JPH02145253A - ラップ盤の自己修正方法 - Google Patents
ラップ盤の自己修正方法Info
- Publication number
- JPH02145253A JPH02145253A JP63298183A JP29818388A JPH02145253A JP H02145253 A JPH02145253 A JP H02145253A JP 63298183 A JP63298183 A JP 63298183A JP 29818388 A JP29818388 A JP 29818388A JP H02145253 A JPH02145253 A JP H02145253A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lapping
- carrier
- rotation
- internal gear
- gear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 12
- 238000012937 correction Methods 0.000 abstract description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、ラップ定盤の修正方法に関し、詳細には中央
ギアとインターナルギアとの間に噛合されて自転すると
共に公転する複数のキャリアの回転方向に関するもので
あって、ラップ工程中において前記キャリアの自転方向
を逆転させるラップ盤の上下のラップ定盤の修正方法に
関するものである。
ギアとインターナルギアとの間に噛合されて自転すると
共に公転する複数のキャリアの回転方向に関するもので
あって、ラップ工程中において前記キャリアの自転方向
を逆転させるラップ盤の上下のラップ定盤の修正方法に
関するものである。
従来から知られている各種のラップ盤のなかでも中央ギ
アとインターナルギアが回転する事によってワークを担
持したキャリアを自転させると共に公転させ、このキャ
リアを上下の一方がらラップ定盤を圧着させたラップ盤
、或は、上下の両方からラップ定盤を圧着しながら回転
するようにしてなる所謂４ウ工イ駆動方式のラップ盤は
比較的精度が高く多用されているが、キャリアを継続し
て同一方向に自転及び公転させるときはキャリアの公転
の方向と同方向に回転するラップ定盤においてその外周
側よりも内周側の方が摩耗が激しく。
アとインターナルギアが回転する事によってワークを担
持したキャリアを自転させると共に公転させ、このキャ
リアを上下の一方がらラップ定盤を圧着させたラップ盤
、或は、上下の両方からラップ定盤を圧着しながら回転
するようにしてなる所謂４ウ工イ駆動方式のラップ盤は
比較的精度が高く多用されているが、キャリアを継続し
て同一方向に自転及び公転させるときはキャリアの公転
の方向と同方向に回転するラップ定盤においてその外周
側よりも内周側の方が摩耗が激しく。
キャリアの公転の方向と逆方向に回転するランプ定盤は
これに対して逆の外周側が摩耗する傾向があり、特に、
平面精度を必要とする精密ラップの場合にはこの摩耗差
による偏減りが重大な問題になっている。
これに対して逆の外周側が摩耗する傾向があり、特に、
平面精度を必要とする精密ラップの場合にはこの摩耗差
による偏減りが重大な問題になっている。
又、従来この様なラップ定盤の偏減りを修正するためラ
ップ作業を一時中断して上ラップ定盤と下ラップ定盤を
交換したり、キャリアの代わりに鋳鉄製の修正盤を用い
てラップ定盤を研磨しているが、ラップ作業の能率を低
下させており、又、特公昭６１−５８２７０号により開
示される角速度を変更しキャリアの自転方向を逆転させ
る方法があるが、同一方向に夫々のギアを回転させなが
ら逆転させるもので逆転する自転の速度が遅く。
ップ作業を一時中断して上ラップ定盤と下ラップ定盤を
交換したり、キャリアの代わりに鋳鉄製の修正盤を用い
てラップ定盤を研磨しているが、ラップ作業の能率を低
下させており、又、特公昭６１−５８２７０号により開
示される角速度を変更しキャリアの自転方向を逆転させ
る方法があるが、同一方向に夫々のギアを回転させなが
ら逆転させるもので逆転する自転の速度が遅く。
短時間での修正が困難であった。
本発明の目的は、ラップ作業中においてラップ盤の中央
ギアの回転を停止させ、キャリアの自転方向を逆転させ
る方法で、ラップ工程中にラップ定盤を交換すること無
く修正するもので、摩耗差による偏減りを修正し、且つ
、短時間での修正が達成できる方法を提供するものであ
る。
ギアの回転を停止させ、キャリアの自転方向を逆転させ
る方法で、ラップ工程中にラップ定盤を交換すること無
く修正するもので、摩耗差による偏減りを修正し、且つ
、短時間での修正が達成できる方法を提供するものであ
る。
以下本発明を図面に基づいて詳細に説明する。
第１図は中央ギアとインターナルギアが同一方向に回転
しインターナルギアの周速度が中央ギアの周速度より早
い場合のキャリアの自転及び公転の状態を説明する説明
図であり、第２図はその夫々のギアが同一方向に回転し
インターナルギアの周速度が中央ギアの周速度より遅い
場合のキャリアの自転及び公転の状態を説明する説明図
であり。
しインターナルギアの周速度が中央ギアの周速度より早
い場合のキャリアの自転及び公転の状態を説明する説明
図であり、第２図はその夫々のギアが同一方向に回転し
インターナルギアの周速度が中央ギアの周速度より遅い
場合のキャリアの自転及び公転の状態を説明する説明図
であり。
第３図は本発明の自己修正方法の実施時の状態を説明す
る説明図であり、図中のＡ〜Ｆ矢印は夫々の回転方向を
示すものである。
る説明図であり、図中のＡ〜Ｆ矢印は夫々の回転方向を
示すものである。
本発明は、ラップ定盤の修正方法に関し、詳細には中央
ギア１とインターナルギア２とへ噛合し、自転すると共
に公転するキャリア３の回転方向を修正するもので、一
定の同一方向に回転可能な中央ギア１とインターナルギ
ア２との間に複数のキャリア３を噛合させ、該夫々のキ
ャリア３は前記夫々ギア１．２によって自転と共に公転
をさせて。
ギア１とインターナルギア２とへ噛合し、自転すると共
に公転するキャリア３の回転方向を修正するもので、一
定の同一方向に回転可能な中央ギア１とインターナルギ
ア２との間に複数のキャリア３を噛合させ、該夫々のキ
ャリア３は前記夫々ギア１．２によって自転と共に公転
をさせて。
前記夫々のキャリア３へはワークを担持させて共に回転
し上下のラップ定盤に圧着されてなるラップ盤のラップ
定盤をラップ工程中に自己修正を行なう方法において、
前記インターナルギア２を一定方向に一定の周速度で回
転させながら、前記中央ギア１の周速度を前記インター
ナルギア２の周速度より早く回転させるラップ工程と、
前記中央ギア１の回転を停止させて前記キャリア３の自
転方向を逆転させるラップ工程を繰返してラップ定盤を
ラップ工程中に修正する方法である。
し上下のラップ定盤に圧着されてなるラップ盤のラップ
定盤をラップ工程中に自己修正を行なう方法において、
前記インターナルギア２を一定方向に一定の周速度で回
転させながら、前記中央ギア１の周速度を前記インター
ナルギア２の周速度より早く回転させるラップ工程と、
前記中央ギア１の回転を停止させて前記キャリア３の自
転方向を逆転させるラップ工程を繰返してラップ定盤を
ラップ工程中に修正する方法である。
即ち、通常的に実施されているラップ盤は第１図図示の
ように、下ラップ定盤を反時計方向Ｂへ回転させ、上ラ
ップ定盤は逆に時計方向Ａに回転しているもので、該上
下のラップ定盤の間へ圧着された中央ギア１とインター
ナルギア２の双方を反時計方向Ｃ，Ｄに回転させて、夫
々のギア１゜２の周速度はインターナルギア２の周速度
が中央ギア２の周速度より早く回転させて、該中央ギア
１とインターナルギア２との間へは複数のキャリア３を
噛合させているもので、キャリア３の自転方向Ｅ及び公
転方向Ｆは夫々反時計方向に回転させるでいるものであ
り、この場合、キャリア３の周速度と下ラップ定盤との
相対速度が最速と成るのはＸ点であり、従って、Ｘ点の
近傍が激しく摩耗するものであり、つまり、下ラップ定
盤の内周側が偏減りするものであり、通常のラップ工程
で内周側が偏減することは円周の長さ関係がらも偏減が
早く、再々修正しなければならなかった。
ように、下ラップ定盤を反時計方向Ｂへ回転させ、上ラ
ップ定盤は逆に時計方向Ａに回転しているもので、該上
下のラップ定盤の間へ圧着された中央ギア１とインター
ナルギア２の双方を反時計方向Ｃ，Ｄに回転させて、夫
々のギア１゜２の周速度はインターナルギア２の周速度
が中央ギア２の周速度より早く回転させて、該中央ギア
１とインターナルギア２との間へは複数のキャリア３を
噛合させているもので、キャリア３の自転方向Ｅ及び公
転方向Ｆは夫々反時計方向に回転させるでいるものであ
り、この場合、キャリア３の周速度と下ラップ定盤との
相対速度が最速と成るのはＸ点であり、従って、Ｘ点の
近傍が激しく摩耗するものであり、つまり、下ラップ定
盤の内周側が偏減りするものであり、通常のラップ工程
で内周側が偏減することは円周の長さ関係がらも偏減が
早く、再々修正しなければならなかった。
又、外周側を修正するには長時間が係るものであり、上
ラップ定盤はその条件が全て対称となるために下ラップ
定盤と同じ対称する位置が偏減し。
ラップ定盤はその条件が全て対称となるために下ラップ
定盤と同じ対称する位置が偏減し。
この場合、双方のランプ定盤は巨視的には内周側の陥没
した皿状と成るものである。
した皿状と成るものである。
本発明は、前記に鑑みて、上下のランプ定盤で圧着して
なるラップ盤のラップ工程おいて、例えば実施例の第２
図図示の如く、下ラップ定盤の回転方向Ｂは反時計方向
へ回転させ、上ラップ定盤の回転方向Ａは逆に時計方向
に回転させて、中央ギア１とインターナルギア２とを一
定の同一方向。
なるラップ盤のラップ工程おいて、例えば実施例の第２
図図示の如く、下ラップ定盤の回転方向Ｂは反時計方向
へ回転させ、上ラップ定盤の回転方向Ａは逆に時計方向
に回転させて、中央ギア１とインターナルギア２とを一
定の同一方向。
反時計方向Ｃ，Ｄに夫々回転させるものであるが、前記
中央ギア１の周速度を前記インターナルギア２の周速度
より早く回転させるものであり、夫々ギア１．２に噛合
し被加工物であるワークを担持させた複数のキャリア３
の回転方向Ｅ、Ｆは、反時計方向へ公転する共に時計方
向へ自転するものである。
中央ギア１の周速度を前記インターナルギア２の周速度
より早く回転させるものであり、夫々ギア１．２に噛合
し被加工物であるワークを担持させた複数のキャリア３
の回転方向Ｅ、Ｆは、反時計方向へ公転する共に時計方
向へ自転するものである。
この場合、キャリア３の自転する回転の周速度と下ラッ
プ定盤の自転する周速度との相対速度が最速となるのは
第２図図示のＹ点であり、該Ｙ点の近傍の下ラップ定盤
の摩耗が最も激しいもので。
プ定盤の自転する周速度との相対速度が最速となるのは
第２図図示のＹ点であり、該Ｙ点の近傍の下ラップ定盤
の摩耗が最も激しいもので。
つまり、下ラップ定盤の外周側に偏減するものであり、
又、上ラップ定盤はその条件が全て対称となるために下
ラップ定盤と同じ対称する位置が偏減し、双方のラップ
定盤は巨視的には内周側の突出した逆皿状と成るもので
ある。
又、上ラップ定盤はその条件が全て対称となるために下
ラップ定盤と同じ対称する位置が偏減し、双方のラップ
定盤は巨視的には内周側の突出した逆皿状と成るもので
ある。
本発明の通常のラップ工程は円周の長い外周側の偏減を
発生させながら行なうもので、偏減が発生するまでに長
時間を要し、その間は安定したラップが行なえるもので
ある。
発生させながら行なうもので、偏減が発生するまでに長
時間を要し、その間は安定したラップが行なえるもので
ある。
そして、ラップ工程中で、修正が必要となる適宜な間隔
で中央ギア１の回転を停止させると、第３図に図示の如
く、キャリア３の自転方向Ｅは時計方向と成り、７点の
消耗が最も激しくなり内周側が偏減し、双方のラップ定
盤を平坦にさせるもので円周が短い内周側のを修正させ
るもので短時間のうちに能率的に修正できものである。
で中央ギア１の回転を停止させると、第３図に図示の如
く、キャリア３の自転方向Ｅは時計方向と成り、７点の
消耗が最も激しくなり内周側が偏減し、双方のラップ定
盤を平坦にさせるもので円周が短い内周側のを修正させ
るもので短時間のうちに能率的に修正できものである。
本発明は前述の如く、通常のラップ工程では上下のラッ
プ定盤の外周側を消耗させて、修正は内周側を消耗させ
て行なうものであり、修正がラップ工程中に、然も、短
時間で行なえる効果を有するもので、極めて理想的な方
法である。
プ定盤の外周側を消耗させて、修正は内周側を消耗させ
て行なうものであり、修正がラップ工程中に、然も、短
時間で行なえる効果を有するもので、極めて理想的な方
法である。
第１図は中央ギアとインターナルギアが同一方向に回転
しインターナルギアの周速度が中央ギアの周速度より早
い場合のキャリアの自転及び公転の状態を説明する説明
図である。第２図はその夫々のギアが同一方向に回転し
インターナルギアの周速度が中央ギアの周速度より遅い
場合のキャリアの自転及び公転の状態を説明する説明図
である。 第３図は本発明の自己修正方法の実施時の状態を説明す
る説明図である。 １−中央ギア、２−インターナルギア、３−キャリア。 Ａ−上ラップ定盤の回転方向、Ｂ−下ランプ定盤の回転
方向、Ｃ−インターナルギアの回転方向り一中央ギアの
回転方向、Ｅ−キャリアの自転する回転方向、Ｆ−キャ
リアの公転する回転方向。
しインターナルギアの周速度が中央ギアの周速度より早
い場合のキャリアの自転及び公転の状態を説明する説明
図である。第２図はその夫々のギアが同一方向に回転し
インターナルギアの周速度が中央ギアの周速度より遅い
場合のキャリアの自転及び公転の状態を説明する説明図
である。 第３図は本発明の自己修正方法の実施時の状態を説明す
る説明図である。 １−中央ギア、２−インターナルギア、３−キャリア。 Ａ−上ラップ定盤の回転方向、Ｂ−下ランプ定盤の回転
方向、Ｃ−インターナルギアの回転方向り一中央ギアの
回転方向、Ｅ−キャリアの自転する回転方向、Ｆ−キャ
リアの公転する回転方向。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一定の同一方向に回転可能な中央ギアとインターナル
ギアとの間に複数のキャリアを噛合させ、該夫々のキャ
リアは前記夫々ギアによって自転と共に公転をさせて、
前記夫々のキャリアへはワークを担持させて共に回転し
上下のラップ定盤に圧着されてなるラップ盤のラップ定
盤をラップ工程中に自己修正を行なう方法において、 前記インターナルギアを一定方向に一定の周速度で回転
させながら、前記中央ギアの周速度を前記インターナル
ギアの周速度より早く回転させるラップ工程と、前記中
央ギアの回転を停止させて前記キャリアの自転方向を逆
転させるラップ工程を繰返してラップ定盤をラップ工程
中に修正することを特徴とするラップ盤の自己修正方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63298183A JPH02145253A (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | ラップ盤の自己修正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63298183A JPH02145253A (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | ラップ盤の自己修正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02145253A true JPH02145253A (ja) | 1990-06-04 |
Family
ID=17856291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63298183A Pending JPH02145253A (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | ラップ盤の自己修正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02145253A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5697832A (en) * | 1995-10-18 | 1997-12-16 | Cerion Technologies, Inc. | Variable speed bi-directional planetary grinding or polishing apparatus |
| KR20120023741A (ko) * | 2009-06-04 | 2012-03-13 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 판 형상체의 연마 방법 |
| CN105773422A (zh) * | 2015-01-14 | 2016-07-20 | 硅电子股份公司 | 用于修整抛光垫的方法 |
-
1988
- 1988-11-28 JP JP63298183A patent/JPH02145253A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5697832A (en) * | 1995-10-18 | 1997-12-16 | Cerion Technologies, Inc. | Variable speed bi-directional planetary grinding or polishing apparatus |
| KR20120023741A (ko) * | 2009-06-04 | 2012-03-13 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 판 형상체의 연마 방법 |
| CN105773422A (zh) * | 2015-01-14 | 2016-07-20 | 硅电子股份公司 | 用于修整抛光垫的方法 |
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