JPH02139737A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH02139737A JPH02139737A JP29208988A JP29208988A JPH02139737A JP H02139737 A JPH02139737 A JP H02139737A JP 29208988 A JP29208988 A JP 29208988A JP 29208988 A JP29208988 A JP 29208988A JP H02139737 A JPH02139737 A JP H02139737A
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Landscapes
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光磁気記録媒体に関し、特に高いC/Nの遷
移金属と希土類金属を主体とする記録層を有する光磁気
記録媒体に関する。
移金属と希土類金属を主体とする記録層を有する光磁気
記録媒体に関する。
近年、光磁気記録媒体は、レーザー光による書き込み読
み出し可能光磁気ディスクとして大容量データファイル
等に広く利用されている。
み出し可能光磁気ディスクとして大容量データファイル
等に広く利用されている。
この光磁気記録媒体は、ガラス、プラスチック等の透明
基板上にス/Rツタ法等の方法により誘電体保護層(エ
ンハンス層とも称される)、記録層、無機保護層等の薄
膜を積層した多層構造の光磁気記録層を有した形態が一
般的である。
基板上にス/Rツタ法等の方法により誘電体保護層(エ
ンハンス層とも称される)、記録層、無機保護層等の薄
膜を積層した多層構造の光磁気記録層を有した形態が一
般的である。
光磁気記録媒体のC/Nを高めるために、記録層を薄層
化して記録再生用光ビームを透過し易くし、かつ、前記
光磁気記録層の最上層に金属反射層を設け、ファラデー
効果とカー効果の双方を利用した方法が特開昭!7−l
コOコj3号公報等に開示されている。この金属反射層
を設けた光磁気記録媒体の他の利点として、熱伝導特性
が良い金属反射層が光磁気記録層の最上層にあるために
記録されたビット形状の対称性が良くなることと、ビッ
トシフトが生じにくいということがある。
化して記録再生用光ビームを透過し易くし、かつ、前記
光磁気記録層の最上層に金属反射層を設け、ファラデー
効果とカー効果の双方を利用した方法が特開昭!7−l
コOコj3号公報等に開示されている。この金属反射層
を設けた光磁気記録媒体の他の利点として、熱伝導特性
が良い金属反射層が光磁気記録層の最上層にあるために
記録されたビット形状の対称性が良くなることと、ビッ
トシフトが生じにくいということがある。
また、前記記録層としては希土類金属と遷移金層の合金
の単一層若しくは前記希土類金属の薄膜と前記遷移金属
の薄膜を夫々数A乃至数7OAの厚さで交互に少なくと
もλ層板上積重した層が使用されている。特に、希土類
金属としてTb’t−1遷移金属としてFeとCOを用
いた記録層は特性が優れておシ、例えば、特開昭jl−
737≠6号公報等に開示されている。
の単一層若しくは前記希土類金属の薄膜と前記遷移金属
の薄膜を夫々数A乃至数7OAの厚さで交互に少なくと
もλ層板上積重した層が使用されている。特に、希土類
金属としてTb’t−1遷移金属としてFeとCOを用
いた記録層は特性が優れておシ、例えば、特開昭jl−
737≠6号公報等に開示されている。
光磁気記録媒体は、使用前に初期化すなわち、予め記録
層の磁化の向きを一方向に揃えておく必要がある。この
初期化の手段としては、通常の消去手段と同様、適度な
バイアス磁場中でレーザービームを照射する方法が行わ
れているが処理に時間がかかシ工程コストが高くなる要
因となる。電磁石で発生させ″た高磁場中で処理できれ
ば時間をそれほど必要としないが、しかし、発生できる
磁場はせいぜい/zkOe程度であり、従来の光磁気記
録層に対しては有効なものではなかった。記録層の組成
が前述した希土類金属としてTb、遷移金属としてFe
とCOある場合においても、C/Nを高めようとすると
するとHcはλ0kOe以上となって電磁石による初期
化は困難であった。
層の磁化の向きを一方向に揃えておく必要がある。この
初期化の手段としては、通常の消去手段と同様、適度な
バイアス磁場中でレーザービームを照射する方法が行わ
れているが処理に時間がかかシ工程コストが高くなる要
因となる。電磁石で発生させ″た高磁場中で処理できれ
ば時間をそれほど必要としないが、しかし、発生できる
磁場はせいぜい/zkOe程度であり、従来の光磁気記
録層に対しては有効なものではなかった。記録層の組成
が前述した希土類金属としてTb、遷移金属としてFe
とCOある場合においても、C/Nを高めようとすると
するとHcはλ0kOe以上となって電磁石による初期
化は困難であった。
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みなされたもので
89、室温におけるHcが比較的小さく、初期化が容易
に行え、かつC/Nの優れた光磁気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
89、室温におけるHcが比較的小さく、初期化が容易
に行え、かつC/Nの優れた光磁気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
上記本発明の目的は、基板上に、誘電体保護層、記録層
、無機保護層及び金属反射層の薄膜がこの順で成膜され
て積層している構成の光磁気記録層を有する光磁気記録
媒体において、該記録層がTbx(Crz(CoyFe
x−y)1−z)1−xなる組成であって、かつ、Xは
O0/2乃至Oolりであシ、2は0.0≠乃至0.1
1であることを特徴とする光磁気記録媒体によって達成
される。
、無機保護層及び金属反射層の薄膜がこの順で成膜され
て積層している構成の光磁気記録層を有する光磁気記録
媒体において、該記録層がTbx(Crz(CoyFe
x−y)1−z)1−xなる組成であって、かつ、Xは
O0/2乃至Oolりであシ、2は0.0≠乃至0.1
1であることを特徴とする光磁気記録媒体によって達成
される。
本発明の光磁気記録媒体は、記録層として垂直磁気異方
性が大きくでき垂直磁化膜を容易に得ることができる、
しかもある程度の大きさのカー回転角を有する点で優れ
た希土類金属にTbを、遷移金属としてはpe 、Co
を用いた希土類金属と遷移金属の合金を主体とした組成
の薄膜を用い、そしてその組成中にCrを導入しかつC
rの導入量とTbとFeCoの組成比をコントロールす
ることくよって光磁気記録層の特性を低下させることな
く室温における記録層のHcを低下させることが可能で
あるという特徴を有しておシ、もって本発明の目的を効
果的に達成することができた。
性が大きくでき垂直磁化膜を容易に得ることができる、
しかもある程度の大きさのカー回転角を有する点で優れ
た希土類金属にTbを、遷移金属としてはpe 、Co
を用いた希土類金属と遷移金属の合金を主体とした組成
の薄膜を用い、そしてその組成中にCrを導入しかつC
rの導入量とTbとFeCoの組成比をコントロールす
ることくよって光磁気記録層の特性を低下させることな
く室温における記録層のHcを低下させることが可能で
あるという特徴を有しておシ、もって本発明の目的を効
果的に達成することができた。
本発明の光磁気記録媒体における前記記録層に上記の特
徴をもたらす要因についてはまだ充分に明らかになって
いないが、Crの添加によって室温からキュリー温度ま
でにおける磁気特性の温度依存性が変化することが考え
られる。
徴をもたらす要因についてはまだ充分に明らかになって
いないが、Crの添加によって室温からキュリー温度ま
でにおける磁気特性の温度依存性が変化することが考え
られる。
本発明の光磁気記録媒体の前記光磁気記録層の室温での
Hcは従来のTbFeCo系合金を主体とする光磁気記
録層の室温でのHcよシもかなシ小さくすることができ
、容易に/ Ok Oe以下にすることができるので、
初期化に際してそれほど高い磁場は必要でなく、電磁石
でも充分に初期化は可能である。
Hcは従来のTbFeCo系合金を主体とする光磁気記
録層の室温でのHcよシもかなシ小さくすることができ
、容易に/ Ok Oe以下にすることができるので、
初期化に際してそれほど高い磁場は必要でなく、電磁石
でも充分に初期化は可能である。
従って、本発明の光磁気記録媒体の初期化の工程におけ
る時間とエネルギーが従来の光磁気記録媒体の場合に比
べかなシ軽減されることになシ、製造コストの面から実
用上有利である。しかも、C/N等の特性は充分に維持
される。更に、Crがあるために記録層の耐腐食性もす
ぐれている。
る時間とエネルギーが従来の光磁気記録媒体の場合に比
べかなシ軽減されることになシ、製造コストの面から実
用上有利である。しかも、C/N等の特性は充分に維持
される。更に、Crがあるために記録層の耐腐食性もす
ぐれている。
本発明の前記記録層の組成tTbx(Crz(CoyF
el−y)t−z)t−xと表した場合、Tbの含有量
Xは、Q、/J乃至0.12である。
el−y)t−z)t−xと表した場合、Tbの含有量
Xは、Q、/J乃至0.12である。
一方、Crの含有量yは、o、op乃至o、iiでおる
。
。
Tbの含有量があま夛少なくてもまた多くてもC/Nが
低下するので好ましくない。
低下するので好ましくない。
一方、Crの含有量があま多少ないと、高C/Nを得る
ためには室温でのHcが高くなシ、逆に余シ多いとC/
Nが低下してしまい好ましくない。
ためには室温でのHcが高くなシ、逆に余シ多いとC/
Nが低下してしまい好ましくない。
また、本発明の前記記録層中のCrのかわシに他の金属
例えば、AtやTiでも同様な効果が期待できる。
例えば、AtやTiでも同様な効果が期待できる。
本発明の光磁気記録媒体の前記記録層は、通常スパッタ
法等の成膜法で形成されるが、その組成をコントロール
するために種々の方法が考えられる。例えば、peCo
Cr合金上にTbのチップを適当枚数配したターゲット
を使用する方法、ターゲットにT b s F e%C
o及びCrの合金を使用し、その組成を調整する方法、
またはTbとpeCoCrのコ種のターゲットを用意し
てその組成と印加電力の双方を調整する方法等が考えら
れる。
法等の成膜法で形成されるが、その組成をコントロール
するために種々の方法が考えられる。例えば、peCo
Cr合金上にTbのチップを適当枚数配したターゲット
を使用する方法、ターゲットにT b s F e%C
o及びCrの合金を使用し、その組成を調整する方法、
またはTbとpeCoCrのコ種のターゲットを用意し
てその組成と印加電力の双方を調整する方法等が考えら
れる。
本発明の記録層は、単一層としてもまた遷移金属からな
る薄膜と希土類金属からなる薄膜とが交互に積層した形
態で使用してもよい。この交互積層膜である場合、Cr
はどちらの層にあってもよい。
る薄膜と希土類金属からなる薄膜とが交互に積層した形
態で使用してもよい。この交互積層膜である場合、Cr
はどちらの層にあってもよい。
本発明の光磁気記録媒体の前記記録層の厚さは通常iz
o乃至zooAである。
o乃至zooAである。
本発明の光磁気記録媒体においては前記記録層の上下に
誘電体保護層及び無機保護層を設けて耐久性や光磁気特
性を高めることが望ましい。前記誘電体保護層誘電体と
してはAIN、SiO。
誘電体保護層及び無機保護層を設けて耐久性や光磁気特
性を高めることが望ましい。前記誘電体保護層誘電体と
してはAIN、SiO。
Sio SiNx、5iA1ON等が用いられ、2
g 中でもSiNx、5iAIONが望ましい。前記無機保
f!膚も前記誘電体保護層とほぼ同一の材料を用いるこ
とができる。前記誘電体保護層及び前記無機保護層の厚
さとしては通常300乃至2000にである。
g 中でもSiNx、5iAIONが望ましい。前記無機保
f!膚も前記誘電体保護層とほぼ同一の材料を用いるこ
とができる。前記誘電体保護層及び前記無機保護層の厚
さとしては通常300乃至2000にである。
本発明の光磁気記録媒体においては、光磁気記録層の最
上層に金属反射層を設けて特性を向上させている。前記
金属反射層を構成する金属は、通常比較的反射率の高い
金属の薄膜であシ、例えば、A I + A u* C
u * Z r t P t * T a及びTi等の
単体もしくは合金が使用され、中でも特にコストが安価
であること、反射率さらに熱伝導性が比較的大きいこと
等の理由からA I 、 Cuが好ましい。また、前記
金属反射層の厚さは通常300乃至tooAであること
が望ましい。あまシ厚さが小さいと、反射層として充分
に機能せず、逆にあまシ厚さが大きいと熱放射特性が過
剰になって、感度低下をもたらすので好ましくない。
上層に金属反射層を設けて特性を向上させている。前記
金属反射層を構成する金属は、通常比較的反射率の高い
金属の薄膜であシ、例えば、A I + A u* C
u * Z r t P t * T a及びTi等の
単体もしくは合金が使用され、中でも特にコストが安価
であること、反射率さらに熱伝導性が比較的大きいこと
等の理由からA I 、 Cuが好ましい。また、前記
金属反射層の厚さは通常300乃至tooAであること
が望ましい。あまシ厚さが小さいと、反射層として充分
に機能せず、逆にあまシ厚さが大きいと熱放射特性が過
剰になって、感度低下をもたらすので好ましくない。
本発明の光磁気記録媒体で使用する前記基板lとしては
、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ
オレフィン、エポキシ、ガラス等を用いることができる
が、特に樹脂基板中でもポリカーボネートが望ましい。
、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ
オレフィン、エポキシ、ガラス等を用いることができる
が、特に樹脂基板中でもポリカーボネートが望ましい。
本発明の光磁気記録媒体は、前記基板上にスパッタ法等
の成膜法によル、前記記録層や前記誘電体保護層及び前
記無機保護層の薄膜を成膜することKよシ製造される。
の成膜法によル、前記記録層や前記誘電体保護層及び前
記無機保護層の薄膜を成膜することKよシ製造される。
これらの薄膜の成膜の際使用するターゲット中の酸素含
有量はなるべく少ないことが望ましい。
有量はなるべく少ないことが望ましい。
また、さらに耐久性を向上させるために前記金属反射層
を成膜した後に、紫外線硬化樹脂やホットメルト樹脂等
よ)なる有機物の保護層を設けることが望ましい。例え
ば、スピンコード法によって2乃至10μ肩の厚さで紫
外線硬化型樹脂をコートシ、紫外線を照射して硬化処理
をして前記有機保護層が設けられる。この紫外線硬化型
樹脂としては例えば大日本インキ(株)製SD−/7等
が挙げられる。
を成膜した後に、紫外線硬化樹脂やホットメルト樹脂等
よ)なる有機物の保護層を設けることが望ましい。例え
ば、スピンコード法によって2乃至10μ肩の厚さで紫
外線硬化型樹脂をコートシ、紫外線を照射して硬化処理
をして前記有機保護層が設けられる。この紫外線硬化型
樹脂としては例えば大日本インキ(株)製SD−/7等
が挙げられる。
以下の実施例によって、本発明の新規な特徴及び効果を
説明する。
説明する。
〔実施例−7〕
rインチφの3カンードを有するマグネトロンスパッタ
装置において、各ターゲット材料として、Si八人1O
焼結体、(Fe85”15)9゜Cr□。合金、AIを
取シ付けておき、(F e B 5C015)9G”1
0合金ターゲツト上に!×!ミリのTbチップを30乃
至j!枚エロジョンゾーンに配置した。また、/30φ
のポリカーボネート基板と組成測定用にスライドガラス
基板を回転型の基板ホルダーに取シ付けた。しかる後、
スノツタ装置内をコX10 ’l’orrの真空度に
なるまで排気し、次いでArガスを真空槽内に導入した
。まず、前記5iAION焼結体のターゲットに/kW
のRFパワーを印加、前記基板ホルダーをJOrpmで
回転させ前記ポリカーボネート基板及びスライドグラス
基板上に厚さが約10ooAの5iA1ONの誘電体保
護層を成膜した。
装置において、各ターゲット材料として、Si八人1O
焼結体、(Fe85”15)9゜Cr□。合金、AIを
取シ付けておき、(F e B 5C015)9G”1
0合金ターゲツト上に!×!ミリのTbチップを30乃
至j!枚エロジョンゾーンに配置した。また、/30φ
のポリカーボネート基板と組成測定用にスライドガラス
基板を回転型の基板ホルダーに取シ付けた。しかる後、
スノツタ装置内をコX10 ’l’orrの真空度に
なるまで排気し、次いでArガスを真空槽内に導入した
。まず、前記5iAION焼結体のターゲットに/kW
のRFパワーを印加、前記基板ホルダーをJOrpmで
回転させ前記ポリカーボネート基板及びスライドグラス
基板上に厚さが約10ooAの5iA1ONの誘電体保
護層を成膜した。
続いて、前記(Fe85CO15)10”10合金のタ
ーゲットにRF / 200Wの電力を印加して厚さ約
2J”OAの’l’bFecocrの合金よル表る記録
層を成膜した。さらに、その記録層の上に前記誘電体保
護層と同様な条件で厚さ参〇OAの5iA1ONの無機
保護層を成膜した。
ーゲットにRF / 200Wの電力を印加して厚さ約
2J”OAの’l’bFecocrの合金よル表る記録
層を成膜した。さらに、その記録層の上に前記誘電体保
護層と同様な条件で厚さ参〇OAの5iA1ONの無機
保護層を成膜した。
更に、前記無機保護層の上に前記AIのターゲットに/
kWのDCパワーを印加して金属反射層としてrooA
の厚さのAIも薄膜を形成した。
kWのDCパワーを印加して金属反射層としてrooA
の厚さのAIも薄膜を形成した。
以上のようにして得た光磁気記録媒体の試料について、
前記記録層の組成分析とカーヒステリシスループによる
Hcの測定、及び動特性評価を行った。組成分析は、組
成測定用にスライドグラス上に成膜した試料を用いてプ
ラズマ発光分析法によって行った。また、動特性は/I
0Orpm。
前記記録層の組成分析とカーヒステリシスループによる
Hcの測定、及び動特性評価を行った。組成分析は、組
成測定用にスライドグラス上に成膜した試料を用いてプ
ラズマ発光分析法によって行った。また、動特性は/I
0Orpm。
3.7MHzキャリヤー、R=JO〜31ミリ位置の条
件で評価し九。
件で評価し九。
得られた結果は、第1−/表及び第1−2表のとうシで
あった。
あった。
第1− /表(実施例−7の記録層の組成)A 3
0 /J、タ tl、I /コ、/ j、、2
0./コタ 0.07/B 440 /l、I
4jj 11、t t、0 0./41 0.
072Cto λJ、/ 4/、4t 10.lr
!、70.22/ 0.07J1) j! 2!
、2 j−1,Y 10AL よ、z O,2
!2 0.07J第1−2表(実施例−7の光磁気記録
媒体の特性)試料 Hc (kOe ) C/N
(bB ) 備考A j
4!I、!t 本発明BP
4cり、O本発明C75以上 4/’7.!
比較例D 4 ダ2.0
比較例〔実施例−一〕 記録層用のターゲットとして、(Fe85CO15)8
5Cr 15合金を用いた以外、実施例−/と同一の条
件で光磁気記録媒体の試料を作成し九。記録層の組成の
分析結果及び光磁気記録媒体の試料の特性の評価結果は
第コー/表及び第2−2表のとうシで6つな。
0 /J、タ tl、I /コ、/ j、、2
0./コタ 0.07/B 440 /l、I
4jj 11、t t、0 0./41 0.
072Cto λJ、/ 4/、4t 10.lr
!、70.22/ 0.07J1) j! 2!
、2 j−1,Y 10AL よ、z O,2
!2 0.07J第1−2表(実施例−7の光磁気記録
媒体の特性)試料 Hc (kOe ) C/N
(bB ) 備考A j
4!I、!t 本発明BP
4cり、O本発明C75以上 4/’7.!
比較例D 4 ダ2.0
比較例〔実施例−一〕 記録層用のターゲットとして、(Fe85CO15)8
5Cr 15合金を用いた以外、実施例−/と同一の条
件で光磁気記録媒体の試料を作成し九。記録層の組成の
分析結果及び光磁気記録媒体の試料の特性の評価結果は
第コー/表及び第2−2表のとうシで6つな。
第J −/表(実施例−コの記録層の組成)JO/コ、
j 47.j 11、弘 1.1 0./コj 0
11004/−0/jJ 4参、t 11、Or、
I O,/jタ 0.10/j0 コλj Jり
、J 10.0 7.タ Q、−2I O,102
Jj コJ、!t 17.λ タ、a 7.7
0.2!! 0.10.3第一一コ表(実施例−コの
光磁気記録媒体の特性)F/Q 471
.j 本発明Q 11以上 4c7
.O比較例1(747!、j 比較例 〔実施例−3〕 記録層用のターゲットとして、(Fe8$”15)95
Cr 5合金を用いた以外、実施例−7と同一の条件で
光磁気記録媒体の試料を作成した。記録層の組成の分析
結果及び光磁気記録媒体の試料の特性の評価結果紘第j
−/表及び第3−2表のとうシでらった。
j 47.j 11、弘 1.1 0./コj 0
11004/−0/jJ 4参、t 11、Or、
I O,/jタ 0.10/j0 コλj Jり
、J 10.0 7.タ Q、−2I O,102
Jj コJ、!t 17.λ タ、a 7.7
0.2!! 0.10.3第一一コ表(実施例−コの
光磁気記録媒体の特性)F/Q 471
.j 本発明Q 11以上 4c7
.O比較例1(747!、j 比較例 〔実施例−3〕 記録層用のターゲットとして、(Fe8$”15)95
Cr 5合金を用いた以外、実施例−7と同一の条件で
光磁気記録媒体の試料を作成した。記録層の組成の分析
結果及び光磁気記録媒体の試料の特性の評価結果紘第j
−/表及び第3−2表のとうシでらった。
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みなされたもので
あシ、室温におけるHcが比較的小さく、初期化が容易
に行え、かつC/Nの優れた光磁気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
あシ、室温におけるHcが比較的小さく、初期化が容易
に行え、かつC/Nの優れた光磁気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
上記本発明の目的は、基板上に、誘電体保護層、記録層
、無機保護層及び金属反射層の薄膜がこの順で成膜され
て積層している構成の光磁気記録層を有する光磁気記録
媒体において、該記録層がTbx(Crz(CoyFe
s−y)t−z)x−xなる組成であって、かつ、Xは
0.12乃至Q。
、無機保護層及び金属反射層の薄膜がこの順で成膜され
て積層している構成の光磁気記録層を有する光磁気記録
媒体において、該記録層がTbx(Crz(CoyFe
s−y)t−z)x−xなる組成であって、かつ、Xは
0.12乃至Q。
lりであシ、2はO,O4c乃至0.11であることを
特徴とする光磁気記録媒体によって達成される。
特徴とする光磁気記録媒体によって達成される。
本発明の光磁気記録媒体は、記録層として垂直磁気異方
性が大きくでき垂直磁化膜を容易に得ることができる、
しかもある程度の大きさのカー回転角を有する点で優れ
九希土類金属にTbを、遷移金属としてはFe、Coを
用いた希土類金属と遷移金属の合金を主体とした組成の
薄膜を用い、第1−7表(実施例−ぴの記録層の組成)
第!−/表(実施例−!の記録層の組成)lλ、r /Lj λ/8タ コ参、j t4c、ダ tコ、4t j7.j !!、t 11、J l/、0 10、/ り、t 11、J O,/コr O,/Jコ /1./ 0./!! 0./3/ 10、弘 O0λ/P O,/3! io、i o、コIII O,/33第参−2表(実
施例−lの光磁気記録媒体の特性)試料 ■ Hc(koe) C/N(dB) 4 4/L7.j J 10 参7.OK
ii ≠t、。
性が大きくでき垂直磁化膜を容易に得ることができる、
しかもある程度の大きさのカー回転角を有する点で優れ
九希土類金属にTbを、遷移金属としてはFe、Coを
用いた希土類金属と遷移金属の合金を主体とした組成の
薄膜を用い、第1−7表(実施例−ぴの記録層の組成)
第!−/表(実施例−!の記録層の組成)lλ、r /Lj λ/8タ コ参、j t4c、ダ tコ、4t j7.j !!、t 11、J l/、0 10、/ り、t 11、J O,/コr O,/Jコ /1./ 0./!! 0./3/ 10、弘 O0λ/P O,/3! io、i o、コIII O,/33第参−2表(実
施例−lの光磁気記録媒体の特性)試料 ■ Hc(koe) C/N(dB) 4 4/L7.j J 10 参7.OK
ii ≠t、。
L λ 弘≠ 、j備考
比較例
比較例
比較例
比較例
13.7
/7./
コ2、t
コ!、3
73.3
70、!
t!、7
63、j
lコ、り
lコ、≠
/1.6
11、2
o、12r
O0/j!T
O,21F
0.2≠よ
第j−2表(実施例−!の光磁気記録媒体の特性)試料
Hc(koe) C/N(dB) 備考
M ≠ ダt、o 比較例N
タ 447.007t以上
弘r、。
Hc(koe) C/N(dB) 備考
M ≠ ダt、o 比較例N
タ 447.007t以上
弘r、。
P r 417 .0比
較例 比較例 比較例 〔実施例−!〕 記録層用のターゲットとして、Crが含有されていない
F e 65 CO1s合金を用いた以外、実施例−7
と同一の条件で光磁気記録媒体の試料を作成した。記録
層の組成の分析結果及び光磁気記録媒体の試料の特性の
評価結果は第j −7表及び第!−2表のとうシであっ
た。
較例 比較例 比較例 〔実施例−!〕 記録層用のターゲットとして、Crが含有されていない
F e 65 CO1s合金を用いた以外、実施例−7
と同一の条件で光磁気記録媒体の試料を作成した。記録
層の組成の分析結果及び光磁気記録媒体の試料の特性の
評価結果は第j −7表及び第!−2表のとうシであっ
た。
基板上に、誘電体保膜層、記録層、無機保護層及び金属
反射層の薄膜がこの順で成膜されて積層している構成の
光磁気記録層を有する光磁気記録媒体において、本発明
のようにT b F e Co合金を主体とする組成の
記録層にして、さらにCrを含有させ、そしてTbの組
成比及びCrの含有量を調整することによって室温にお
けるHcが70k Oe以下と比較的小さく従って初期
化が容易でかつC/Nが優れた光磁気記録媒体を得るこ
とができる。
反射層の薄膜がこの順で成膜されて積層している構成の
光磁気記録層を有する光磁気記録媒体において、本発明
のようにT b F e Co合金を主体とする組成の
記録層にして、さらにCrを含有させ、そしてTbの組
成比及びCrの含有量を調整することによって室温にお
けるHcが70k Oe以下と比較的小さく従って初期
化が容易でかつC/Nが優れた光磁気記録媒体を得るこ
とができる。
Claims (2)
- (1)基板上に、誘電体保護層、記録層、無機保護層及
び金属反射層の薄膜がこの順で成膜されて積層している
構成の光磁気記録層を有する光磁気記録媒体において、
該記録層がTbx(Crz(CoyFe_1_−_y)
_1_−_z)_1_−_zなる組成であつて、かつ、
xは0.12乃至0.19であり、zは0.04乃至0
.11であることを特徴とする光磁気記録媒体。 - (2)記録層のHcが10kOe以下である請求項第1
項記載の光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29208988A JPH02139737A (ja) | 1988-11-18 | 1988-11-18 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29208988A JPH02139737A (ja) | 1988-11-18 | 1988-11-18 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02139737A true JPH02139737A (ja) | 1990-05-29 |
Family
ID=17777409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29208988A Pending JPH02139737A (ja) | 1988-11-18 | 1988-11-18 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02139737A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231306A (ja) * | 1984-05-01 | 1985-11-16 | Ricoh Co Ltd | 非晶質磁気光学層 |
| JPS6184004A (ja) * | 1984-10-01 | 1986-04-28 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS6187306A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-05-02 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光磁気記録用材料 |
| JPS62164243A (ja) * | 1986-01-13 | 1987-07-20 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光磁気記録用媒体 |
-
1988
- 1988-11-18 JP JP29208988A patent/JPH02139737A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231306A (ja) * | 1984-05-01 | 1985-11-16 | Ricoh Co Ltd | 非晶質磁気光学層 |
| JPS6184004A (ja) * | 1984-10-01 | 1986-04-28 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS6187306A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-05-02 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光磁気記録用材料 |
| JPS62164243A (ja) * | 1986-01-13 | 1987-07-20 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光磁気記録用媒体 |
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