JPH02145459A - 複写機用ガラスおよびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は複写機、ことに自動原稿給紙タイプの複写機に
おける原稿送り部で用いる複写機用ガラスの製造方法に
関し、さらに詳しくは紙等を送る際摺擦することにより
発生する静電気の支障を防止し、かつ表面滑性および光
透過性の優れた複写機用ガラスの製造方法に関するもの
である。

［従来技術とその解決しようとする課題］通常、自動原
稿給紙タイプの複写機の紙送り機構は、原稿送り出しの
一対のロールと、そのロールと同期駆動するロールによ
ってゴムベルトをガラス板上で回転することにより、原
稿が自動的にガラス板上に搬送されていくようになって
いる。

通常使用中、常にベルトとガラス板とは密接した状態に
あり、このため原稿給紙時には、原稿とガラス板、ガラ
ス板とゴムベルトとの間に摩擦による静電気が発生する
が、ゴムベルトおよびガラス板とも絶縁物であり帯電し
た静電気を除去することができず、ガラス板とゴムベル
ト間に多量の静電気が帯電し、この静電気により紙送り
がスムーズにいかず、紙詰り、塵埃付着によるコピー不
良等のトラブルが発生しやすい。特に高速複写機におい
てこのような傾向が著しく、種々の対策がなされている
。

例えば、ガラス板に帯電防止処理を施したものとして、
実開昭５６−１５９３４５号公報には、複写機の原稿載
置ガラスが記載され、ガラス板の受光面に透明導電層を
積層し、この透明導電層を接地したことによって、静電
気を帯びた塵埃が原稿載置ガラスに付着することなく、
常に良好なコピーが得られるようにすることが示されて
いる。また、特開昭５７−９０６６８号公報には、透明
ガラスからなる原稿載置面に透明な静電気防止処理を施
すことにより、原稿の搬送あるいは搬送ベルトの走行時
に生じる摩擦帯電による原稿の搬送不良を防止すること
が示されている しかし、これら従来のガラス表面処理方法は、帯電防止
の効果と表面滑性の両者を同時に満足させたものではな
く、紙詰り対策としては十分ではない。

これらのことから、当山願人は特開昭６３−２３３０２
０号において、ガラス板の原稿給紙面側あるいはそのも
う一方面側のうち、すくなくとも片面に帯電防止層を３
００〜１５００人の厚さで設け、かつ原稿給紙面側の紙
接触面に少な（とも表面滑性層を３００〜２０００人の
厚さで設けてなることを特徴とする複写機用ガラスおよ
びその製造方法を開示し、複写機用ガラスの表面の静電
防止効果および滑性の優れた複写機用ガラスについての
提案を行った。

その後、本出願人はさらに塗布法による複写機用ガラス
の製造につき、光学的条件を主体に検討を進め、問題と
なる可視光線の透過率が高く、かつ表面抵抗および表面
滑性の優れた複写機を得るための方法についての検討を
行った。

ｃ問題点を解決するための具体的手段］本発明者らはか
かる従来法の問題点に鑑み、鋭意検討の結果、ガラス表
面に特定化学組成の塩素を含有するインジウムアルコキ
シドおよびスズアルコキシドを特定の割合で混合し、塗
布、焼成した後、その上にシラン系の薬液を塗布、乾燥
することにより、光透過性が優れ、かつ表面滑性、表面
抵抗率も共に優れた複写機用ガラスが得られることを見
いだし本発明に到達したものである。

すなわち本発明は、一般式Ｉｎ（ＯＲＩ））ｃ　Ｃ１お
Ｋ（ただし、Ｒ１は炭素数２〜６のアルキル基またはア
ルコキシアルキル基を示し、１．８≦ｘ≦２．７）で示
される塩素含有インジウムアルコキシドと、一般式５ｎ
（ＯＲｘ）ｙｃ１＊−７（ただし、Ｒ，は炭素数２〜６
のアルキル基またはアルコキシアルキル基を示し、２，
５≦ｙ≦３．８）で示される塩素含有スズアルコキシド
が、Ｉｎ／Ｓｎのモル比で８７／１３≦Ｉｎ／Ｓｎ≦９
６７４の割合で混合された濃度０．０１５〜０．０８ｍ
ｏｌ＃！の溶液が塗布された導電層およびメチル基を含
有する有機けい素化合物の溶液が塗布された滑性層が順
次板ガラスの表面に被覆されてなる複写機用ガラスおよ
びガラス基板上に、上記組成の塩素含有アルコキシドを
塗布し、３５０〜５５０℃で乾燥、焼成して成膜し、そ
の表面にメチル基を含有する有機けい素化合物の溶液を
塗布、乾燥することを特徴とする複写機用ガラスの製造
方法である。

本発明で用いる板ガラスとしては、通常の板ガラスでよ
いが、好ましくは化学強化あるいは風冷強化ガラスを用
いる。また、光透過率ができるだけ高いもの、具体的に
は厚さ４１以下で８９％以上の光透過率を有するものが
好ましい。

通常のガラス板を用いた場合、本発明の方法により塗布
、焼成した後、風冷により強化ガラスとすることもでき
る。

本発明で用いられる一般式Ｉｎ（ＯＲ，）　、ＣＩ、−
ＸまたはＳｎ　（ＯＲｚ　）γＣｌ４１中のアルキル基
のＲ，、Ｒ，は炭素数２〜６であるが、両者とも特にイ
ソプロピル基、ブチル基、またはエチレングリコールモ
ノエチルエーテルのようなアルコキシアルキル基が好ま
しい。上記塩素含有アルコキシドはどのような製造方法
により製造されたものでも、均一な組成を持つものなら
使用でき、ＩｎＣｌ３．５ｎＣ１４をＯＲ，、ＯＲ２に
対応するアルコール中に溶解した後、アルカリ金属また
はアルカリ金属アルコキシドを特定量添加して生成する
塩を除去し、本発明の組成になるようにしたものでもよ
（、上記ＩｎＣｌ３．５ｎＣ１，とＩｎ（ＯＲ）３．５
ｎ（ＯＲ）ａ等の完全置換型アルコキシドを本発明の組
成になるように混合し、加熱、攪拌により均一組成にな
るようにしたものでもよい。

本発明の塗布溶液中の塩素含有スズアルコキシドと塩素
含有インジウムアルコキシドの濃度は、その合計が０．
０１５〜０．０８＋＊ｏｌ／　１が好ましい。両者の濃
度合計が０．０１５　ｍｏｌ／Ｊ未満の場合、塗布する
膜の厚さが薄すぎるため、均一な厚さの膜が形成しにく
く、再現性のある電気的特性の膜が得られない、一方、
濃度が０．０８ｍｏｌ／１を越えると電気的特性に大き
な変化はないが、８００Å以下の膜厚のものを得ること
が難しくなり、そのため可視光線の透過率が低下するた
め、好ましくない。

本発明で使用される組成の導電膜形成用組成物は非常に
ポットライフが長く、普通の保存状態では数カ月以上、
加水分解を起こさず、沈殿等を生じないという大きな長
所を持つ、上記溶液は、普通金属アルコキシドを生成さ
せる時に用いたアルコール中に溶解しているが、この溶
液をさらに溶媒によって希釈してもよく、希釈溶媒とし
てヘキサン、ヘプタン等の炭化水素、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、ｎ−プロパツール、
ｌ−プロパツール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール等
のアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステ
ル、ジエチルケトン、アセトン等のケトン類、エチレン
グリコールモノエチルエーテル等のエーテル、　ＴＨＦ
、クロロホルム等で稀釈した後、種々の条件で成膜する
ことができる。

本発明に用いる塗布液中のインジウムとスズのモル比は
、８７／１３≦Ｉｎ／Ｓｎ≦９６７４の範囲がよい。

表面抵抗の最も低い値は、上記モル比の範囲内にあり、
最低値を中心にその組成からずれるに従い、表面抵抗値
はしだいに大きくなる。一方、可視光線透過率は、Ｉ　
ｎ／Ｓｎ　（モル比）が増加するに従って小さくなり、
上記範囲内でほぼ飽和値となる。

従って、Ｉｎ／Ｓｎ（モル比）が８７／１３より小さい
場合、表面抵抗値は増加し、可視光線透過率は減少し、
特に可視光線透過率が低すぎる値となり、好ましくない
。Ｉｎ／Ｓｎ（モル比）が９６／４より大きい場合、可
視光線透過率は大きく変わらないが、表面抵抗値が大き
すぎるため、好ましくない。

塗布する方法としては、スプレー法、ロールコート法、
スクリーン印刷、スピンコード法、浸漬法を用いて成膜
することができるが、浸漬法、ロールコート法が好まし
い。

塗布時の温度、湿度などの条件は、加水分解速度に大き
く影響するので、厳重な管理が必要である。

上記方法で成膜した後、約ｌＯ分〜１時間室温放置して
もよく、そのまま加熱装置に入れ、昇温することにより
、乾燥と焼成を同時に行ってもよい。

上記工程において、昇温速度は非常に重要であり、ｌＯ
℃／ｗｉｎ以内でゆっくり加熱することにより緻密で光
透過性の優れた膜が得られるが、昇温速度がそれより速
い場合、微細クラックの原因となり、好ましくない、焼
成温度は本発明に示すように３５０〜５５０℃が好まし
く、４５０〜５２０℃がより好ましい、この温度範囲内
で乾燥、焼成を行うことにより、アルコキシドが完全に
酸化分解されてＩＴＯの組成となり、被膜の表面抵抗値
が低く、耐久性にも優れたものとなる。焼成温度が３５
０°Ｃより低い場合、アルコキシドが完全に分解して酸
化物とならないため、形成された膜は耐久性に劣り表面
抵抗値も十分低いものとならない、一方、焼成温度が５
５０℃を越えた場合、基板となるガラスが歪む現象等が
おこり、好ましくない。

上記条件で成膜することにより、膜厚が２０９〜８００
人の可視光線透過率の高い、優れた透明導電膜となる。

上述のような方法により、形成されたＩＴ口組成の膜の
表面に、さらにメチル基を含有する有機けい素化合物の
溶液を塗布、乾燥することにより滑性層を設け、潤滑性
を改善する。

本発明で使用されるメチル基を含有する有機けい素化合
物としては、メチル基を含むものなら何でも使用でき、
例えばアルコキシシラン、クロルシラン、クロルフルオ
ロシラン、シラノール、シラン、シリコンイソシアナー
ト、フルオロシラン、シリコンオイル等が挙げられるが
、その中でもアルコキシシラン、シリコンイソシアナー
ト、シリコンオイル等が好ましい。

これらの有機けい素化合物の溶液は、種々の溶媒中に溶
解して使用することができ、例えばヘキサン、ヘプタン
等の炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素、ｎ−プロパツール、ｉ−プロパツール、ｎ
−フタノール、ｉ−ブタノール等のアルコール、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等の酢酸エステル、ジエチルケトン、
アセトン等のケトン類、エチレングリコールモノエチル
エーテル等のエーテル、ＴＨＦ、クロロホルム等で希釈
した後、塗布、乾燥して成膜する。

この場合、有機けい素化合物の濃度は、０．０３〜０．
８　ｍｏ１／ｌが好ましく、濃度が０．０３ｍｏｌ／　
１より小さい場合、表面の潤滑性が十分に上がらず、一
方０．８　ｍｏｌ／ｊ！より大きい場合、潤滑性は上が
るが表面の抵抗値は減少し、十分な帯電防止効果が得ら
れない。また上記溶液の塗布方法としては、手塗り、ス
プレー法、ローラーコート法、スクリーン印刷、スピン
コード法、浸漬法が使用できるが、手塗り、ローラーコ
ート法が好ましく、特に滑性膜を形成させる場合、これ
により表面の帯電防止効果が減少しないよう、十分薄い
膜を形成させる必要があるため、塗布液を脱脂綿、ガー
ゼ等に含ませ軽く表面に塗布する程度の方法が薄い膜を
形成させる場合には以外と有利な方法である。

このような方法により塗布された後、６０〜２００℃の
温度で１０分以上乾燥することにより、潤滑性を有する
膜が形成される。乾燥温度が６０°Ｃより低い場合、溶
媒が十分に揮散しないため膜の強度が弱く、剥がれたり
、摩耗しやすくなり、一方２００°Ｃより高い場合、潤
滑性が減少し始め、十分な滑性を有さないものとなる。

上述のような方法により得られた複写機用ガラスは、可
視光線透過率が８７％以上（５００ｒ＋ｎ）　、静摩擦
係数がμｓ　＝０．３５以下、表面抵抗値が１０００　
ＫΩ／口以下となり、帯電防止作用を有し且つ可視光線
透過率の非常に高い複写機用ガラスとなる。

［実施例］ 本発明を実施例により具体的に説明する。

実施例Ｉ Ｉｎ（０−ｎ−Ｂｕ）　２Ｃ１と５ｎ（０４ｔ）ａ　Ｃ
１をＩｎ／Ｓｎ（モル比）＝　９５１５、両アルコキシ
ドの濃度の合計を０．０２５ｍｏｌ／ｌになるよう原料
およびイソプロピルアルコールと酢酸−〇−プロピルの
１対１の溶媒を用いて調整し、これを塗布溶液とした。

次に、塗布用のガラス基板として３３０　Ｘ４８０　Ｘ
　４　（ｍｍ）のフロート厚板ガラスを中性洗剤および
セリア等で十分洗浄した後、純水で再び洗浄、乾燥して
用いた。

塗布方法は浸漬法を用いて行い、引き上げ速度０．４　
ｃｍ／ｓｅｅで引き上げた後、５００°Ｃまで１．５時
間で昇温し、３０分間焼成した。その後、この基板を常
温まで自然冷却し、アルコキシシラン［Ｓｉｌｌ（Ｍｅ
）（０−Ｅｔ）２］（濃度０．２　ｍｏｌ＃！　）の溶
液をガーゼにしみこませ後、表面を軽くふくことにより
塗布し、６０°Ｃで２０分間乾燥させてサンプルとした
。用いた塗布液の化学式においてで、ｎＢｕはｎ−ブチ
ル基、Ｅｔはエチル基、Ｍｅはメチル基を表わす。

可視光線透過率は、島津製作所のＵＶ３６５を用いて４
８０〜７８００ＩＩの範囲で測定したが、５００ｎｍの
値を代表値として示すと、この場合８９．６％であった
。

表面抵抗値は、横河−ヒューレットパッカード社製５ｕ
ｒｆａｃｅ　Ｒｅ５ｉｓｔａｎｃｅ　Ｍｅｔｅｒを用い
て測定したところ、１００〜５００にΩ／口であった。

また、静摩擦係数は次のようにして決定した、すなわち
低面が１００　Ｘ１００　　（ａｍ）で重さ１００　ｇ
の分銅を載置した１００　Ｘ１００　（−ｍ）のコピー
紙を複写機用ガラスの上に置き、０．２ｃｍ／ｓｅｃの
等速で一端を持ち上げ、分銅がすべりはじめた時の台と
複写機用ガラスの角度θより、静摩擦係数μ５＝ｔａｎ
θを求めた。

μｓ　＝０．０５〜０，１３であった。本実施例により
得られた複写機用ガラスを市販の複写機にセットし、Ａ
ＤＦ装置で１００００枚コピーをし、その後テスト前と
同様に可視光線透過率（Ｔ）、表面抵抗値（Ｒｓ）、静
摩擦係数（μＳ）を測定したところ、Ｔ＝８９．５〜８
８．９％、Ｒｓ＝２００〜５０ＱＫΩ／口、ｕｓ　＝Ｏ
，０７〜０．１４とその値もテスト前とほとんど変わら
ず、本実施例により作成した複写機用ガラスが、十分耐
久性のあるものであることが分かった。

実施例２〜４ インジウムおよびスズの塩素含有アルコキシドの組成、
モル比、合計濃度および塗布法を変化させ、実施例１と
同様にしてＩＴＯ膜をガラス板の上に形成した後滑性膜
形成用の塗布液も変化させ、種々の塗布法により塗布し
た後、乾燥を行い複写機用ガラスとした。これら各実施
例でのそれぞれの塗布液の種々の条件、塗布条件、作成
された複写機用ガラスの物性、耐久性についての結果を
第１表に示す。なお耐久性については、実施例１と同様
のテストを行い、可視光線透過率、表面抵抗値、静摩擦
係数を測定して、その値がほとんど変ねらず使用には支
障ないものをＯｌそのうちどれかの値が変化して使用に
支障をきたすものを×しして表わした。

参考例１ 実施例１で用いたものと同じ板ガラスを用い、その表面
に市販のガラスクリーナーを吹き付け、乾拭きしたもの
の物性を第１表にしめす。

比較例１〜フ インジウムおよびスズの塩素含有アルコキシドの組成、
モル比、合計濃度および塗布法を変化させ、実施例１と
同様にしてＩＴＯ膜をガラス板の上に形成した後滑性膜
形成用の塗布液も変化させ、種々の塗布法により塗布し
た後、乾燥を行い複写機用ガラスとした。これら各実施
例でのそれぞれの塗布液の種々の条件、塗布条件、作成
された複写機用ガラスの物性、耐久性についての結果を
第１表に示す、ただし、比較例７においては、帯電膜形
成の際の焼成温度を３００°Ｃ１３０分、比較例８にお
いては、滑性層形成の際の乾燥温度を２５０°Ｃで行っ
たものである。

〔発明の効果］ 本発明の複写機用ガラスは、塩素含有アルコキシドを塗
布液として作成したＩＴＯ組成金属酸化物膜で、可視光
線透過率の優れた帯電防止層であり、該金属酸化物層の
上にメチル基を含む有機けい素化合物の溶液を塗布液と
した薄膜の滑性層が設けられているため、可視光線透過
率、表面抵抗、静摩擦係数のいずれにも優れ、このため
自動給紙の際の帯電を完全に防止できるだけでなく、紙
の滑りを良好とするため、紙詰りを確実に防ぐことがで
きるものである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式Ｉｎ（ＯＲ＿１）＿ｘＣｌ＿３＿−＿ｘ（
   ただし、Ｒ＿１は炭素数２〜６のアルキル基またはアル
   コキシアルキル基を示し、１．８≦ｘ≦２．７）で示さ
   れる塩素含有インジウムアルコキシドと、一般式Ｓｎ（
   ＯＲ＿２）＿ｙＣｌ＿４＿−＿ｙ（ただし、Ｒ＿２は炭
   素数２〜６のアルキル基またはアルコキシアルキル基を
   示し、２．５≦ｙ≦３．８）で示される塩素含有スズア
   ルコキシドが、Ｉｎ／Ｓｎのモル比で８７／１３≦Ｉｎ
   ／Ｓｎ≦９６／４の割合で混合された濃度０．０１５〜
   ０．０８ｍｏｌ／ｌの溶液が塗布された導電層およびメ
   チル基を含有する有機けい素化合物の溶液が塗布された
   滑性層が順次板ガラスの表面に被覆されてなる複写機用
   ガラス。
2. （２）ガラス基板の表面に、一般式Ｉｎ（ＯＲ＿１）＿
   ｘＣｌ＿３＿−＿ｘ（ただし、Ｒ＿１は炭素数２〜６の
   アルキル基またはアルコキシアルキル基を示し、１．８
   ≦ｘ≦２．７）で示される塩素含有インジウムアルコキ
   シドと、一般式Ｓｎ（ＯＲ＿２）＿ｙＣｌ＿４＿−＿ｙ
   （ただし、Ｒ＿２は炭素数２〜６のアルキル基またはア
   ルコキシアルキル基を示し、２．５≦ｙ≦３．８）で示
   される塩素含有スズアルコキシドが、Ｉｎ／Ｓｎのモル
   比で８７／１３≦Ｉｎ／Ｓｎ≦９６／４の割合で混合さ
   れた濃度０．０１５〜０．０８ｍｏｌ／ｌの溶液を塗布
   し、３５０〜５５０℃で乾燥、焼成して成膜した後、そ
   の表面にメチル基を含有する有機けい素化合物の溶液を
   塗布、乾燥することを特徴とする複写機用ガラスの製造
   方法。