JPH02146718A - 電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法 - Google Patents
電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法Info
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- JPH02146718A JPH02146718A JP8209689A JP8209689A JPH02146718A JP H02146718 A JPH02146718 A JP H02146718A JP 8209689 A JP8209689 A JP 8209689A JP 8209689 A JP8209689 A JP 8209689A JP H02146718 A JPH02146718 A JP H02146718A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製
造方法に関する。
造方法に関する。
従来の技術及び課題
アルミニウム電解コンデンサ用電極材として一般に用い
られるアルミニウム箔には、その実効面積を拡大して単
位面積当りの静電容量を増大するため、一般に電気化学
的あるいは化学的エツチング処理が施される。しかし、
箔を単にエツチング処理するのみでは十分な静電容量を
得られなかった。
られるアルミニウム箔には、その実効面積を拡大して単
位面積当りの静電容量を増大するため、一般に電気化学
的あるいは化学的エツチング処理が施される。しかし、
箔を単にエツチング処理するのみでは十分な静電容量を
得られなかった。
また、本出願人は先に、アルミニウム箔表面に一定厚さ
の結晶化したγ−ＡΩ２０３皮膜を形成することでエツ
チング性能を改善した電解コンデンサ用アルミニウム材
料を提案した（特公昭５８−３４９２５号）。この材料
によれば、エツチング後の箔の表面積を拡大しえ、ひい
ては静電容量の増大か可能となるものであった。
の結晶化したγ−ＡΩ２０３皮膜を形成することでエツ
チング性能を改善した電解コンデンサ用アルミニウム材
料を提案した（特公昭５８−３４９２５号）。この材料
によれば、エツチング後の箔の表面積を拡大しえ、ひい
ては静電容量の増大か可能となるものであった。
ところか、この材料によってもなお、昨今の電解コンデ
ンサの高静電容量化の要求に対してこれを十分に満足す
ることができない場合かあった。
ンサの高静電容量化の要求に対してこれを十分に満足す
ることができない場合かあった。
この発明は、かかる事情に鑑みてなされたちのであって
、エツチング性能に優れ、ひいては高静電容量を確実に
得ることのできる電解コンデンサ用アルミニウム材料の
提供を目的とするものである。
、エツチング性能に優れ、ひいては高静電容量を確実に
得ることのできる電解コンデンサ用アルミニウム材料の
提供を目的とするものである。
課題を解決するための手段
電解コンデンサ用アルミニウム箔は、一般に、溶解・鋳
造、熱間圧延、冷間圧延、箔圧延、最終焼鈍の各工程の
順次的実施により製作される。
造、熱間圧延、冷間圧延、箔圧延、最終焼鈍の各工程の
順次的実施により製作される。
このうち、最終焼鈍では再結晶化が起るが、立方体方位
を多く有する集合組織にするため、従来、５００℃以上
の高温で行われていた。面して、発明者は上記目的を達
成するために鋭意研究の結果、最終焼鈍でアルミニウム
箔表面に形成される酸化皮膜の形成とその時の箔の組織
との関係が、エツチング性能の向上ひいては静電容量の
増大化に対し非常に重要であることを知見した。即ち、
エツチングによるピットの発生位置は焼鈍の比較的初期
に存在する箔のセルまたはサブグレイン上に対応してお
り、このためエツチングピットを多くして拡面率を向上
するためには、セルまたはサブグレインのサイズを小さ
くしてその数を増大すれば良いが、エツチングピット形
成の核となるためにはそれだけでは足らずセルまたはサ
ブグレインサイズが小さい段階での箔表面の酸化皮膜が
５〜５０人の範囲でなければならず、かつその後にさら
に付与される酸化皮膜ができるだけ薄いことが必要であ
ることがわかった。
を多く有する集合組織にするため、従来、５００℃以上
の高温で行われていた。面して、発明者は上記目的を達
成するために鋭意研究の結果、最終焼鈍でアルミニウム
箔表面に形成される酸化皮膜の形成とその時の箔の組織
との関係が、エツチング性能の向上ひいては静電容量の
増大化に対し非常に重要であることを知見した。即ち、
エツチングによるピットの発生位置は焼鈍の比較的初期
に存在する箔のセルまたはサブグレイン上に対応してお
り、このためエツチングピットを多くして拡面率を向上
するためには、セルまたはサブグレインのサイズを小さ
くしてその数を増大すれば良いが、エツチングピット形
成の核となるためにはそれだけでは足らずセルまたはサ
ブグレインサイズが小さい段階での箔表面の酸化皮膜が
５〜５０人の範囲でなければならず、かつその後にさら
に付与される酸化皮膜ができるだけ薄いことが必要であ
ることがわかった。
この発明は、かかる知見に基いてなされたものであり、
電気化学的あるいは化学的エツチング処理を施す前に、
アルミニウム箔の表面にその平均セルまたはサブグレイ
ンサイズが１０μｍ以下の状態のうちに厚さ５〜５０人
の酸化皮膜を形成する工程と、その後酸化皮膜の合計厚
さが７０人を超えない範囲で高温加熱処理する工程とを
経ることにより上記課題を解決しえたものである。
電気化学的あるいは化学的エツチング処理を施す前に、
アルミニウム箔の表面にその平均セルまたはサブグレイ
ンサイズが１０μｍ以下の状態のうちに厚さ５〜５０人
の酸化皮膜を形成する工程と、その後酸化皮膜の合計厚
さが７０人を超えない範囲で高温加熱処理する工程とを
経ることにより上記課題を解決しえたものである。
上記アルミニウム箔は、純度９９．９９％の高純度のも
のが望ましいか、これに限定されるものではなく、電解
コンデンサ用に使用される範囲内の純度のものであれば
良い。
のが望ましいか、これに限定されるものではなく、電解
コンデンサ用に使用される範囲内の純度のものであれば
良い。
箔圧延後の焼鈍工程において、アルミニウム箔の表面に
初期に形成される酸化皮膜が５〜５０人に限定されるの
は、この範囲の膜厚を確保することで、箔表面のセルま
たはサブグレインに対応する位置に、皮膜欠陥からなる
エツチングピットの核を有効に形成しうるからである。
初期に形成される酸化皮膜が５〜５０人に限定されるの
は、この範囲の膜厚を確保することで、箔表面のセルま
たはサブグレインに対応する位置に、皮膜欠陥からなる
エツチングピットの核を有効に形成しうるからである。
特に好ましくは１５〜４５人とするのが良い。
また、この酸化皮膜の形成工程において、アルミニウム
箔のセルまたはサブグレインの平均サイズが１０μｍ以
下に限定されるのは、セルまたはサブグレインのサイズ
を小さくしてその数を増大せしめ拡面率の向上ひいては
静電容量の増大を図るためである。特に５μｍ以下とす
るのが好ましい。セルまたはサブグレインの平均サイズ
が１０μｍ以下のうちに厚さ５〜５０人の酸化皮膜を形
成せしめる具体的方法としては、例えば箔圧延後のセル
またはサブグレインの平均サイズが１０μｍ以下である
アルミニウム箔を、水分または酸素を含有する大気ある
いはＡｒ雰囲気等で低温加熱する方法を挙げうる。ここ
て、アルミニウム箔のセルまたはサブグレインの平均サ
イズを１０μｍ以下の微小なものに規制するための方法
としては箔圧延で箔の温度を極力低くし、例えば巻き上
りコイルの温度を１５０℃以下に抑制するとか、圧延速
度を遅くするとか、圧延油を多量にかける等の方法を挙
げうる。また厚さ５〜５０人の酸化皮膜を形成するため
の前記の低温加熱において、雰囲気中の水分（Ｈ２０）
量は０．ＯＩＫ’ｊ／に’ｊ以上とするのが良く、水分
回が多いほど短時間で所期する膜厚が得られる。また低
温加熱時の加熱温度が低いほどセルまたはサブグレイン
のサイズを小さく保持しうるが、加熱時間が長くなるた
め実際には４０〜１８０℃程度に設定して行うのが良い
。１８０℃を超えるとセルまたはサブグレインのサイズ
が大きくなり、その平均サイズ１０μｍ以下の要件を逸
脱する可能性がある。
箔のセルまたはサブグレインの平均サイズが１０μｍ以
下に限定されるのは、セルまたはサブグレインのサイズ
を小さくしてその数を増大せしめ拡面率の向上ひいては
静電容量の増大を図るためである。特に５μｍ以下とす
るのが好ましい。セルまたはサブグレインの平均サイズ
が１０μｍ以下のうちに厚さ５〜５０人の酸化皮膜を形
成せしめる具体的方法としては、例えば箔圧延後のセル
またはサブグレインの平均サイズが１０μｍ以下である
アルミニウム箔を、水分または酸素を含有する大気ある
いはＡｒ雰囲気等で低温加熱する方法を挙げうる。ここ
て、アルミニウム箔のセルまたはサブグレインの平均サ
イズを１０μｍ以下の微小なものに規制するための方法
としては箔圧延で箔の温度を極力低くし、例えば巻き上
りコイルの温度を１５０℃以下に抑制するとか、圧延速
度を遅くするとか、圧延油を多量にかける等の方法を挙
げうる。また厚さ５〜５０人の酸化皮膜を形成するため
の前記の低温加熱において、雰囲気中の水分（Ｈ２０）
量は０．ＯＩＫ’ｊ／に’ｊ以上とするのが良く、水分
回が多いほど短時間で所期する膜厚が得られる。また低
温加熱時の加熱温度が低いほどセルまたはサブグレイン
のサイズを小さく保持しうるが、加熱時間が長くなるた
め実際には４０〜１８０℃程度に設定して行うのが良い
。１８０℃を超えるとセルまたはサブグレインのサイズ
が大きくなり、その平均サイズ１０μｍ以下の要件を逸
脱する可能性がある。
加熱時間は、膜厚５Å以上を確保するためには１時間程
度以上とするのが良く、例えば４時間程度で約２５人の
膜厚が得られる。かかる低温加熱は１段のみ実施しても
良いが、加熱温度や加熱時間を異にした２段以上の工程
で行っても良い。
度以上とするのが良く、例えば４時間程度で約２５人の
膜厚が得られる。かかる低温加熱は１段のみ実施しても
良いが、加熱温度や加熱時間を異にした２段以上の工程
で行っても良い。
厚さ５〜５０人の初期酸化皮膜を形成したのち実施する
高温加熱は、アルミニウム箔の組織を立方体方位を多く
有する集合組織にしてエツチング特性を向上させること
を主目的とするものである。而して、この高温加熱処理
において、初期酸化皮膜上にさらに形成される酸化皮膜
の厚さが厚過ぎると、初期酸化皮膜の欠陥部分が消去さ
れ、エツチングの際に十分なエツチングピットを形成す
ることかできない。このため、高温加熱処理は初期酸化
皮膜を含む酸化皮膜の合計厚さが７０Å以下となる範囲
で行う必要がある。好適には５０Å以下に規制するのが
良い。
高温加熱は、アルミニウム箔の組織を立方体方位を多く
有する集合組織にしてエツチング特性を向上させること
を主目的とするものである。而して、この高温加熱処理
において、初期酸化皮膜上にさらに形成される酸化皮膜
の厚さが厚過ぎると、初期酸化皮膜の欠陥部分が消去さ
れ、エツチングの際に十分なエツチングピットを形成す
ることかできない。このため、高温加熱処理は初期酸化
皮膜を含む酸化皮膜の合計厚さが７０Å以下となる範囲
で行う必要がある。好適には５０Å以下に規制するのが
良い。
酸化皮膜の合計厚さを７０Å以下とするためには水分、
酸素を可及的除去した雰囲気で加熱するのが望ましく、
具体的にはＡｒガス等の不活性ガス中あるいは１Ｏ−３
Ｔｏｒｒ程度以下の真空中で加熱するのが良い。また加
熱温度は４６０℃程度以上、加熱時間は１〜５時間程度
が望ましい。
酸素を可及的除去した雰囲気で加熱するのが望ましく、
具体的にはＡｒガス等の不活性ガス中あるいは１Ｏ−３
Ｔｏｒｒ程度以下の真空中で加熱するのが良い。また加
熱温度は４６０℃程度以上、加熱時間は１〜５時間程度
が望ましい。
上記により製作したアルミニウム材料は、その後電気化
学的あるいは化学的エツチング処理したのち、電解コン
デンサ用電極材として使用する。
学的あるいは化学的エツチング処理したのち、電解コン
デンサ用電極材として使用する。
なおこの発明に用いるアルミニウム箔は、その製造工程
についてはこれを限定するものではなく、圧延工程の途
中において中間焼鈍されたものであっても良い。
についてはこれを限定するものではなく、圧延工程の途
中において中間焼鈍されたものであっても良い。
発明の効果
この発明は上述の次第であるから、エツチング性能に優
れ多数のエツチングピットを形成しえて拡面率ひいては
静電容量の大きな電解コンデンサ電極祠を確実にかつ安
定して提供することができる。
れ多数のエツチングピットを形成しえて拡面率ひいては
静電容量の大きな電解コンデンサ電極祠を確実にかつ安
定して提供することができる。
実施例
（実施例１）
純度９９．９９％のアルミニウムからなる厚さ１００μ
ｍのアルミニウム箔を製作するに際し、箔圧延における
箔温度、圧延速度、圧延油の量を調節して、第１表のよ
うなセルまたはすブグレインの平均サイズを有する各種
アルミニウム箔を製作した。
ｍのアルミニウム箔を製作するに際し、箔圧延における
箔温度、圧延速度、圧延油の量を調節して、第１表のよ
うなセルまたはすブグレインの平均サイズを有する各種
アルミニウム箔を製作した。
次に上記アルミニウム箔を、Ｈ２０Ｊｉｔを第１表のよ
うに含有する大気中で、加熱温度及び加熱時間を各種に
変えて低温加熱することにより、箔表面に第１表に示す
厚さの初期酸化皮膜を形成した。なお酸化皮膜の厚さは
以下の条件に従うハンターホール法により測定した。即
ち、測定液：３０’ｊ／Ｑ酒石酸アンモニウム水溶液 液温：３０℃ 対極：カーボン 測定極：被測定サンプル 直流電圧印加速度：５Ｖ／ｓｅｃ の条件にて被測定サンプルに電圧を印加し、第１図に示
すような電流・電圧特性をｆｆ１１１定した。
うに含有する大気中で、加熱温度及び加熱時間を各種に
変えて低温加熱することにより、箔表面に第１表に示す
厚さの初期酸化皮膜を形成した。なお酸化皮膜の厚さは
以下の条件に従うハンターホール法により測定した。即
ち、測定液：３０’ｊ／Ｑ酒石酸アンモニウム水溶液 液温：３０℃ 対極：カーボン 測定極：被測定サンプル 直流電圧印加速度：５Ｖ／ｓｅｃ の条件にて被測定サンプルに電圧を印加し、第１図に示
すような電流・電圧特性をｆｆ１１１定した。
そして、同図に示す電圧差χを計測し、膜厚−χ×１４
人／Ｖ の式にて換算することにより膜厚を測定した。
人／Ｖ の式にて換算することにより膜厚を測定した。
また加熱終了時におけるアルミニウム箔のセルまたはサ
ブグレインの平均サイズを調べたところ、第１表に示す
ように変化していた。
ブグレインの平均サイズを調べたところ、第１表に示す
ように変化していた。
次に上記各アルミニウム箔につき、１Ｏ−４Ｔｏｒｒ真
空中で５２０℃×１時間の高温加熱処理を実施したのち
、箔表面の酸化皮膜の合計厚さを前記と同じくハンター
ホール法により測定したところ、第１表に示すとおりで
あった。
空中で５２０℃×１時間の高温加熱処理を実施したのち
、箔表面の酸化皮膜の合計厚さを前記と同じくハンター
ホール法により測定したところ、第１表に示すとおりで
あった。
上記により得た各アルミニウム材料を、３％塩酸水溶液
（８５°Ｃ）中で電流密度を直流１０Ａ／ｄ７７ｊとし
、３分間電解エツチング処理したのち、さらに同じ液で
１０分間化学エツチング処理した。そして、その後５％
硼酸浴中で３５０Ｖに化成処理したのち、各材料の静電
容量を測定した。その結果を併せて第１表に示す。
（８５°Ｃ）中で電流密度を直流１０Ａ／ｄ７７ｊとし
、３分間電解エツチング処理したのち、さらに同じ液で
１０分間化学エツチング処理した。そして、その後５％
硼酸浴中で３５０Ｖに化成処理したのち、各材料の静電
容量を測定した。その結果を併せて第１表に示す。
［以下余白コ
（実施例２）
純度９９．９９％、セルまたはサブダレインの平均サイ
ズが４μｍである厚さ１００μｍのアルミニウム箔を用
い、該アルミニウム箔を、Ｈ２０： ０． ０１５に９
７に９を含む大気中で１００℃×１０時間低温加熱し、
表面に厚さ３２人の初期酸化皮膜を形成した。なお、低
温加熱後の箔表面のセルまたはサブダレインの平均サイ
ズは７μｍであり、低温加熱工程を通じて平均サイズが
１０μｍ以下に保たれていた。
ズが４μｍである厚さ１００μｍのアルミニウム箔を用
い、該アルミニウム箔を、Ｈ２０： ０． ０１５に９
７に９を含む大気中で１００℃×１０時間低温加熱し、
表面に厚さ３２人の初期酸化皮膜を形成した。なお、低
温加熱後の箔表面のセルまたはサブダレインの平均サイ
ズは７μｍであり、低温加熱工程を通じて平均サイズが
１０μｍ以下に保たれていた。
次に、上記アルミニウム箔につき、５２０℃の加熱温度
で加熱時間及び真空度（１０’〜１Ｏ−５Ｔｏｒｒ）を
変えて高温加熱した。そして高温加熱後の酸化皮膜の合
計厚さをハンターホール法によりΔ１り定したところ第
２表のとおりであった。
で加熱時間及び真空度（１０’〜１Ｏ−５Ｔｏｒｒ）を
変えて高温加熱した。そして高温加熱後の酸化皮膜の合
計厚さをハンターホール法によりΔ１り定したところ第
２表のとおりであった。
次に、上記アルミニウム材料に実施例１と同一条件でエ
ツチング処理、化成処理を実施し、得られた材料の静電
容量を測定した。その結果を第２表に示す。
ツチング処理、化成処理を実施し、得られた材料の静電
容量を測定した。その結果を第２表に示す。
第２表
第１表、第２表かられかるように、本発明実施品は、多
数のエツチングピットを形成しえ密度の大きいエツチン
グ状態となっているため、大きな静電容量を確実に得る
ことができるものであった。
数のエツチングピットを形成しえ密度の大きいエツチン
グ状態となっているため、大きな静電容量を確実に得る
ことができるものであった。
第１図は実施例で行ったハンターホール法による酸化皮
膜の膜厚の測定方法を説明するための電流・電圧特性図
である。 電 シバｔ。 一〉
膜の膜厚の測定方法を説明するための電流・電圧特性図
である。 電 シバｔ。 一〉
Claims (1)
- 電気化学的あるいは化学的エッチング処理を施す前に、
アルミニウム箔の表面にその平均セルまたはサブグレイ
ンサイズが１０μｍ以下の状態のうちに厚さ５〜５０Å
の酸化皮膜を形成する工程と、その後酸化皮膜の合計厚
さが７０Åを超えない範囲で高温加熱処理する工程とを
経ることを特徴とする電解コンデンサ電極用アルミニウ
ム材料の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8209689A JP2752422B2 (ja) | 1988-04-25 | 1989-03-31 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法 |
| JP19007889A JP2752448B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-07-20 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10223788 | 1988-04-25 | ||
| JP63-102237 | 1988-04-25 | ||
| JP8209689A JP2752422B2 (ja) | 1988-04-25 | 1989-03-31 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19007889A Division JP2752448B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-07-20 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02146718A true JPH02146718A (ja) | 1990-06-05 |
| JP2752422B2 JP2752422B2 (ja) | 1998-05-18 |
Family
ID=26423118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8209689A Expired - Lifetime JP2752422B2 (ja) | 1988-04-25 | 1989-03-31 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2752422B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0462821A (ja) * | 1990-06-25 | 1992-02-27 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔 |
| JPH04179110A (ja) * | 1990-11-09 | 1992-06-25 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ電極用アルミニウム合金箔 |
| US5417839A (en) * | 1990-10-31 | 1995-05-23 | Showa Aluminum Corporation | Method for manufacturing aluminum foils used as electrolytic capacitor electrodes |
| JP2003027282A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-29 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理方法及び表面処理アルミニウム材 |
| JP2003027286A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-29 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理方法及び表面処理アルミニウム材 |
| JP2003027284A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-29 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理方法及び表面処理アルミニウム材 |
| JP2003027287A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-29 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理方法及び表面処理アルミニウム材 |
| JP2003027283A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-29 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理方法及び表面処理アルミニウム材 |
| JP2011070536A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Dainippon Printing Co Ltd | タッチパネル用電極フィルム及びタッチパネル |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP8209689A patent/JP2752422B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0462821A (ja) * | 1990-06-25 | 1992-02-27 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔 |
| US5417839A (en) * | 1990-10-31 | 1995-05-23 | Showa Aluminum Corporation | Method for manufacturing aluminum foils used as electrolytic capacitor electrodes |
| JPH04179110A (ja) * | 1990-11-09 | 1992-06-25 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ電極用アルミニウム合金箔 |
| JP2003027282A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-29 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理方法及び表面処理アルミニウム材 |
| JP2003027286A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-29 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理方法及び表面処理アルミニウム材 |
| JP2003027284A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-29 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理方法及び表面処理アルミニウム材 |
| JP2003027287A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-29 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理方法及び表面処理アルミニウム材 |
| JP2003027283A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-29 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理方法及び表面処理アルミニウム材 |
| JP2011070536A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Dainippon Printing Co Ltd | タッチパネル用電極フィルム及びタッチパネル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2752422B2 (ja) | 1998-05-18 |
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