JPH02148408A - 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッドとその製造方法

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JPH02148408A
JPH02148408A JP30137288A JP30137288A JPH02148408A JP H02148408 A JPH02148408 A JP H02148408A JP 30137288 A JP30137288 A JP 30137288A JP 30137288 A JP30137288 A JP 30137288A JP H02148408 A JPH02148408 A JP H02148408A
Authority
JP
Japan
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magnetic layer
layer
magnetic
raised
forming
Prior art date
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Pending
Application number
JP30137288A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Furusawa
古澤 宏
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、高密度磁気記録装置などに利用される薄膜磁
気ヘッドとその製造方法に関するものである。
(従来の技術) コンピュータ用ハードディスク装置などの高密度磁気記
録用に小型の薄膜磁気ヘッドが開発されている。
この薄膜磁気ヘッドはフォトリソグラフィ技術を応用し
て作成され、その先端部分は第4図の断面に示すような
構成となっている。すなわち、平坦な下部磁性層mlと
、ヘッド先端部分においてギャップ層gを介在させつつ
下部磁性層m1と対向すると共に後方において下部磁性
層m1との接合部jを形成する上部磁性層m2と、これ
ら両磁性層の間においてそれぞれの磁性層と相互との間
に電気絶縁層iを介在させつつ紙面の垂直方向に延在さ
れる複数のコイル導体層C1〜c12とを備えている。
コイル導体層C1〜c12の一つを紙面の垂直方向に流
れる電流は、図示しない後方のコイル導体層を経てコイ
ル導体層C1〜c12の他の一つに環流することにより
接合部jの磁性層に起磁力を発生させ、ギャップ層gを
介して対向するヘッド先端部分の両磁性層の間に記録用
の漏洩磁界を発生させる。
(発明が解決しようとする課題) 第4図に示した、従来の薄膜磁気ヘッドでは、上部磁性
層m1が湾曲して形成されているので、この湾曲部分で
磁壁の動きが妨げられて高周波特性が劣化し、記録/再
生速度が低下する歩4という問題がある。
(課題を解決するための手段) 本発明に係わる薄膜磁気ヘッドは、ほぼ平坦な基板部、
ヘッド先端部分においてこの基板部から隆起する第1の
隆起部及びこの第1の隆起部の後方においてこの第1の
隆起部とほぼ同一の高さに前記基板部から隆起する第2
の隆起部を有する一方の磁性層と、ギャップ層を介在さ
せつつ上記−方の磁性層の第1の隆起部の上面に対向す
ると共にこの一方の磁性層の第2の隆起部の上面におい
てこの一方の磁性層との接合部を形成するほぼ平坦形状
の他方の磁性層と、上記一方の磁性層の第1、第2の隆
起部の間において上記一方及び他方の磁性層の間及び相
互の間に電気絶縁層を介在させつつかつ第1.第2の隆
起部を連ねる方向と直角方向に延在される複数のコイル
導体層とを備え、第2の磁性層を湾曲部分のない平坦形
状とすることにより高周波特性を改善するように構成さ
れている。
本発明に係わる上記薄膜磁気ヘッドの製造方法は、ほぼ
平坦な基板部を形成し引き続きヘッド先端部分及びその
後方においてこの基板部にほぼ同一の高さの第1.第2
の隆起部を形成することにより一方の磁性層を形成する
段階と、この一方の磁性層の上記第1.第2の隆起部の
間においてこの一方の磁性層の基板部上にこの基板部と
の間及び相互間に電気絶縁層を介在させつつ複数のコイ
ル導体層を形成し引き続きこのコイル導体層上に表面が
上記第1.第2の隆起部と同一高さになる厚みの電気絶
縁層を形成する段階と、この電気絶縁層及び前記第1の
隆起部の上面にギャップ層を形成する段階と、上記ギャ
ップ層及び上記第2の隆起部の上面にほぼ平坦形状の他
方の磁性層を形成する段階とを含んでいる。
以下、本発明の作用を実施例と共に詳細に説明する。
(実施例) 第1図は、本発明の一実施例に係わる薄膜磁気ヘッドの
先端部分の構成を示す断面図であり、Mlaは下部磁性
層、M2は上部磁性層、Gはギャップ層、Jは上下磁性
層の接合部、C1〜C14はコイル導体層、■は電気絶
縁層である。
下部@性層M1は、ほぼ平坦な形状の基板部M1aと、
ヘッド先端部分において基板部Mlaから隆起する第1
の隆起部Mlbと、この第1の隆起部Mlbの後方にお
いてこの第1の隆起部M1bとほぼ同一の高さに基板部
Mlaから隆起する第2の隆起部M 1 cとを有して
いる。上部磁性層M2は、ギャップ層Gを介在させつつ
下部磁性層の第1の隆起部Mlbの上面に対向すると共
にこの一方の磁性層の第2の隆起部M 1 cの上面に
おいてこの下部磁性層M1との間に接合部分を形成する
ほぼ平坦形状の磁性層から成っている。更に、下部磁性
層Mlの第1.第2の隆起部Mlb、MIC間において
上下両磁性層との間及び相互の間に電気絶縁層Iを介在
させつつ紙面の垂直方向に延在される複数のコイル導体
層01〜C14が形成されている。
コイル導体層01〜C14の一つを紙面の垂直方向に流
れる電流は、図示しない後方のコイル導体層を経てコイ
ル導体層01〜C14の他の一つに環流することにより
接合部Jに起磁力を発生させ、ギャップ層Gを介して対
向するヘッド先端部分の上下磁性層Ml、M2間に記録
用の漏洩磁界を発生させる。
上部磁性層M2に湾曲部分が存在しないため、磁壁の動
きが妨げられず、高速の記録/再生が行われる。
上記実施例の薄膜磁気へ・7ドの製造方法を第2図と第
3図の断面図によって説明する。
まず、スパッタリングやメツキによりNiFeを素材と
する下部磁性層の基板部Mlaが図示しないスライダ基
板上に形成されたのち、コイル導体層を形成しようとす
る部分がレジストなどのマスクMによって覆われる((
第2図(A))。
次に、コイル先端部分と接合部を形成しようとする箇所
のそれぞれに、メツキなどによってNiFeを素材とす
る同一高さの第1.第2の隆起部M1b、、Mlcが形
成される(第2図(B))。
引き続き、マスクMが除去されたのち、スパッタリング
によって電気絶縁層■1が形成され、フォトリソグラフ
ィ手法によって銅などの金属材料のコイル導体層C1,
C2・・・・C7が形成される(第2図(C)。
引き続き、電気絶縁層I2とコイル導体層C8゜C9・
・・・C14が形成されたのち、このコイル導体層C9
〜C14上に上面が下部磁性層M1の第1.第2の隆起
部Mlb、MICと同一高さになるように電気絶縁層■
3が形成される(第3図(A))。
次に、電気絶縁層■3上と第1.第2の隆起部Mlb、
Mlc上にギャップ層Gが形成され、第2の隆起部Ml
c上の接合部を形成しようとする右頁域のギャップ層G
がイオンビームエ・ンチングによって選択的に除去され
る(第3図(B))。
最後に、スパッタリングやメツキによりNiFeを素材
とする上部磁性層M2が形成され、第1図に示す構造の
先端部分を有する薄膜磁気ヘッドの製造が終了する。
(発明の効果) 以上詳細に説明したように、本発明の薄膜磁気ヘッドは
、ヘッド先端部分及び上下両磁性層の接合部分のそれぞ
れにほぼ同じ高さの隆起部を有する下部磁性層と、両隆
起部間の下部磁性層上に形成されるコイル導体層と、こ
の上に形成されるギャップ層と、このギャップ層上に形
成されるほぼ平坦な上部磁性層とを備える構成であるか
ら、上部磁性層の湾曲部分を除去することができる。
この結果、磁気ヘッドの高周波特性が改善され記録/再
生速度が向上するという効果が奏される。
また、本発明に係わる上記薄膜磁気ヘッドの製造方法は
、上述のように簡易なものであるから、製造コストを低
減できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の薄膜磁気ヘッドの先端部分
の構成を示す断面図、第2図と第3図は上記薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法を説明するための断面図、第4図は従来
の薄膜磁気ヘッドの先端部分の構成を示す断面図である
。 Ml・・・下部磁性層、M 1 a・・・第1の隆起部
、Mlb・・・第2の隆起部、M2・・・上部磁性層、
G・・・ギャップ層、J・・・上下磁性層の接合部、0
1〜C14・・・コイル導体層、1.11,12.13
・・・電気絶縁層。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ほぼ平坦な基板部と、ヘッド先端部分においてこ
    の基板部から隆起する第1の隆起部と、この第1の隆起
    部の後方においてこの第1の隆起部とほぼ同一の高さに
    前記基板部から隆起する第2の隆起部を有する一方の磁
    性層と、 ギャップ層を介在させつつ前記一方の磁性層の第1の隆
    起部の上面に対向すると共に、前記一方の磁性層の第2
    の隆起部の上面においてこの一方の磁性層との接合部を
    形成するほぼ平坦形状の他方の磁性層と、 前記一方の磁性層の第1、第2の隆起部の間において前
    記一方及び他方の磁性層の間及び相互の間に電気絶縁層
    を介在させつつかつ前記第1、第2の隆起部を連ねる方
    向と直角方向に延在される複数のコイル導体層とを備え
    たことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
  2. (2)ほぼ平坦な基板部を形成し、ヘッド先端部分とそ
    の後方においてこの基板部にほぼ同一の高さの第1、第
    2の隆起部を形成することにより一方の磁性層を形成す
    る段階と、 この一方の磁性層の前記第1、第2の隆起部の間におい
    てこの一方の磁性層の基板部上にこの基板部との間及び
    相互間に電気絶縁層を介在させつつ複数のコイル導体層
    を形成し、このコイル導体層上に表面が前記第1、第2
    の隆起部と同一高さになる厚みの電気絶縁層を形成する
    段階と、 この電気絶縁層及び前記第1の隆起部の上面にギャップ
    層を形成する段階と、 前記ギャップ層及び前記第2の隆起部の上面にほぼ平坦
    形状の他方の磁性層を形成する段階とを含むことを特徴
    とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
JP30137288A 1988-11-29 1988-11-29 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 Pending JPH02148408A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60119613A (ja) * 1983-12-02 1985-06-27 Hitachi Ltd 薄膜磁気ヘッドとその製造方法
JPS62110612A (ja) * 1985-11-08 1987-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜磁気ヘツド

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60119613A (ja) * 1983-12-02 1985-06-27 Hitachi Ltd 薄膜磁気ヘッドとその製造方法
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