圧濃縮
した。残留物をシリカゲルクロマト精製（ｒＩ＆聞溶ｉ
：クロロホルム）に付し、表題化合物を得た。収ｆｉ１
．５１ｇ（６６，８％）。
下で濃縮する。残留物をクロマト精製に付し、目的物を
得た。収量３．７（１（７１，７％）水晶３．４０９
（０，０１３ｍｏｌ ）をメタノール５〇−に溶かし、
アンバーリスト−１５１０９を加え、室温で一夜かき混
ぜた。アンバーリスト−１５をろ去し、ろ液を減圧濃縮
した。残留物をシリカゲルクロマト精製（ｒＩ＆聞溶ｉ
：クロロホルム）に付し、表題化合物を得た。収ｆｉ１
．５１ｇ（６６，８％）。
参考例３゜
（２８，３８）−３−メチル−４−デシルオキシ−２−
ブタノールの製造法 実施例１で用いた保護基２−テトラヒトＯピラニル基の
かわりにベンジル基を用いて、下記経路により表題化合
物を得た。
ブタノールの製造法 実施例１で用いた保護基２−テトラヒトＯピラニル基の
かわりにベンジル基を用いて、下記経路により表題化合
物を得た。
原料化合物（２８，３８）−３−ベンジルオキシ−２−
メチルブタノール１１．６９ （０，０６−０１）をピ
リジン７０ａｅに溶かし、トシルクロリド１２．６９
（０，０６６ｍｏｌ ）をＶ温−ｃ−カｇ混ぜながら少
しづつ加えた。室温で一夜かき混ぜたのち、ピリジンを
減圧下で留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマト
精製（展開溶媒：クロロホルム）に付し、目的物（２８
，３８）−３−ベンジルオキシ−２−メチル−１−トシ
ルオキシブタンを得た。収量１７．２９ （８２，４％
）。
メチルブタノール１１．６９ （０，０６−０１）をピ
リジン７０ａｅに溶かし、トシルクロリド１２．６９
（０，０６６ｍｏｌ ）をＶ温−ｃ−カｇ混ぜながら少
しづつ加えた。室温で一夜かき混ぜたのち、ピリジンを
減圧下で留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマト
精製（展開溶媒：クロロホルム）に付し、目的物（２８
，３８）−３−ベンジルオキシ−２−メチル−１−トシ
ルオキシブタンを得た。収量１７．２９ （８２，４％
）。
６０％油性ＮａＨＯ，４１９（１０，２６ｇａｏｌ）を
ｎ−ヘキサンで２回洗浄し、ＤＭＳＯ２０ｍｌを加え、
ついでｎ−デシルアルコール１、３５９ （８，６ｎ＋
ｍｏｌ）を少しづつ加え、６０℃で１時間かき混ぜた。
ｎ−ヘキサンで２回洗浄し、ＤＭＳＯ２０ｍｌを加え、
ついでｎ−デシルアルコール１、３５９ （８，６ｎ＋
ｍｏｌ）を少しづつ加え、６０℃で１時間かき混ぜた。
反応液を室温にもどし、上記（２８，３８）−３−ベン
ジルオキシ−２メチル−１−トシルオキシブタン２．０
ｇ（５，７ａ＋ＩＯ＋）を少しづつ加えた。滴下終了後
６０℃で１時間かき混ぜた。冷却後、反応液に水を加え
てニーデルで抽出した。抽出液をＭｏｎｏ４乾燥後減圧
下で濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマドｆｉＩ
！ｊ（展ａｍ媒：クロロホルム）に付し、目的物（２３
，３８）−３−ベンジルオキシ１−デシルオキシ−２−
メチルブタンを得た。
ジルオキシ−２メチル−１−トシルオキシブタン２．０
ｇ（５，７ａ＋ＩＯ＋）を少しづつ加えた。滴下終了後
６０℃で１時間かき混ぜた。冷却後、反応液に水を加え
てニーデルで抽出した。抽出液をＭｏｎｏ４乾燥後減圧
下で濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマドｆｉＩ
！ｊ（展ａｍ媒：クロロホルム）に付し、目的物（２３
，３８）−３−ベンジルオキシ１−デシルオキシ−２−
メチルブタンを得た。
数階ｏ、８０ｇ−（４２％）。本旨０．８０ｇ（２，１
＋５ｏｌ）を２Ｎ塩酸１ＭＩ含有エタノール１０ｄに溶
かし、５％Ｐｄ−００，１ｇを加え、常温、常圧で接触
還元に付した。反応終了後触媒をろ去し、ろ液を減圧下
で濃縮した。残留物をクーゲルロール蒸留に付し表題化
合物を得た。Ｂ、 ０゜２３０℃／ ２０ ＋＋ｎ１ｌ
Ｏ１収最０．５８ｇ（定饋的）。
＋５ｏｌ）を２Ｎ塩酸１ＭＩ含有エタノール１０ｄに溶
かし、５％Ｐｄ−００，１ｇを加え、常温、常圧で接触
還元に付した。反応終了後触媒をろ去し、ろ液を減圧下
で濃縮した。残留物をクーゲルロール蒸留に付し表題化
合物を得た。Ｂ、 ０゜２３０℃／ ２０ ＋＋ｎ１ｌ
Ｏ１収最０．５８ｇ（定饋的）。
以上の実施例で合成した化合物の相転移温度を表１に示
す。
す。
表中、Ｋは結晶相、ＳＣ＊はカイラルスメクチックＣ相
、ＳＡはスメクチックＡ相、Ｎ＊はネマチック相、Ｉｓ
ｏは等方液体相を示し、Ｓは未同定のスメクチック相を
示す。なお、左向きの矢印は冷却時の相転移を示す。ま
た、自発分極の値はＳｃ ＊ −８Ａ （Ｎ＊ ）相
転移温度から１０℃低い温度での値である。
、ＳＡはスメクチックＡ相、Ｎ＊はネマチック相、Ｉｓ
ｏは等方液体相を示し、Ｓは未同定のスメクチック相を
示す。なお、左向きの矢印は冷却時の相転移を示す。ま
た、自発分極の値はＳｃ ＊ −８Ａ （Ｎ＊ ）相
転移温度から１０℃低い温度での値である。
応用例
表１に示す本発明の光学活性化合物を、表２に示す母体
液晶に配合し、自発分極を測定した。結果を表２に併記
するが、自発分極の値は、ＳＣ孝相の上限温度から１０
℃低い一度での値である。
液晶に配合し、自発分極を測定した。結果を表２に併記
するが、自発分極の値は、ＳＣ孝相の上限温度から１０
℃低い一度での値である。
母体液晶Ａ：
表 ２
Ｈ３
更に、厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフィル
ムをスペーサーとし、ポリイミドをスビンコー１−シて
ラビング処理した透明電極付ガラスを用いて作製したセ
ルに、表２に示した組成物のうち最上段に記したものを
封入して液晶素ｆを作〈 １ つた。この素子に室温下で４０ Ｖ 、−、の１０Ｈｚ
矩形波を印加し、偏光顕微鏡下で観察した所、良好な光
学的応答を観測できた。一方、表２最下段に示した母体
液晶を封入したものでは、より電圧の高い５０ Ｖ Ｅ
ｌ−１）を印加しても光学的応答を示さなかった。
ムをスペーサーとし、ポリイミドをスビンコー１−シて
ラビング処理した透明電極付ガラスを用いて作製したセ
ルに、表２に示した組成物のうち最上段に記したものを
封入して液晶素ｆを作〈 １ つた。この素子に室温下で４０ Ｖ 、−、の１０Ｈｚ
矩形波を印加し、偏光顕微鏡下で観察した所、良好な光
学的応答を観測できた。一方、表２最下段に示した母体
液晶を封入したものでは、より電圧の高い５０ Ｖ Ｅ
ｌ−１）を印加しても光学的応答を示さなかった。
組成物の調製例
また、実施例１９及び実施例１２の化合物を用いて下記
の液晶組成物を調製し、第１図で示されるような液晶素
子を作製した。その結果、いずれの素子も室温での４０
Ｖ 、１０Ｈｚ矩形波の印−ｐ 加に対して良好な光学応答を示すことがわかった。
の液晶組成物を調製し、第１図で示されるような液晶素
子を作製した。その結果、いずれの素子も室温での４０
Ｖ 、１０Ｈｚ矩形波の印−ｐ 加に対して良好な光学応答を示すことがわかった。
更に、いずれの組成物に対してもアントラキノン系又は
アゾ系の二色性色素を３重量％添加し、ゲストホスト型
の液晶表示素子を上記と同様に作製した。その結果、良
好なゲストホスト型の光学応答を示すことがわかり、本
願化合物が液晶組成物の有用な１成分となることが分っ
た。
アゾ系の二色性色素を３重量％添加し、ゲストホスト型
の液晶表示素子を上記と同様に作製した。その結果、良
好なゲストホスト型の光学応答を示すことがわかり、本
願化合物が液晶組成物の有用な１成分となることが分っ
た。
４゜
発明の効果
実施例および応用例から明らかなように、本発明は大き
な自発分極を有すると共にカイラルスメクチックＣ相を
示す液晶化合物ないしは液晶組成物を提供する。したが
って、本発明の光学活性化合物、これを含有する液晶組
成物は液晶表示装置などの光変調装置に用いる液晶とし
て有用であり、応答性など優れた性能を有する装置を提
供するものである。
な自発分極を有すると共にカイラルスメクチックＣ相を
示す液晶化合物ないしは液晶組成物を提供する。したが
って、本発明の光学活性化合物、これを含有する液晶組
成物は液晶表示装置などの光変調装置に用いる液晶とし
て有用であり、応答性など優れた性能を有する装置を提
供するものである。
第１図は本発明に係る液晶組成物を用いた液晶表示装置
の１例を模式的に示したものである。 第１図中１は偏光板、２はフロントガラス、３は透明電
極（信号電機）、４は強誘電性液晶、５はシール、６は
透明電極（走査電極）、７は背面ガラス基板、８はｋ（
ト）板を示す。
の１例を模式的に示したものである。 第１図中１は偏光板、２はフロントガラス、３は透明電
極（信号電機）、４は強誘電性液晶、５はシール、６は
透明電極（走査電極）、７は背面ガラス基板、８はｋ（
ト）板を示す。
Claims (12)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１は炭素数３〜１４のアルキル基、Ｒ＿２
、Ｒ＿３はそれぞれ同一又は異なつてもよく、炭素数１
〜３の低級アルキル基、Ｒ＿４は炭素数１〜１０のアル
キル基を示し、Ｑ＿１は単結合、エーテル結合、カルボ
ン酸エステル結合、カルボニル結合またはカルボニルジ
オキシ結合、Ｑ＿２、Ｑ＿３はそれぞれエーテル結合、
カルボン酸エステル結合またはカルボニル結合を示し、
Ｍは ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ （Ｘ、Ｙはそれぞれ単結合、カルボン酸エステル結合、
メチレンオキシ結合またはエチレン結合を示し、▲数式
、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
あります▼、▲数式、化学式、表等があります▼はそれ
ぞれ環構成原子として１ないし２個の酸素原子または窒
素原子を有していてもよい同素または異項の六員環−１
，４−ジイル基）を示す。また＊印を付した炭素は不斉
炭素を意味する。］で表わされる光学活性化合物。 - （２）▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化
学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
ます▼が同一または異なつて、ｐ−フェニレン、１，４
−シクロヘキシレン、２，５−（１，３−ジオキサン）
ジイル、２，５−ピリジンジイル、２，５−ピリミジン
ジイル、２，５−（１，４−ピラジン）ジイルまたは３
，６−（１，２−ピリダジン）ジイルである請求項１記
載の光学活性化合物。 - （３）Ｍが▲数式、化学式、表等があります▼である請
求項 １記載の光学活性化合物。 - （４）ＸかＹのいずれか一方が単結合、他方がカルボン
酸エステル結合で、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
、表等があります▼のいずれもがｐ−フェニレンである
請求項３記載の光学活性化合物。 - （５）Ｍが▲数式、化学式、表等があります▼である請
求項１記載の 光学活性化合物。 - （６）Ｘが単結合またはカルボン酸エステル結合で、▲
数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表
等があります▼のいずれもがｐ−フェニレンである請求
項５記載の光学活性化合物。 - （７）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中Ｒ＿２、Ｒ＿３はそれぞれ同一又は異なつてもよ
く炭素数１〜３の低級アルキル基を、Ｒ＿４は炭素数１
〜１０の分枝を有してもよいアルキル基を、Ｑ＿３はエ
ーテル結合、カルボン酸エステル結合、またはカルボニ
ル結合を示す］で表わされる光学活性化合物。 - （８）クレーム７においてＲ＿２及びＲ＿３が共にＣＨ
＿３である光学活性化合物。 - （９）クレーム７においてＱ＿３がエーテル結合又はカ
ルボン酸エステル化合物である光学活性化合物。 - （１０）クレーム８においてＱ＿３がエーテル結合であ
る光学活性化合物。 - （１１）請求項１に記載の光学活性化合物を少なくとも
１種以上含有することを特徴とする液晶組成物。 - （１２）請求項１１記載の液晶組成物を使用することを
特徴とする液晶光変調装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-179029 | 1988-07-20 | ||
| JP17902988 | 1988-07-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02138235A true JPH02138235A (ja) | 1990-05-28 |
Family
ID=16058866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1184960A Pending JPH02138235A (ja) | 1988-07-20 | 1989-07-18 | 光学活性化合物、同中間体、該化合物を含有する液晶組成物及び該液晶組成物を用いた液晶光変調装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5328643A (ja) |
| EP (1) | EP0351782B1 (ja) |
| JP (1) | JPH02138235A (ja) |
| KR (1) | KR910002766A (ja) |
| DE (1) | DE68920372T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019119806A (ja) * | 2018-01-05 | 2019-07-22 | 国立大学法人東京工業大学 | ３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸の単一重合体、及び３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸を高分率で含むポリヒドロキシアルカン酸共重合体 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4423098A1 (de) * | 1994-07-01 | 1996-01-04 | Hoechst Ag | Verwendung von Pyrimidingruppen enthaltenden konjugierten Verbindungen als Elektrolumineszenzmaterialien |
| JP4264988B2 (ja) * | 1997-12-18 | 2009-05-20 | チッソ株式会社 | ピリジン化合物および液晶組成物 |
| JP3443534B2 (ja) | 1998-12-17 | 2003-09-02 | 日本電信電話株式会社 | 原子周波数標準レーザパルス発振器 |
| KR101617482B1 (ko) * | 2008-09-17 | 2016-05-02 | 제이엔씨 석유 화학 주식회사 | 액정 조성물 및 액정 표시 소자 |
| CN114525283B (zh) * | 2021-11-29 | 2023-08-29 | 江苏师范大学 | 红豆杉转录因子TcMYB29在调控红豆杉愈伤中紫杉醇生物合成中的应用 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3333677A1 (de) * | 1983-09-17 | 1985-04-04 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Fluessigkristall-phase |
| DE3683062D1 (de) * | 1985-02-08 | 1992-02-06 | Ajinomoto Kk | Auf polyphenyl basierende esterverbindungen und sie enthaltende fluessigkristalline zusammensetzungen. |
| JPH0784411B2 (ja) * | 1986-08-12 | 1995-09-13 | チッソ株式会社 | 光学活性−２−メチル−１，３−プロパンジオ−ル誘導体 |
| US5167863A (en) * | 1987-12-24 | 1992-12-01 | Hitachi, Ltd. | Optically active compound, liquid crystal composition containing said compound, and liquid crystal optical modulator using said composition |
| US5167855A (en) * | 1988-03-04 | 1992-12-01 | University Research Corporation | Ferroelectric liquid crystal compositions chiral haloalkoxy tail units |
| US5130048A (en) * | 1988-03-04 | 1992-07-14 | Displaytech, Inc. | Ferroelectric liquid crystal compositions containing chiral haloalkoxy tails units |
| JP2732269B2 (ja) * | 1988-10-27 | 1998-03-25 | 旭電化工業株式会社 | 光学活性エステル化合物および該化合物を含有する液晶組成物 |
| KR900014300A (ko) * | 1989-03-22 | 1990-10-23 | 우메모토 요시마사 | 광학활성 화합물, 이 화합물을 함유한 액정 조성물 및 이조성물을 사용한 액정 광변조 장치 |
-
1989
- 1989-07-18 JP JP1184960A patent/JPH02138235A/ja active Pending
- 1989-07-18 EP EP89113158A patent/EP0351782B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-18 DE DE68920372T patent/DE68920372T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-18 KR KR1019890010147A patent/KR910002766A/ko not_active Ceased
-
1992
- 1992-02-26 US US07/841,467 patent/US5328643A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019119806A (ja) * | 2018-01-05 | 2019-07-22 | 国立大学法人東京工業大学 | ３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸の単一重合体、及び３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸を高分率で含むポリヒドロキシアルカン酸共重合体 |
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