JPH021416A - 液相で２―エチルヘキセナルを水素化することによって２―エチルヘキサノールを製造する方法およびその製法に用いる触媒 - Google Patents
液相で２―エチルヘキセナルを水素化することによって２―エチルヘキサノールを製造する方法およびその製法に用いる触媒Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［発明の利用分野１
本発明は、液相中で２−エチルヘキセナルを水素化する
ことによって２−エチルヘキサノールを製造する方法お
よびその際に使用する触媒に関する。
ことによって２−エチルヘキサノールを製造する方法お
よびその際に使用する触媒に関する。
［従来技術１
２−エチルヘキサノールは、例えばＰｖＣの可塑剤とし
てのジオクチルフタレートを製造する為のエステル化用
成分として２−エチルヘキセナル（オキソ化２次製品）
の水素化によって多量に製造される。この場合、水素化
は気相中（ドイツ特許出願公告筒Ｌ１５２，３９３号明
細書）で並びに液相（ドイツ特許出願公告第１，９４９
，２９６号明細書）において行われ、その際に液相中で
は一最に改善された熱搬出の為に触媒に高負荷を掛ける
ことができる。触媒負荷の他に生成物の純度−例えば臭
素価で書ける は非常に興味がもたれている。何故な
らば後で製造される可塑剤が良好な色安定性を有してい
なければならないからである。ドイツ特許出願公告第１
．９４９゜２９６号明細書から、２−エチルヘキセナル
の液相での水素化が約１．８７時間の触媒負荷のもとて
反応生成物の循環案内法で３．９〜０．２の臭素価を持
つ生成物をもたらすことが公知である。ここで利用され
る触媒は、水素化の間確かに興味を引く触媒負荷のもと
て臭素価の点で不十分であり後での蒸留によって純度を
向上させなければならない生成物が生じるという欠点を
有している。
てのジオクチルフタレートを製造する為のエステル化用
成分として２−エチルヘキセナル（オキソ化２次製品）
の水素化によって多量に製造される。この場合、水素化
は気相中（ドイツ特許出願公告筒Ｌ１５２，３９３号明
細書）で並びに液相（ドイツ特許出願公告第１，９４９
，２９６号明細書）において行われ、その際に液相中で
は一最に改善された熱搬出の為に触媒に高負荷を掛ける
ことができる。触媒負荷の他に生成物の純度−例えば臭
素価で書ける は非常に興味がもたれている。何故な
らば後で製造される可塑剤が良好な色安定性を有してい
なければならないからである。ドイツ特許出願公告第１
．９４９゜２９６号明細書から、２−エチルヘキセナル
の液相での水素化が約１．８７時間の触媒負荷のもとて
反応生成物の循環案内法で３．９〜０．２の臭素価を持
つ生成物をもたらすことが公知である。ここで利用され
る触媒は、水素化の間確かに興味を引く触媒負荷のもと
て臭素価の点で不十分であり後での蒸留によって純度を
向上させなければならない生成物が生じるという欠点を
有している。
更に、ドイツ特許出願公告第１，２６９，６０５号明細
書から、液相中で高温高圧において２−エチルヘキセナ
ルを、銅および／またはクロムおよび／またはマンガン
が添加されたニッケルーおよび／またはコバルト触媒に
て転化する方法が公知である。この触媒の本質的部分は
、遊離状態および／または上記の金属の少なくとも一つ
の塩の形のピローまたはポリ酸を更に添加することであ
る。
書から、液相中で高温高圧において２−エチルヘキセナ
ルを、銅および／またはクロムおよび／またはマンガン
が添加されたニッケルーおよび／またはコバルト触媒に
て転化する方法が公知である。この触媒の本質的部分は
、遊離状態および／または上記の金属の少なくとも一つ
の塩の形のピローまたはポリ酸を更に添加することであ
る。
非常に高い圧力（好ましくは２００〜４００ｂａｒ）お
よび高い温度を必要とすることがこの方法および触媒に
欠点をもたらす。更に約０．２ノ時の触媒負荷並びに約
０．１３〜０．１の高い生成物臭素価が水素化にとって
不利である。
よび高い温度を必要とすることがこの方法および触媒に
欠点をもたらす。更に約０．２ノ時の触媒負荷並びに約
０．１３〜０．１の高い生成物臭素価が水素化にとって
不利である。
［発明が解決しようとする課題ｌ
これらのことから本発明の課題は、水素化を高い触媒負
荷のもとで低い臭素価の特に有利な純度の２．エチルヘ
キサノールをもたらす方法を見出すことである。
荷のもとで低い臭素価の特に有利な純度の２．エチルヘ
キサノールをもたらす方法を見出すことである。
（発明の構成１
この課題は、本発明に従って、特許請求の範囲に記載の
方法および触媒によって解決される。
方法および触媒によって解決される。
本発明者は驚くべきことに、高触媒負荷並びに高温度高
圧のもとでの２−エチルヘキセナルの水素化が、主金属
成分として銅およびニッケルをそして安定剤としてクロ
ムを並びに、ピローまたはポリ酸の如き酸性添加物の替
わりにアルカリ金属成分、特に触媒にニクロム酸アルカ
リ金属塩として導入されるアルカリ金属成分を含有する
担持触媒を用いて反応を実施した場合に、低い臭素価の
特に良好な純度の生成物が得られることを見出した。
圧のもとでの２−エチルヘキセナルの水素化が、主金属
成分として銅およびニッケルをそして安定剤としてクロ
ムを並びに、ピローまたはポリ酸の如き酸性添加物の替
わりにアルカリ金属成分、特に触媒にニクロム酸アルカ
リ金属塩として導入されるアルカリ金属成分を含有する
担持触媒を用いて反応を実施した場合に、低い臭素価の
特に良好な純度の生成物が得られることを見出した。
本発明の予期出来なかった本質的な進歩性は、触媒にニ
クロム酸アルカリ金属塩を添加することによって反応速
度の遅延が生じないが、改善された生成物品質−臭素価
によって表されるが得られそして反応を比較的に低い圧
力のもとでも行うことができることである。この反応は
１２０〜１８０°Ｃ１殊に１４０〜１６０″Ｃ１特に１
４５〜１５５”Ｃの温度およびｌＯ〜１００ｂａｒ、殊
に２０〜５０ｂａｒ 、特に３０〜４０ｂａｒの圧力の
もとで実施する。本発明の方法の場合には一般に２〜７
７時の触媒負荷が達成されそして０．１〜０．０１の臭
素価を持つ非常に純粋な２−エチルヘキサノールが得ら
れる。
クロム酸アルカリ金属塩を添加することによって反応速
度の遅延が生じないが、改善された生成物品質−臭素価
によって表されるが得られそして反応を比較的に低い圧
力のもとでも行うことができることである。この反応は
１２０〜１８０°Ｃ１殊に１４０〜１６０″Ｃ１特に１
４５〜１５５”Ｃの温度およびｌＯ〜１００ｂａｒ、殊
に２０〜５０ｂａｒ 、特に３０〜４０ｂａｒの圧力の
もとで実施する。本発明の方法の場合には一般に２〜７
７時の触媒負荷が達成されそして０．１〜０．０１の臭
素価を持つ非常に純粋な２−エチルヘキサノールが得ら
れる。
触媒の活性成分の主要成分は、触媒を基準として１５〜
０．３重量２あるいは１５〜０．３重ｔｌｚの濃度の銅
およびニッケルである。活性剤としては０．０５〜３．
５重量％のＣｒ並びに０．０１−１．６重量％、殊に０
．０２〜１．２重量％のアルカリ金属を触媒の上にニク
ロム酸アルカリ金属塩の形で塗布した状態で触媒に加え
る。ニクロム酸アルカリ金属塩としてはニクロム酸ナト
リウムが殊に適している。触媒担体としてはＳｉｎｇ並
びにＡ ｆ ２０゜を使用するのが特に有利である。
０．３重量２あるいは１５〜０．３重ｔｌｚの濃度の銅
およびニッケルである。活性剤としては０．０５〜３．
５重量％のＣｒ並びに０．０１−１．６重量％、殊に０
．０２〜１．２重量％のアルカリ金属を触媒の上にニク
ロム酸アルカリ金属塩の形で塗布した状態で触媒に加え
る。ニクロム酸アルカリ金属塩としてはニクロム酸ナト
リウムが殊に適している。触媒担体としてはＳｉｎｇ並
びにＡ ｆ ２０゜を使用するのが特に有利である。
触媒の活性成分は、担持触媒の中に均一に分布していて
もまたはその縁部域に分布していてもよい。
もまたはその縁部域に分布していてもよい。
触媒の製造は噴霧含浸処理によって行う。活性成分が均
一に分布状態で担体に含まれるべき触媒の場合には、コ
ーティング用ドラム中に存在する担体物質の孔空隙の約
０．８倍の容量に相当しそして活性成分を金属塩の形で
含有する溶液を付着させる。次いで、金属含有量が担体
の所望の付着量に相当するこの金属塩溶液を室温で担体
に噴霧し、その際に担体中に金属塩溶液が侵入しそして
担体の孔容積が噴霧される溶液の体積で封ぜられる。
一に分布状態で担体に含まれるべき触媒の場合には、コ
ーティング用ドラム中に存在する担体物質の孔空隙の約
０．８倍の容量に相当しそして活性成分を金属塩の形で
含有する溶液を付着させる。次いで、金属含有量が担体
の所望の付着量に相当するこの金属塩溶液を室温で担体
に噴霧し、その際に担体中に金属塩溶液が侵入しそして
担体の孔容積が噴霧される溶液の体積で封ぜられる。
縁部域に含浸された触媒を所望する場合には、金属塩溶
液を、予備加熱された担体に散布しそして散布工程の間
担体を更に加温する。次いで金属塩は、例えば担体温度
に左右される層厚中で結晶化する。適する温度は例えば
９０〜１００°Ｃである。使用する前に触媒を水素で還
元する。
液を、予備加熱された担体に散布しそして散布工程の間
担体を更に加温する。次いで金属塩は、例えば担体温度
に左右される層厚中で結晶化する。適する温度は例えば
９０〜１００°Ｃである。使用する前に触媒を水素で還
元する。
実１錐１１−１
含浸処理用溶液を製造する為に、３７ｇの硝酸銅三水和
物、１４χのＮｉを含有する８５７．２ｇのＮｉ（ＮＯ
３）２．５．７ｇのニクロム酸ナトリウムニ水和物およ
び１．４ｇの６５χ濃度硝酸を水中に入れそして溶解す
る。濾過後に水を添加した後に４，３３６ｇの溶液を得
る。この金属塩水溶液を９８゛Ｃの担体温度でＬ８９９
ｇのパール状ＳｉＯ□の上に散布する。
物、１４χのＮｉを含有する８５７．２ｇのＮｉ（ＮＯ
３）２．５．７ｇのニクロム酸ナトリウムニ水和物およ
び１．４ｇの６５χ濃度硝酸を水中に入れそして溶解す
る。濾過後に水を添加した後に４，３３６ｇの溶液を得
る。この金属塩水溶液を９８゛Ｃの担体温度でＬ８９９
ｇのパール状ＳｉＯ□の上に散布する。
金属塩が付着した湿った担体を１１０°Ｃで乾燥し、３
５０°Ｃでか焼する。縁部域の）γさは０．２４ｍｍで
ある。この触媒は０．３！（７７Ｃｕ、４．５χのＮｉ
、０．０７χのＣｒおよび０．０３χのＮａを含有して
いる。等温反応器中に存在する触媒９０ｇの還元を２０
０℃で水素にて行う。触媒を平衡状態にする為には、接
触反応させるべく １時間当たり０．５１の２−エチル
ヘキサナルを４８時間に渡って１５０“Ｃの温度および
４０ｂａｒの圧力で配量供給する。次いで循環案内法で
触媒活性の測定を行う。この目的の為に、上記の温度−
および圧力条件のもとて触媒に３：１の比で２−エチル
ヘキサノールと原料２−エチルヘキセナルとを添加する
。液状材料の横断面負荷量は３６ ｍ’／ｍ２／時であ
る。６時間に渡って２−エチルヘキサノールの形成速度
を追跡する。ＬＩＩＳＶ（単位時間当たりの液体の空間
速度）として、９９．９χの添加率について２．１７時
の値が達成される。２−エチルへキサノールの臭素価は
０．０５４である。
５０°Ｃでか焼する。縁部域の）γさは０．２４ｍｍで
ある。この触媒は０．３！（７７Ｃｕ、４．５χのＮｉ
、０．０７χのＣｒおよび０．０３χのＮａを含有して
いる。等温反応器中に存在する触媒９０ｇの還元を２０
０℃で水素にて行う。触媒を平衡状態にする為には、接
触反応させるべく １時間当たり０．５１の２−エチル
ヘキサナルを４８時間に渡って１５０“Ｃの温度および
４０ｂａｒの圧力で配量供給する。次いで循環案内法で
触媒活性の測定を行う。この目的の為に、上記の温度−
および圧力条件のもとて触媒に３：１の比で２−エチル
ヘキサノールと原料２−エチルヘキセナルとを添加する
。液状材料の横断面負荷量は３６ ｍ’／ｍ２／時であ
る。６時間に渡って２−エチルヘキサノールの形成速度
を追跡する。ＬＩＩＳＶ（単位時間当たりの液体の空間
速度）として、９９．９χの添加率について２．１７時
の値が達成される。２−エチルへキサノールの臭素価は
０．０５４である。
実茄朋」
含浸処理溶液を製造する為に、１３７ｇの硝酸ニッケル
六水和物、１９９ｇの硝酸銅三水和物、１１．２ｇのニ
クロム酸すトリウムニ水和物および２．８ｇの６５χ濃
度硝酸を、９２８ ｃｍ３の容積の金属塩溶液が生じる
ように水に溶解する。この溶液を１，７４４ ｇの１Ｚ
Ｏ３−顆粒の上に噴霧する。
六水和物、１９９ｇの硝酸銅三水和物、１１．２ｇのニ
クロム酸すトリウムニ水和物および２．８ｇの６５χ濃
度硝酸を、９２８ ｃｍ３の容積の金属塩溶液が生じる
ように水に溶解する。この溶液を１，７４４ ｇの１Ｚ
Ｏ３−顆粒の上に噴霧する。
乾燥およびか焼（４５０°Ｃ）を実施例１に従って行う
。このか焼した触媒は活性成分を担体中に均一に分布し
て含有している。金属含有量として３χのＣｕ、 １．
３ＸのＮｉ、 ０．２６χのＣｒおよび０．１１２のＮ
ａが検出される。実施例１に従う活性度試験のデータか
ら、９９．９χの転化率についてのＬｌｌＳｖは３．３
χ時に達する。２−エチル・＼キサノールの臭素価は０
．０４である。
。このか焼した触媒は活性成分を担体中に均一に分布し
て含有している。金属含有量として３χのＣｕ、 １．
３ＸのＮｉ、 ０．２６χのＣｒおよび０．１１２のＮ
ａが検出される。実施例１に従う活性度試験のデータか
ら、９９．９χの転化率についてのＬｌｌＳｖは３．３
χ時に達する。２−エチル・＼キサノールの臭素価は０
．０４である。
支施割」
実施例２と同様に、６．５χのＣｕ、３．１χの旧、０
゜６χのＣｒおよび０．２４χのＮａを含有する触媒を
製造し、試験する。９９４９χの転化率についてのＬ
ＩＩ Ｓ Ｖは６．８χ時でり、２−エチルヘキサノー
ルの臭素価は０．０１８である。
゜６χのＣｒおよび０．２４χのＮａを含有する触媒を
製造し、試験する。９９４９χの転化率についてのＬ
ＩＩ Ｓ Ｖは６．８χ時でり、２−エチルヘキサノー
ルの臭素価は０．０１８である。
プ局缶１０
実施例１と同様に、５，３χのＣｕ、５．４χのＮｉ、
２゜５×のＣｒおよび１．１χのＮａを含有する触媒を
製造し、試験する。９９．９χの転化率についてのＬＩ
ＩＳＶは１゜２χ時でり、２〜エチルヘキサノールの臭
素価は０゜０５５である。
２゜５×のＣｒおよび１．１χのＮａを含有する触媒を
製造し、試験する。９９．９χの転化率についてのＬＩ
ＩＳＶは１゜２χ時でり、２〜エチルヘキサノールの臭
素価は０゜０５５である。
此１旧舛
実施例１と同様に、５．８χのＣｕ、５．６ｚのＮｉお
よび２．９χのＣｒを含有する触媒を製造し、試験する
。
よび２．９χのＣｒを含有する触媒を製造し、試験する
。
９９．９χの転化率についてのＬＩＩＳＶは１．１χ時
でり、生成物の臭素価は０．１５である。
でり、生成物の臭素価は０．１５である。
本発明は特許請求の範囲に記載の２−エチルヘキサノー
ルの製造方法およびそれに使用する触媒に関するが、実
施の態様として以下を包含する： １） １４０〜１６０°Ｃ１殊に１４５〜１５５°Ｃの
温度で水素化する請求項１に記載の方法。
ルの製造方法およびそれに使用する触媒に関するが、実
施の態様として以下を包含する： １） １４０〜１６０°Ｃ１殊に１４５〜１５５°Ｃの
温度で水素化する請求項１に記載の方法。
２） ２０〜５０ｂａｒ 、殊に３０〜４０ｂａｒの圧
力で水素化する請求項１または上記１項記載の方法。
力で水素化する請求項１または上記１項記載の方法。
３）アルカリ金属成分を相応するニクロム酸塩によって
導入する請求項１または上記ｌまたは２項記載の方法。
導入する請求項１または上記ｌまたは２項記載の方法。
４）担体としてＳｉｎｇまたはＩ／！２０．を使用する
請求項１または上記１〜３項の何れか一つに記載の方法
。
請求項１または上記１〜３項の何れか一つに記載の方法
。
５）活性成分を担体中に均一に分布させる請求項１また
は上記１〜４項の何れか一つに記載の方法。
は上記１〜４項の何れか一つに記載の方法。
６）活性成分を担体の縁部域に分布させる請求項１また
は上記１〜４項の何れか一つに記載の方法。
は上記１〜４項の何れか一つに記載の方法。
７）担体としてＳｉＯ□または八１２０３を含有してい
る請求項２に記載の担持触媒。
る請求項２に記載の担持触媒。
８）活性成分が担体中に均一に分布している請求項２ま
たは上記７項に記載の触媒。
たは上記７項に記載の触媒。
９）活性成分が担体の縁部域に分布している請求項２ま
たは上記７項に記載の触媒。
たは上記７項に記載の触媒。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）Ｎｉ−触媒によって液相中で２−エチルヘキセナル
を水素化することによって２−エチルヘキサノールを製
造するに当たって、２−エチルヘキセナルを１２０〜１
８０℃の温度、１０〜１００ｂａｒの圧力のもとで、活
性成分として触媒を基準としてそれぞれ１５〜０．３重
量％（７）濃度のニッケルおよび銅、触媒を基準として
０．０５〜３．５重量％の濃度のクロムおよび触媒を基
準として０．０１〜１．６重量％の濃度のアルカリ金属
成分を含有する担持触媒によって水素化することを特徴
とする、上記２−エチルヘキサノールの製造方法。 ２）液相中で２−エチルヘキセナルを２−エチルヘキサ
ノールに水素化する担持触媒において、該触媒が、触媒
を基準としてそれぞれ１５〜０．３重量％の濃度のニッ
ケルおよび銅、触媒を基準として０．０５〜３．５重量
％の濃度のクロムおよび触媒を基準として０．０１〜１
．６重量％の濃度のアルカリ金属成分なる活性成分を含
有し、その際アルカリ金属成分が相応する二クロム酸塩
によってもたらされていることを特徴とする、上記担持
触媒。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3803464.6 | 1988-02-05 | ||
| DE19883803464 DE3803464A1 (de) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | Verfahren zur herstellung von 2-ethylhexanol durch hydrierung von 2-ethylhexenal in der fluessigphase und katalysator zu seiner herstellung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH021416A true JPH021416A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=6346705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1024129A Pending JPH021416A (ja) | 1988-02-05 | 1989-02-03 | 液相で２―エチルヘキセナルを水素化することによって２―エチルヘキサノールを製造する方法およびその製法に用いる触媒 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4968849A (ja) |
| EP (1) | EP0326674A3 (ja) |
| JP (1) | JPH021416A (ja) |
| CS (1) | CS72789A3 (ja) |
| DE (1) | DE3803464A1 (ja) |
| SU (1) | SU1739844A3 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5760946A (en) * | 1994-01-21 | 1998-06-02 | Fujitsu Limited | Optical isolator, faraday rotator suitable for use in the same, and laser diode module incorporating the same |
| JP2004196778A (ja) * | 2002-12-04 | 2004-07-15 | Mitsubishi Chemicals Corp | アルコールの製造方法 |
| JP2005279587A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Mitsubishi Chemicals Corp | 水添触媒およびその製造方法 |
| JP2020163334A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 日揮触媒化成株式会社 | ニッケル触媒及びその製造方法 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19842368A1 (de) * | 1998-09-16 | 2000-03-23 | Oxeno Olefinchemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von höheren Oxoalkoholen aus Olefingemischen durch zweistufige Hydroformylierung |
| DE19842371A1 (de) * | 1998-09-16 | 2000-03-23 | Oxeno Oelfinchemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von höheren Oxo-Alkoholen aus Olefingemischen |
| DE19842370A1 (de) | 1998-09-16 | 2000-03-23 | Oxeno Oelfinchemie Gmbh | Verfahren zur selektiven Hydrierung von Hydroformylierungsgemischen |
| RU2155180C1 (ru) * | 1999-04-26 | 2000-08-27 | Открытое акционерное общество "Завод бутиловых спиртов" | Способ получения 2-этилгексанола |
| EP1231194B1 (de) | 2001-02-10 | 2003-11-12 | Oxeno Olefinchemie GmbH | Herstellung von 1-Olefinen |
| DE10249912A1 (de) * | 2002-10-26 | 2004-05-06 | Oxeno Olefinchemie Gmbh | Benzoesäureisodecyclestergemische, Herstellung und deren Verwendung |
| DE10336097B3 (de) | 2003-08-06 | 2005-03-10 | Testo Ag | Visiereinrichtung für ein Radiometer sowie Verfahren |
| DE102004029732A1 (de) | 2004-06-21 | 2006-01-19 | Basf Ag | Hilfsmittel enthaltend Cyclohexanpolycarbonsäurederivate |
| ES2547913T3 (es) * | 2006-05-08 | 2015-10-09 | Virent, Inc. | Métodos para generar polioles |
| DE102009028976A1 (de) | 2009-08-28 | 2011-03-03 | Evonik Oxeno Gmbh | Ester der 2,5-Furandicarbonsäure mit isomeren Decanolen und ihre Verwendung |
| ES2554858T3 (es) | 2009-11-03 | 2015-12-23 | Styrolution Europe Gmbh | Composiciones termoplásticas con fluidez mejorada |
| PL2576674T3 (pl) | 2010-06-01 | 2015-02-27 | Basf Se | Sposób wytwarzania spienialnych kompozycji polimerów styrenowych |
| CN105175247B (zh) * | 2015-08-10 | 2017-07-28 | 成都永泰诺科技有限公司 | 一种2‑甲基丁酸的制备方法 |
| CN105001057B (zh) * | 2015-08-10 | 2017-05-03 | 湖北荆洪生物科技股份有限公司 | 一种2‑甲基丁醇的制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT271409B (de) * | 1966-06-25 | 1969-06-10 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung gesättigter Alkohole durch Hydrieren von Aldehyden oder Ketonen |
| US3991127A (en) * | 1967-03-18 | 1976-11-09 | Basf Aktiengesellschaft | Production of saturated aliphatic alcohols |
| US3886219A (en) * | 1969-01-14 | 1975-05-27 | Huels Chemische Werke Ag | Process for preparing saturated alcohols |
| DD150195A1 (de) * | 1980-04-30 | 1981-08-19 | Lothar Weisbach | Verfahren zur hydrierung von ethanal zu ethanol |
-
1988
- 1988-02-05 DE DE19883803464 patent/DE3803464A1/de not_active Withdrawn
- 1988-12-02 US US07/279,078 patent/US4968849A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-02 EP EP19880120105 patent/EP0326674A3/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-02-02 CS CS89727A patent/CS72789A3/cs unknown
- 1989-02-03 SU SU894613389A patent/SU1739844A3/ru active
- 1989-02-03 JP JP1024129A patent/JPH021416A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5760946A (en) * | 1994-01-21 | 1998-06-02 | Fujitsu Limited | Optical isolator, faraday rotator suitable for use in the same, and laser diode module incorporating the same |
| JP2004196778A (ja) * | 2002-12-04 | 2004-07-15 | Mitsubishi Chemicals Corp | アルコールの製造方法 |
| JP2005279587A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Mitsubishi Chemicals Corp | 水添触媒およびその製造方法 |
| JP2020163334A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 日揮触媒化成株式会社 | ニッケル触媒及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS72789A3 (en) | 1992-11-18 |
| SU1739844A3 (ru) | 1992-06-07 |
| US4968849A (en) | 1990-11-06 |
| DE3803464A1 (de) | 1989-08-17 |
| EP0326674A2 (de) | 1989-08-09 |
| EP0326674A3 (de) | 1991-07-03 |
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