JPH04229406A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH04229406A JPH04229406A JP40821390A JP40821390A JPH04229406A JP H04229406 A JPH04229406 A JP H04229406A JP 40821390 A JP40821390 A JP 40821390A JP 40821390 A JP40821390 A JP 40821390A JP H04229406 A JPH04229406 A JP H04229406A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高密度記録に好適な薄膜
磁気ヘッドに関する。
磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の薄膜磁気ヘッドとしては
、例えば特開平１−２７９４０７号公報（Ｇ１１Ｂ
５／３１）等に開示されているものがある。
、例えば特開平１−２７９４０７号公報（Ｇ１１Ｂ
５／３１）等に開示されているものがある。
【０００３】図８は従来の薄膜磁気ヘッドの要部を示す
正面図である。この図８の磁気ヘッドは、磁性又は非磁
性材料よりなる基板（２１）上にセンダスト等の強磁性
金属材料よりなる下部磁性コア（２２）、作動ギャップ
（２３）、導体コイル（２４）、非磁性絶縁材料からな
る絶縁膜（図示せず）及び下部磁性コア（２２）と同一
材料よりなる上部磁性コア（２６）を順次積層してヘッ
ド素子（２５）を形成し、該ヘッド素子上に接合用のガ
ラス層（図示せず）を介して非磁性材料からなる保護板
（図 示せず）を溶融固定して完成されるようになって
いる。
正面図である。この図８の磁気ヘッドは、磁性又は非磁
性材料よりなる基板（２１）上にセンダスト等の強磁性
金属材料よりなる下部磁性コア（２２）、作動ギャップ
（２３）、導体コイル（２４）、非磁性絶縁材料からな
る絶縁膜（図示せず）及び下部磁性コア（２２）と同一
材料よりなる上部磁性コア（２６）を順次積層してヘッ
ド素子（２５）を形成し、該ヘッド素子上に接合用のガ
ラス層（図示せず）を介して非磁性材料からなる保護板
（図 示せず）を溶融固定して完成されるようになって
いる。
【０００４】然し乍ら、上記従来の薄膜磁気ヘッドを再
生に用いる場合は、トラッキングずれを検知又は修正す
るために、上記薄膜ヘッドを圧電素子からなる部材上に
設置し、該圧電素子に電圧を掛けて薄膜磁気ヘッドを機
械的に変位させる等の必要があり、再生装置が複雑にな
るという問題点があった。
生に用いる場合は、トラッキングずれを検知又は修正す
るために、上記薄膜ヘッドを圧電素子からなる部材上に
設置し、該圧電素子に電圧を掛けて薄膜磁気ヘッドを機
械的に変位させる等の必要があり、再生装置が複雑にな
るという問題点があった。
【０００５】又、上記薄膜磁気ヘッドの上部磁性コアに
渦電流が発生し、再生特性が劣化するという問題があっ
た。
渦電流が発生し、再生特性が劣化するという問題があっ
た。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来例の
欠点に鑑みなされたものであり、渦電流損失を抑え、ト
ラッキングずれの検出が容易であり、又は再生能力の低
下を抑えることができる薄膜磁気ヘッドを提供すること
を目的とするものである。
欠点に鑑みなされたものであり、渦電流損失を抑え、ト
ラッキングずれの検出が容易であり、又は再生能力の低
下を抑えることができる薄膜磁気ヘッドを提供すること
を目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】基板上に形成された上部
磁性コアと下部磁性コアとの間に作動ギャップを有する
薄膜磁気ヘッドにおいて、上記作動ギャップ幅がトラッ
ク幅より広く、且つ、該作動ギャップに対して複数のバ
ックコア部を有するように上記上部磁性コアが分断され
て形成され、上記各バックコア部の周りには夫々導体コ
イルが形成されていることを特徴とする。
磁性コアと下部磁性コアとの間に作動ギャップを有する
薄膜磁気ヘッドにおいて、上記作動ギャップ幅がトラッ
ク幅より広く、且つ、該作動ギャップに対して複数のバ
ックコア部を有するように上記上部磁性コアが分断され
て形成され、上記各バックコア部の周りには夫々導体コ
イルが形成されていることを特徴とする。
【０００８】
【作用】作動ギャップに対して複数のバックコア部を有
するように上部磁性コアが分断されて形成されているの
で、この上部磁性コアでの渦電流による損失が防止され
る。
するように上部磁性コアが分断されて形成されているの
で、この上部磁性コアでの渦電流による損失が防止され
る。
【０００９】更に、作動ギャップ幅がトラック幅より広
く、上部磁性コアが複数のバックコア部を有するように
分断されて形成され、各バックコア部に対応して導体コ
イルを有しているので、各導体コイルの出力を比較して
効率の良い情報の再生を行うことができる。
く、上部磁性コアが複数のバックコア部を有するように
分断されて形成され、各バックコア部に対応して導体コ
イルを有しているので、各導体コイルの出力を比較して
効率の良い情報の再生を行うことができる。
【００１０】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例に
ついて詳細に説明する。
ついて詳細に説明する。
【００１１】図１は本実施例の磁気ヘッドの要部を示す
斜視図であり、図２はその磁気ヘッドの外観を示す斜視
図である。
斜視図であり、図２はその磁気ヘッドの外観を示す斜視
図である。
【００１２】図中、（１）はＭｎ−Ｚｎフェライト等の
磁性材料又は結晶化ガラス等の非磁性材料よりなる厚さ
１ｍｍの基板である。この基板（１）上には、センダス
ト等の磁性薄膜からなる厚さ１０μｍの下部磁性コア（
２）が被着形成されている。
磁性材料又は結晶化ガラス等の非磁性材料よりなる厚さ
１ｍｍの基板である。この基板（１）上には、センダス
ト等の磁性薄膜からなる厚さ１０μｍの下部磁性コア（
２）が被着形成されている。
【００１３】図示しないが、前記下部磁性コア（２）の
上には、ＳｉＯ２等よりなる厚さ１μ ｍの絶縁膜及び
厚さ０．２μｍのギャップスペーサが被着形成されてい
る。
上には、ＳｉＯ２等よりなる厚さ１μ ｍの絶縁膜及び
厚さ０．２μｍのギャップスペーサが被着形成されてい
る。
【００１４】上記絶縁膜の上部には、Ｃｕ等からなる導
体コイル及びＳｉＯ２等からなる層 間絶縁層がこの順
に被着形成されて、７個の導体コイル（３ａ）（３ｂ）
（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ）が形成され
ている。（４）は厚さ１０μｍの上部磁性コアであり、
上記ギャップスペーサ上及び各導体コイル（３ａ）（３
ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ）に亘る
ように被着形成されてヘッド素子（５）が形成されてい
る。即ち、上記上部磁性コア（４）は各導体コイル（３
ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ
）に対応した７個のバックコア部（６ａ）（６ｂ）（６
ｃ）（６ｄ）（６ｅ）（６ｆ）（６ｇ）を有するように
バック側は７個に分断されて形成されており、該各バッ
クコア部（６ａ）（６ｂ）（６ｃ）（６ｄ）（６ｅ）（
６ｆ）（６ｇ）の周りに各導体コイル（３ａ）（３ｂ）
（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ）が形成され
ている。
体コイル及びＳｉＯ２等からなる層 間絶縁層がこの順
に被着形成されて、７個の導体コイル（３ａ）（３ｂ）
（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ）が形成され
ている。（４）は厚さ１０μｍの上部磁性コアであり、
上記ギャップスペーサ上及び各導体コイル（３ａ）（３
ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ）に亘る
ように被着形成されてヘッド素子（５）が形成されてい
る。即ち、上記上部磁性コア（４）は各導体コイル（３
ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ
）に対応した７個のバックコア部（６ａ）（６ｂ）（６
ｃ）（６ｄ）（６ｅ）（６ｆ）（６ｇ）を有するように
バック側は７個に分断されて形成されており、該各バッ
クコア部（６ａ）（６ｂ）（６ｃ）（６ｄ）（６ｅ）（
６ｆ）（６ｇ）の周りに各導体コイル（３ａ）（３ｂ）
（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ）が形成され
ている。
【００１５】上記上部磁性コア（４）と上記ギャップス
ペーサの間にはトラック幅Ｗより幅広の作動ギャップ（
７）が形成されている。
ペーサの間にはトラック幅Ｗより幅広の作動ギャップ（
７）が形成されている。
【００１６】そして、図２に示すように、上記ヘッド素
子（５）上にはＳｉＯ２等の保護膜（ 図示せず）が被
着形成され、更にその上部に、チタン酸バリウム等から
なる補強基板（９）が溶着ガラス（８）により固着され
て薄膜磁気ヘッドが構成されている。
子（５）上にはＳｉＯ２等の保護膜（ 図示せず）が被
着形成され、更にその上部に、チタン酸バリウム等から
なる補強基板（９）が溶着ガラス（８）により固着され
て薄膜磁気ヘッドが構成されている。
【００１７】次に、本実施例の薄膜磁気ヘッドの製造方
法について、図３〜図６を参照しつつ詳細に説明する。
法について、図３〜図６を参照しつつ詳細に説明する。
【００１８】先ず、図３に示すようにＭｎ−Ｚｎフェラ
イト等の磁性材料又は結晶化ガラス等の非磁性材料より
なる基板（１）の上面全域に約１０μｍのセンダスト等
の高透磁率磁性材料からなる磁性薄膜をスパッタリング
法、真空蒸着法等の薄膜形成技術により被着形成して、
下部磁性コア（２）を形成する。そして、この下部磁性
コア（２）上にＳｉＯ２等の厚さ１μｍの絶縁膜（図示
せず）を同様の薄膜形成技術に より形成する。
イト等の磁性材料又は結晶化ガラス等の非磁性材料より
なる基板（１）の上面全域に約１０μｍのセンダスト等
の高透磁率磁性材料からなる磁性薄膜をスパッタリング
法、真空蒸着法等の薄膜形成技術により被着形成して、
下部磁性コア（２）を形成する。そして、この下部磁性
コア（２）上にＳｉＯ２等の厚さ１μｍの絶縁膜（図示
せず）を同様の薄膜形成技術に より形成する。
【００１９】その後、上記絶縁膜の上面にＣｕ等の厚さ
２μｍの導体コイル（３ｄ）を薄膜形成技術及びイオン
ミリング法等のエッチング技術により被着形成し、その
後、導体コイル（３ｄ）に亘る全域にＳｉＯ２等の厚さ
１μｍの層間絶縁膜（図示せず）を薄膜 形成技術によ
り被着形成する。
２μｍの導体コイル（３ｄ）を薄膜形成技術及びイオン
ミリング法等のエッチング技術により被着形成し、その
後、導体コイル（３ｄ）に亘る全域にＳｉＯ２等の厚さ
１μｍの層間絶縁膜（図示せず）を薄膜 形成技術によ
り被着形成する。
【００２０】次に図４に示すように、上記導体コイル（
３ｄ）の一部を被うように、導体コイル（３ｃ）（３ｅ
）を同様に被着形成する。その後、導体コイル（３ｃ）
（３ｅ）に亘って上面全域にＳｉＯ２等の厚さ１μｍの
非磁性膜（図示せず）を薄膜形成技術により被着形成
する。
３ｄ）の一部を被うように、導体コイル（３ｃ）（３ｅ
）を同様に被着形成する。その後、導体コイル（３ｃ）
（３ｅ）に亘って上面全域にＳｉＯ２等の厚さ１μｍの
非磁性膜（図示せず）を薄膜形成技術により被着形成
する。
【００２１】上述と同様の工程を繰り返して、図５に示
すような導体コイル（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）
（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ）を被着形成し、その後、その
全域にＳｉＯ２等の厚さ１μｍの保 護膜（図示せず）
を薄膜形成技術により被着形成する。
すような導体コイル（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）
（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ）を被着形成し、その後、その
全域にＳｉＯ２等の厚さ１μｍの保 護膜（図示せず）
を薄膜形成技術により被着形成する。
【００２２】次に、上記保護膜上に、センダスト等の高
透磁率磁性材料よりなる磁性薄膜（図示せず）を同様の
薄膜形成技術により被着形成する。その後、上記磁性薄
膜上にレジストを塗布し、フォトマスクを介して露光し
、現像してレジストを上部磁性コアの形状となるように
残す。その後、イオンビームエッチング法等のエッチン
グ技術によって上記磁性薄膜をエッチングすることによ
り、図６のように上部磁性コア（１０）を形成する。
透磁率磁性材料よりなる磁性薄膜（図示せず）を同様の
薄膜形成技術により被着形成する。その後、上記磁性薄
膜上にレジストを塗布し、フォトマスクを介して露光し
、現像してレジストを上部磁性コアの形状となるように
残す。その後、イオンビームエッチング法等のエッチン
グ技術によって上記磁性薄膜をエッチングすることによ
り、図６のように上部磁性コア（１０）を形成する。
【００２３】その後、従来の薄膜磁気ヘッドを形成する
のと同様の方法で、図２に示す薄膜磁気ヘッドを完成す
るのである。
のと同様の方法で、図２に示す薄膜磁気ヘッドを完成す
るのである。
【００２４】本実施例の薄膜磁気ヘッドでは、上部磁性
コア（１０）がバック側で分断されているので、上部磁
性コア（１０）は長細形の形状になるため、渦電流損失
を抑えることができる。
コア（１０）がバック側で分断されているので、上部磁
性コア（１０）は長細形の形状になるため、渦電流損失
を抑えることができる。
【００２５】更に、この薄膜磁気ヘッドでは、作動ギャ
ップ（７）の幅がトラック幅Ｗより広く形成されており
、且つ、上部磁性コア（１０）のバック側が分断されて
形成され、更に、その各バックコア（６ａ）（６ｂ）（
６ｃ）（６ｄ）（６ｅ）（６ｆ）（６ｇ）に対応して導
体コイル（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（
３ｆ）（３ｇ）が設けられているので、例えば、情報の
記録時には両端部を除く５個の導体コイル（３ｂ）（３
ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３ｆ）に信号を流して、所定の
トラック幅の情報の記録を行い、且つ、再生時にもこれ
らの導体コイル（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３
ｆ）を使い、両端の導体コイル（３ａ）（３ｇ）をトラ
ッキングずれの検出に使用すれば、この導体コイル（３
ａ）（３ｇ）の出力によって磁気ヘッドがトラックに対
してどちらにずれているかを判別でき、トラッキングず
れを検出することができるのである。
ップ（７）の幅がトラック幅Ｗより広く形成されており
、且つ、上部磁性コア（１０）のバック側が分断されて
形成され、更に、その各バックコア（６ａ）（６ｂ）（
６ｃ）（６ｄ）（６ｅ）（６ｆ）（６ｇ）に対応して導
体コイル（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（
３ｆ）（３ｇ）が設けられているので、例えば、情報の
記録時には両端部を除く５個の導体コイル（３ｂ）（３
ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３ｆ）に信号を流して、所定の
トラック幅の情報の記録を行い、且つ、再生時にもこれ
らの導体コイル（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３
ｆ）を使い、両端の導体コイル（３ａ）（３ｇ）をトラ
ッキングずれの検出に使用すれば、この導体コイル（３
ａ）（３ｇ）の出力によって磁気ヘッドがトラックに対
してどちらにずれているかを判別でき、トラッキングず
れを検出することができるのである。
【００２６】又、上記再生時に、トラッキングずれが生
じた場合に、導体コイル（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３
ｄ）（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ）のうち、同様の周波数特
性を呈する出力のみ（例えば、７個の導体コイルのうち
６個の（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３
ｆ）の出力）を加算し、その加算出力を再生出力とする
。 このようにすることにより、トラッキングずれによる出
力低下を押さえることができる。
じた場合に、導体コイル（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３
ｄ）（３ｅ）（３ｆ）（３ｇ）のうち、同様の周波数特
性を呈する出力のみ（例えば、７個の導体コイルのうち
６個の（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３
ｆ）の出力）を加算し、その加算出力を再生出力とする
。 このようにすることにより、トラッキングずれによる出
力低下を押さえることができる。
【００２７】又、上記実施例の薄膜磁気ヘッドでは、上
部磁性コアはバック側で分断され、フロント側では分断
されていないが、図７のようにフロント側がＳｉＯ２等
の非 磁性薄膜（５０）で分離された構造でもよい。
部磁性コアはバック側で分断され、フロント側では分断
されていないが、図７のようにフロント側がＳｉＯ２等
の非 磁性薄膜（５０）で分離された構造でもよい。
【００２８】又、導体コイルの一部が重なって形成され
ているが、重ならない構造にしてもよい。
ているが、重ならない構造にしてもよい。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば、記録再生効率に優れ、
容易にトラッキングずれを検出することができる薄膜磁
気ヘッドを提供し得る。又、記録再生効率に優れ、トラ
ッキングずれによる出力低下を押さえることができる薄
膜磁気ヘッドを提供し得る。
容易にトラッキングずれを検出することができる薄膜磁
気ヘッドを提供し得る。又、記録再生効率に優れ、トラ
ッキングずれによる出力低下を押さえることができる薄
膜磁気ヘッドを提供し得る。
【図１】本発明の一実施例の薄膜磁気ヘッドの要部を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図２】上記薄膜磁気ヘッドの外観を示す斜視図である
【図３】上記薄膜磁気ヘッドの製造工程を示す正面図で
ある。
ある。
【図４】上記薄膜磁気ヘッドの製造工程を示す正面図で
ある。
ある。
【図５】上記薄膜磁気ヘッドの製造工程を示す正面図で
ある。
ある。
【図６】上記薄膜磁気ヘッドの製造工程を示す正面図で
ある。
ある。
【図７】本発明の他の実施例にかかる薄膜磁気ヘッドの
外観を示す斜視図である。
外観を示す斜視図である。
【図８】従来例の薄膜磁気ヘッドの要部を示す斜視図で
ある。
ある。
（１） 基板
（２） 下部磁性コア
（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）（３ｆ）（
３ｇ） 導体コイル（４） 上部磁性コ
ア （７） 作動ギャップ
３ｇ） 導体コイル（４） 上部磁性コ
ア （７） 作動ギャップ
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上に形成された上部磁性コアと下
部磁性コアとの間に作動ギャップを有する薄膜磁気ヘッ
ドにおいて、上記作動ギャップ幅がトラック幅より広く
、且つ、該作動ギャップに対して複数のバックコア部を
有するように上記上部磁性コアが分断されて形成され、
上記各バックコア部の周りには夫々導体コイルが形成さ
れていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40821390A JPH04229406A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40821390A JPH04229406A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04229406A true JPH04229406A (ja) | 1992-08-18 |
Family
ID=18517699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40821390A Pending JPH04229406A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04229406A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6473265B1 (en) * | 1999-12-06 | 2002-10-29 | Seagate Technology Llc | High frequency writer with sliced core topology |
-
1990
- 1990-12-27 JP JP40821390A patent/JPH04229406A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6473265B1 (en) * | 1999-12-06 | 2002-10-29 | Seagate Technology Llc | High frequency writer with sliced core topology |
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