JPH02154264A - 光重合性樹脂組成物 - Google Patents
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- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、アルカリ性水溶液によって現像可能な光重合
性樹脂組成物に関する。
性樹脂組成物に関する。
近年、プリント配線板作製用フォトレジストとして光重
合性樹脂層を支持フィルムで挟んだ構造のいわゆるドラ
イフィルムレジストが広く使用されている。
合性樹脂層を支持フィルムで挟んだ構造のいわゆるドラ
イフィルムレジストが広く使用されている。
プリント配線板の製造工程において、フォトレジストに
対する特に重要な要求性能の一つは、フォトレジストが
めつき液等の液体に侵されず、フォトレジストに被覆さ
れた基材を十分に保護できることである。例えば、ハイ
スロー半田めっき時に生じる硬化レジストの剥離は硬化
レジストと銅面間へのめっき液のしみ込みとなって回路
部以外にも半田がめっきされ、銅線間の短絡、銅線幅の
拡大、銅線周辺部の形状の乱れ等の問題を生じていた。
対する特に重要な要求性能の一つは、フォトレジストが
めつき液等の液体に侵されず、フォトレジストに被覆さ
れた基材を十分に保護できることである。例えば、ハイ
スロー半田めっき時に生じる硬化レジストの剥離は硬化
レジストと銅面間へのめっき液のしみ込みとなって回路
部以外にも半田がめっきされ、銅線間の短絡、銅線幅の
拡大、銅線周辺部の形状の乱れ等の問題を生じていた。
これらの問題は、硬化レジストと銅面の密着力不足によ
るものであり、密着促進剤の研究開発が盛んに行なわれ
ている。米国特許第3.622゜334号明細書に記載
されるようなベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール
のような複素環式窒素含有化合物を光重合性樹脂組成物
に添加すること等が提案されている。
るものであり、密着促進剤の研究開発が盛んに行なわれ
ている。米国特許第3.622゜334号明細書に記載
されるようなベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール
のような複素環式窒素含有化合物を光重合性樹脂組成物
に添加すること等が提案されている。
しかしながら、これらの化合物を使用した場合、ハイス
ロー半田めっき時のめっきもぐりは改善されるものの、
銅面との密着力は完全ではなく、電流効率の低い金めつ
き液に対しては極めて容易に硬化レジストが剥離し、銅
線間の短絡、銅線幅の拡大など重大な欠陥が発生する。
ロー半田めっき時のめっきもぐりは改善されるものの、
銅面との密着力は完全ではなく、電流効率の低い金めつ
き液に対しては極めて容易に硬化レジストが剥離し、銅
線間の短絡、銅線幅の拡大など重大な欠陥が発生する。
特に炭酸ソーダ等の薬液によって現像可能なアルカリ現
像性光重合性樹脂またはドライフィルムレジストでは金
めつき液に耐え得るものは実用化されていなかった。
像性光重合性樹脂またはドライフィルムレジストでは金
めつき液に耐え得るものは実用化されていなかった。
本発明の目的は上記欠点を克服し、金めつき液への耐性
に優れたアルカリ性水溶液で現像可能な光重合性樹脂組
成物を提供することにある。
に優れたアルカリ性水溶液で現像可能な光重合性樹脂組
成物を提供することにある。
本発明者等は、上記目的を解決するべく鋭意検討した結
果、次のような光重合性樹脂組成物を使用することで達
成し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
果、次のような光重合性樹脂組成物を使用することで達
成し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち本発明は、
(A)一般式(I)
(式中、Rは水素、1〜6個の炭素原子を有するアルキ
ル基またはハロゲン原子を示す)で表わされるスチレン
型化合物、またはその環置換誘導体1種以上の3〜30
重量%、 アルキル基が1〜6個の炭素原子を有するアルキルアク
リレート、およびヒドロキシアルキル基が2〜6個の炭
素原子を有するヒドロキシアルキルアクリレートよりな
る群から選ばれる一種以上の化合物の15〜45重量%
、 アルキル基が1〜6個の炭素原子を有するアルキルメタ
クリレート、およびヒドロキシアルキル基が2〜6個の
炭素原子を有するヒドロキシアルキルメタクリレートよ
りなる群から選ばれる一種以上の化合物の25〜60重
量%、 3〜15個の炭素原子を有するα、β−不飽和力ルボキ
シル基含有モノマーの一種以上の15〜35重量%を共
重合してなる、示差走査熱量計で測定したガラス転移温
度が60〜100℃の範囲にあるバインダー用熱可塑性
重合体の40〜70重量部; (B)1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有す
る一種またはそれ以上の化合物からなり、該化合物中に
1分子中に1個以上の水酸基と2個以上のエチレン性不
飽和基を有する化合物を5重量%以上含有するところの
架橋性単量体の25〜50重量部: (C)光重合開始剤の0,1〜10重量部:からなる光
重合性樹脂組成物である。
ル基またはハロゲン原子を示す)で表わされるスチレン
型化合物、またはその環置換誘導体1種以上の3〜30
重量%、 アルキル基が1〜6個の炭素原子を有するアルキルアク
リレート、およびヒドロキシアルキル基が2〜6個の炭
素原子を有するヒドロキシアルキルアクリレートよりな
る群から選ばれる一種以上の化合物の15〜45重量%
、 アルキル基が1〜6個の炭素原子を有するアルキルメタ
クリレート、およびヒドロキシアルキル基が2〜6個の
炭素原子を有するヒドロキシアルキルメタクリレートよ
りなる群から選ばれる一種以上の化合物の25〜60重
量%、 3〜15個の炭素原子を有するα、β−不飽和力ルボキ
シル基含有モノマーの一種以上の15〜35重量%を共
重合してなる、示差走査熱量計で測定したガラス転移温
度が60〜100℃の範囲にあるバインダー用熱可塑性
重合体の40〜70重量部; (B)1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有す
る一種またはそれ以上の化合物からなり、該化合物中に
1分子中に1個以上の水酸基と2個以上のエチレン性不
飽和基を有する化合物を5重量%以上含有するところの
架橋性単量体の25〜50重量部: (C)光重合開始剤の0,1〜10重量部:からなる光
重合性樹脂組成物である。
本発明の光重合性樹脂組成物を構成する各成分について
説明する。
説明する。
まず、本発明の光重合性樹脂組成物を構成するバインダ
ー用熱可塑性重合体(A)は、前記4つの重合性物質の
共重合体からなり、該組成物中に40〜7o重量部、好
ましくは45〜65重量部含有される。含有量が40重
量部未満の場合には、得られる感光層のフィルム形成性
が損なわれ、十分な膜強度が得られず、ドライフィルム
レジストとしてロールに巻いて保存した際にレジスト組
成物が支持フィルムの間から経時的ににじみ、出るいわ
ゆるコールドフローが発生し易い。一方70重量部を越
える場合には、光硬化膜が脆く、基材との密着力が損な
われ十分な耐金めつき性が得られなくなる。
ー用熱可塑性重合体(A)は、前記4つの重合性物質の
共重合体からなり、該組成物中に40〜7o重量部、好
ましくは45〜65重量部含有される。含有量が40重
量部未満の場合には、得られる感光層のフィルム形成性
が損なわれ、十分な膜強度が得られず、ドライフィルム
レジストとしてロールに巻いて保存した際にレジスト組
成物が支持フィルムの間から経時的ににじみ、出るいわ
ゆるコールドフローが発生し易い。一方70重量部を越
える場合には、光硬化膜が脆く、基材との密着力が損な
われ十分な耐金めつき性が得られなくなる。
また、バインダー用熱可塑性重合体(A)の重量平均分
子量は40.000〜200.000の範囲のものが望
ましい0重量平均分子量が40.000未満の場合は、
ドライフィルムレジストとした際にコールドフロー現象
を起こし、重量平均分子量が200.000を越える場
合は未露光部が溶解せず現像が出来なくなるか、または
現像時間が極めて長くかかりすぎて解像度の低下を引き
起こす。
子量は40.000〜200.000の範囲のものが望
ましい0重量平均分子量が40.000未満の場合は、
ドライフィルムレジストとした際にコールドフロー現象
を起こし、重量平均分子量が200.000を越える場
合は未露光部が溶解せず現像が出来なくなるか、または
現像時間が極めて長くかかりすぎて解像度の低下を引き
起こす。
更に、本発明の組成物を構成するバインダー用熱可塑性
重合体は、示差走査熱量計(DSC)で測定したガラス
転移温度(Tg)が60〜100℃であることが必須で
あり、より好ましくは70〜95℃である。Tgが10
0℃を越えると、十分に柔軟性のあるドライフィルムレ
ジストが得られず、基材への密着性、基材表面の凹凸へ
のレジスト樹脂の埋り込み性が不十分で耐金めつき性が
低下し、反対に60℃未満の場合はレジスト樹脂が軟ら
かすぎてドライフィルムレジストとした際のコールドフ
ロー現象の原因となる。
重合体は、示差走査熱量計(DSC)で測定したガラス
転移温度(Tg)が60〜100℃であることが必須で
あり、より好ましくは70〜95℃である。Tgが10
0℃を越えると、十分に柔軟性のあるドライフィルムレ
ジストが得られず、基材への密着性、基材表面の凹凸へ
のレジスト樹脂の埋り込み性が不十分で耐金めつき性が
低下し、反対に60℃未満の場合はレジスト樹脂が軟ら
かすぎてドライフィルムレジストとした際のコールドフ
ロー現象の原因となる。
このようなバインダー用熱可塑性重合体を得るためには
、下記4つの重合性物質の適量を共重合させることによ
り達成される。
、下記4つの重合性物質の適量を共重合させることによ
り達成される。
第1の重合性物質は、前記一般式(I)で表わされるス
チレン型化合物の一種以上からなり、ベンゼン環はニト
ロ基、アルコキシル基、アシル基、カルボキシル基、ス
ルホン基、ヒドロキシル基、またはハロゲン等の官能基
で置換されていても良く、好ましくはメチル基またはt
−ブチル基等の単一アルキル基である。これら置換基は
ベンゼン環に1〜5個置換してもよい。
チレン型化合物の一種以上からなり、ベンゼン環はニト
ロ基、アルコキシル基、アシル基、カルボキシル基、ス
ルホン基、ヒドロキシル基、またはハロゲン等の官能基
で置換されていても良く、好ましくはメチル基またはt
−ブチル基等の単一アルキル基である。これら置換基は
ベンゼン環に1〜5個置換してもよい。
第1の重合性物質は共重合体中3〜30重量%、好まし
くは5〜25重量%で用いられる。3重量%未満では十
分な耐薬品性、耐金めつき性を得ることはできず、30
重量%を越えるとドライフィルムレジストが硬くなりす
ぎてレジスト剥離を起こしやすくなる。
くは5〜25重量%で用いられる。3重量%未満では十
分な耐薬品性、耐金めつき性を得ることはできず、30
重量%を越えるとドライフィルムレジストが硬くなりす
ぎてレジスト剥離を起こしやすくなる。
第2の重合性物質は、炭素原子数1〜6のアルキル基を
有するアルキルアクリレート、または炭素原子数2〜6
のヒドロキシアルキル基を有するヒドロキシアルキルア
クリレートの一種以上からなる。
有するアルキルアクリレート、または炭素原子数2〜6
のヒドロキシアルキル基を有するヒドロキシアルキルア
クリレートの一種以上からなる。
炭素原子数1〜6のアルキル基を有するアルキルアクリ
レート、または炭素原子数2〜6のヒドロキシアルキル
基を有するヒドロキシアルキルアクリレートとしては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ロープロピ
ルアクリレート、1so−プロピルアクリレート、n−
ブチルアクリレート、5ec−ブチルアクリレート、t
ert−ブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等が
挙げられる。
レート、または炭素原子数2〜6のヒドロキシアルキル
基を有するヒドロキシアルキルアクリレートとしては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ロープロピ
ルアクリレート、1so−プロピルアクリレート、n−
ブチルアクリレート、5ec−ブチルアクリレート、t
ert−ブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等が
挙げられる。
第2の重合性物質は共重合体中15〜45重量%、好ま
しくは20〜40重量%用いられるのが望ましい、 1
5重量%未満では十分に柔軟性のあるドライフィルムレ
ジストが得られず、基材への密着性、基材表面の凹凸へ
のレジスト樹脂の埋り込み性が不十分となり耐金めつき
性が低下する。45重量%を越えると逆にレジスト樹脂
が軟らかすぎてドライフィルムレジストとした際のコー
ルドフロー現象の原因となる。
しくは20〜40重量%用いられるのが望ましい、 1
5重量%未満では十分に柔軟性のあるドライフィルムレ
ジストが得られず、基材への密着性、基材表面の凹凸へ
のレジスト樹脂の埋り込み性が不十分となり耐金めつき
性が低下する。45重量%を越えると逆にレジスト樹脂
が軟らかすぎてドライフィルムレジストとした際のコー
ルドフロー現象の原因となる。
第3の重合性物質は、炭素原子数1〜6のアルキル基を
有するアルキルメタクリレート、または炭素原子数2〜
6のヒドロキシアルキル基を有するヒドロキシアルキル
メタクリレートの一種以上からなる。
有するアルキルメタクリレート、または炭素原子数2〜
6のヒドロキシアルキル基を有するヒドロキシアルキル
メタクリレートの一種以上からなる。
炭素原子数1〜6のアルキル基を有するアルキルメタク
リレート、または炭素原子数2〜6のヒドロキシアルキ
ル基を有するヒドロキシアルキルメタクリレートとして
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n
−プロピルメタクリレート、1so−プロピルメタクリ
レート、n−ブチルメタクリレート、5ec−ブチルメ
タクリレート、tert−ブチルメタクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート等が挙げられる。第3の重合性物質
は共重合体中25〜60重量%、好ましくは30〜55
重量%用いられるのが望ましい。
リレート、または炭素原子数2〜6のヒドロキシアルキ
ル基を有するヒドロキシアルキルメタクリレートとして
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n
−プロピルメタクリレート、1so−プロピルメタクリ
レート、n−ブチルメタクリレート、5ec−ブチルメ
タクリレート、tert−ブチルメタクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート等が挙げられる。第3の重合性物質
は共重合体中25〜60重量%、好ましくは30〜55
重量%用いられるのが望ましい。
第4の重合性物質は、炭素原子数3〜15、好ましくは
3〜6の不飽和カルボキシル基含有モノマーの一種以上
からなる。不飽和カルボキシル基含有モノマーとしては
、好ましくはアクリル酸およびメタクリル酸があり、そ
の他、ケイ皮酸、クロトン酸、ソルビン酸、イタコン酸
、プロピオール酸、マレイン酸およびフマル酸が挙げら
れる。
3〜6の不飽和カルボキシル基含有モノマーの一種以上
からなる。不飽和カルボキシル基含有モノマーとしては
、好ましくはアクリル酸およびメタクリル酸があり、そ
の他、ケイ皮酸、クロトン酸、ソルビン酸、イタコン酸
、プロピオール酸、マレイン酸およびフマル酸が挙げら
れる。
またこれらの半エステル類または無水物も使用可能であ
る。
る。
第4の重合性物質は共重合体中15〜35重量%、好ま
しくは18〜30重量%で用いられるのが望ましい、
15重量%未満ではアルカリ水溶液によって現像できな
いか、または現像時間が長くかかり過ぎて解像度の低下
を来たし、35重量%を越えると現像時間が極めて短く
なり、高解像度のパターンを得るためには現像コントロ
ールが複雑で困難となり、また硬化部の耐水性も低下す
る。
しくは18〜30重量%で用いられるのが望ましい、
15重量%未満ではアルカリ水溶液によって現像できな
いか、または現像時間が長くかかり過ぎて解像度の低下
を来たし、35重量%を越えると現像時間が極めて短く
なり、高解像度のパターンを得るためには現像コントロ
ールが複雑で困難となり、また硬化部の耐水性も低下す
る。
本発明の目的である光重合性樹脂組成物に優れた耐金め
つき性を付与するためには、前記特定のバインダー用熱
可塑性重合体に、後述の架橋性成分を特定量配合するこ
とが特に重要であって、本願範囲外の組成物では、本願
目的の優れた耐金めつき性は達成されない、特定の熱可
塑性重合体は前記したように特定組成の重合体を用いる
ことによりレジストの耐金めつき性向上に必要なレジス
ト自身の耐薬品性(耐金めつき液性)、基材に対する埋
り込み性を向上させるが、特に1分子中に1個以上の水
酸基と2個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を
、これら熱可塑性重合体に特定量以上配合することによ
って、予期せぬほど優れた耐金めつき性を発現すること
を見出した。
つき性を付与するためには、前記特定のバインダー用熱
可塑性重合体に、後述の架橋性成分を特定量配合するこ
とが特に重要であって、本願範囲外の組成物では、本願
目的の優れた耐金めつき性は達成されない、特定の熱可
塑性重合体は前記したように特定組成の重合体を用いる
ことによりレジストの耐金めつき性向上に必要なレジス
ト自身の耐薬品性(耐金めつき液性)、基材に対する埋
り込み性を向上させるが、特に1分子中に1個以上の水
酸基と2個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を
、これら熱可塑性重合体に特定量以上配合することによ
って、予期せぬほど優れた耐金めつき性を発現すること
を見出した。
本発明の光重合性樹脂組成物を構成する1分子中に1個
以上のエチレン性不飽和基を有する1種またはそれ以上
の化合物であって、その中に1分子中に1個以上の水酸
基と2個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を5
重量%以上含有するところの架橋性単量体CB)につい
て説明する。
以上のエチレン性不飽和基を有する1種またはそれ以上
の化合物であって、その中に1分子中に1個以上の水酸
基と2個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を5
重量%以上含有するところの架橋性単量体CB)につい
て説明する。
1分子中に1個以上の水酸基と2個以上のエチレン性不
飽和基を有する化合物としては、グリセリンジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、イソシ
アヌル酸トリエチロールジ(メタ)アクリレート、エポ
キシ樹脂1分子あたり2個以上の(メタ)アクリル酸付
加化合物の一種以上からなる化合物が挙げられる。
飽和基を有する化合物としては、グリセリンジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、イソシ
アヌル酸トリエチロールジ(メタ)アクリレート、エポ
キシ樹脂1分子あたり2個以上の(メタ)アクリル酸付
加化合物の一種以上からなる化合物が挙げられる。
本発明の光重合性樹脂組成物に用いられる架橋性単量体
(B)は、これらの化合物の1種またはそれ以上、ある
いはこれらの化合物と、n−ブトキシメチルアクリルア
ミド、1so−ブトキシメチルアクリルアミド、フェノ
キシジェトキシ(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコール(メタ)アクリレート、ボリブロビレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、1.6−ヘキサンシオールジ
(メタ)アクリレート、ネオベンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、2.2−ビス[4−(メタ)アクロ
キシポリエトキシフェニル]プロパン、2.2−ビス[
4−(メタ)アクロキシポリプロピレンオキシフェニル
]プロパン、ヒドロキシピバリン酸ネオベンチルグリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリス[ポリエトキシ(メタ)アクリレート]、トリメ
チロールプロパントリス[ポリプロピレンオキシ(メタ
)アクリレート]、イソシアヌル酸トリエチロールトリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(
メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(
メタ)アクリレート等やウレタン(メタ)アクリレート
等の1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有する
化合物の1種以上との混合物であって、これら混合物の
うち、前記の1分子中に1個以上の水酸基と2個以上の
エチレン性不飽和基を有する化合物の一種以上を5重量
%以上、好ましくは10重量%以上含有したものである
。
(B)は、これらの化合物の1種またはそれ以上、ある
いはこれらの化合物と、n−ブトキシメチルアクリルア
ミド、1so−ブトキシメチルアクリルアミド、フェノ
キシジェトキシ(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコール(メタ)アクリレート、ボリブロビレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、1.6−ヘキサンシオールジ
(メタ)アクリレート、ネオベンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、2.2−ビス[4−(メタ)アクロ
キシポリエトキシフェニル]プロパン、2.2−ビス[
4−(メタ)アクロキシポリプロピレンオキシフェニル
]プロパン、ヒドロキシピバリン酸ネオベンチルグリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリス[ポリエトキシ(メタ)アクリレート]、トリメ
チロールプロパントリス[ポリプロピレンオキシ(メタ
)アクリレート]、イソシアヌル酸トリエチロールトリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(
メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(
メタ)アクリレート等やウレタン(メタ)アクリレート
等の1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有する
化合物の1種以上との混合物であって、これら混合物の
うち、前記の1分子中に1個以上の水酸基と2個以上の
エチレン性不飽和基を有する化合物の一種以上を5重量
%以上、好ましくは10重量%以上含有したものである
。
架橋性単1体(B)中に含まれる1分子中に1個以上の
水酸基と2個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物
は、5重量%未満では十分な耐金めつき性は得られない
。その詳細な機構は十分に解明できていないが、1分子
中に1個以上の水酸基と2個以上のエチレン性不飽和基
を有しているために、光重合性樹脂組成物が硬化した際
に容易に金めつき液が浸透しなくなる程度に十分に架橋
し、かつ分子中の水酸基がカルボキシル基を有する熱可
塑性重合体および基板銅表面と予期せぬ相互作用をして
、耐金めつき性が向上したものと予想される。
水酸基と2個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物
は、5重量%未満では十分な耐金めつき性は得られない
。その詳細な機構は十分に解明できていないが、1分子
中に1個以上の水酸基と2個以上のエチレン性不飽和基
を有しているために、光重合性樹脂組成物が硬化した際
に容易に金めつき液が浸透しなくなる程度に十分に架橋
し、かつ分子中の水酸基がカルボキシル基を有する熱可
塑性重合体および基板銅表面と予期せぬ相互作用をして
、耐金めつき性が向上したものと予想される。
本発明において使用されるエチレン性不飽和基を有する
架橋性単量体(B)は、光重合性樹脂組成物中に25〜
50重量部、好ましくは30〜45重量部含有される。
架橋性単量体(B)は、光重合性樹脂組成物中に25〜
50重量部、好ましくは30〜45重量部含有される。
25重量部未満では十分に硬化せず、耐薬品性、耐金め
つき性が低下し、逆に50重量部を越えるとドライフィ
ルムレジストとした場合、コールドフローが発生し易く
なり、また硬化物が固く脆い物となり、基材から容易に
剥離するようになる。
つき性が低下し、逆に50重量部を越えるとドライフィ
ルムレジストとした場合、コールドフローが発生し易く
なり、また硬化物が固く脆い物となり、基材から容易に
剥離するようになる。
本発明の光重合性樹脂組成物を構成する光重合開始剤(
C)は、公知の、例えば、ベンゾフェノン、ミヒラーズ
ケトン、4.4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラ
キノン、チオキサントン類、ベンゾインアルキルエーテ
ル類、ベンジルケタール類等が挙げられる。これらは1
種または2種以上併用することができる。
C)は、公知の、例えば、ベンゾフェノン、ミヒラーズ
ケトン、4.4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラ
キノン、チオキサントン類、ベンゾインアルキルエーテ
ル類、ベンジルケタール類等が挙げられる。これらは1
種または2種以上併用することができる。
本発明において使用される光重合開始剤(C)は、紫外
線で硬化させる場合には、光重合性樹脂組成物中に0.
1−10重量部含有される。0.1重量部未満では十分
に光硬化が起こらず、10重量部を越えると熱的に不安
定となり好ましくない。
線で硬化させる場合には、光重合性樹脂組成物中に0.
1−10重量部含有される。0.1重量部未満では十分
に光硬化が起こらず、10重量部を越えると熱的に不安
定となり好ましくない。
また本発明の光重合性樹脂組成物は、必要に応じて密着
促進剤、熱重合禁止剤、染料、可塑剤および充填剤等の
成分を添加してもよい。
促進剤、熱重合禁止剤、染料、可塑剤および充填剤等の
成分を添加してもよい。
本発明の光重合性樹脂組成物は、希釈剤の不存在下でも
そのまま対象とする基材に成膜することができるが、基
材樹脂を溶解させ、かつ沸点のあまり高くない溶剤、例
えば、メチルエチルケトン、メチルクロリド、塩化メチ
レン/メチルアルコール混合物、またはイソプロピルア
ルコール等を併用するほうが成膜は容易である。溶剤の
使用量は、組成物に対して200重量部以下、好ましく
は100〜200重量部である。
そのまま対象とする基材に成膜することができるが、基
材樹脂を溶解させ、かつ沸点のあまり高くない溶剤、例
えば、メチルエチルケトン、メチルクロリド、塩化メチ
レン/メチルアルコール混合物、またはイソプロピルア
ルコール等を併用するほうが成膜は容易である。溶剤の
使用量は、組成物に対して200重量部以下、好ましく
は100〜200重量部である。
以上のようにして構成される本発明の光重合性樹脂組成
物を用いてドライフィルムレジストを形成させるには、
ブレードコーター、ロッドコーター、ナイフコーター
ロールドクターコーター コンマコーター リバースロ
ールコータ−トランスファロールコータ−、グラビアコ
ーター、キスロールコーター、カーテンコーター等を用
いて塗布することができるが、組成物に溶剤を使用する
場合には溶剤を揮散させておく必要がある。
物を用いてドライフィルムレジストを形成させるには、
ブレードコーター、ロッドコーター、ナイフコーター
ロールドクターコーター コンマコーター リバースロ
ールコータ−トランスファロールコータ−、グラビアコ
ーター、キスロールコーター、カーテンコーター等を用
いて塗布することができるが、組成物に溶剤を使用する
場合には溶剤を揮散させておく必要がある。
ドライフィルムレジストを形成する際に使用される支持
体としては、ポリエステル等のプラスチックフィルムが
主に用いられる。
体としては、ポリエステル等のプラスチックフィルムが
主に用いられる。
このように形成されたドライフィルムレジストは、その
後溶剤留去のため乾燥機による強制乾燥を行なう、この
目的に使用可能な乾燥機としては、可燃性溶剤を使用す
る場合には安全性の面から蒸気による空気加熱式の熱源
を備えたものを使用し、乾燥機内の熱風を向流接触させ
る方式、またはノズルより直接支持体上に吹き付ける方
式等が可能である。乾燥機の形状はアーチ式、フラット
式等目的に合せて選択する。
後溶剤留去のため乾燥機による強制乾燥を行なう、この
目的に使用可能な乾燥機としては、可燃性溶剤を使用す
る場合には安全性の面から蒸気による空気加熱式の熱源
を備えたものを使用し、乾燥機内の熱風を向流接触させ
る方式、またはノズルより直接支持体上に吹き付ける方
式等が可能である。乾燥機の形状はアーチ式、フラット
式等目的に合せて選択する。
乾燥後のドライフィルムレジストには、必要であれば、
ポリエチレンやポリプロピレン等の保護フィルムをラミ
ネートしても良い。
ポリエチレンやポリプロピレン等の保護フィルムをラミ
ネートしても良い。
本発明の光重合性樹脂組成物を用いて製造したドライフ
ィルムレジストは、めっき用、特に金めつき用レジスト
として優れているのみならず、エツチング用レジストと
しても使用可能で、作業性、工程通過性能に優れ、高解
像度パターンを得ることが可能である。
ィルムレジストは、めっき用、特に金めつき用レジスト
として優れているのみならず、エツチング用レジストと
しても使用可能で、作業性、工程通過性能に優れ、高解
像度パターンを得ることが可能である。
[実施例]
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
念底1
窒素導入口、攪拌機、コンデンサーおよび温度計を備え
たl000mβの4つロフラスコに、窒素雰囲気下でイ
ソプロピルアルコールlOc1g、メチルエチルケトン
100gおよび表1に示す組成の重合性物質を合計20
0g入れ、攪拌しなから湯浴の温度を80℃に上げる0
次いで、アゾビスブチロニトリル1.0gを10gのイ
ソプロピルアルコールに溶解して添加し、4時間重合し
た。さらにアゾビスブチロニトリル1.0gを10gの
イソプロピルアルコールに溶解し、これを30分置きに
5回に分けて添加した後、フラスコ内温度を溶剤の沸点
まで上昇させてその温度で2時間重合した0重合終了後
、イソプロピルアルコール100gを添加して重合反応
物をフラスコより取り出し、バインダー樹脂溶液を調製
した。なお各組成におけるモノマー混合物の重合率はい
ずれも99.5%以上であった。
たl000mβの4つロフラスコに、窒素雰囲気下でイ
ソプロピルアルコールlOc1g、メチルエチルケトン
100gおよび表1に示す組成の重合性物質を合計20
0g入れ、攪拌しなから湯浴の温度を80℃に上げる0
次いで、アゾビスブチロニトリル1.0gを10gのイ
ソプロピルアルコールに溶解して添加し、4時間重合し
た。さらにアゾビスブチロニトリル1.0gを10gの
イソプロピルアルコールに溶解し、これを30分置きに
5回に分けて添加した後、フラスコ内温度を溶剤の沸点
まで上昇させてその温度で2時間重合した0重合終了後
、イソプロピルアルコール100gを添加して重合反応
物をフラスコより取り出し、バインダー樹脂溶液を調製
した。なお各組成におけるモノマー混合物の重合率はい
ずれも99.5%以上であった。
得られたバインダー樹脂溶液の溶剤を十分に留去させバ
インダー樹脂固形物を得た。固形分量はいずれも38,
7重量%であった。得られたバインダー樹脂固形物のT
g (ガラス転移温度)をDSCで測定した。結果を表
1に示す。
インダー樹脂固形物を得た。固形分量はいずれも38,
7重量%であった。得られたバインダー樹脂固形物のT
g (ガラス転移温度)をDSCで測定した。結果を表
1に示す。
実施例1〜6、比較例1〜6
合成例により得られたバインダー樹脂溶液を用いて表2
に示す組成の光重合性樹脂組成物を調合した。
に示す組成の光重合性樹脂組成物を調合した。
調合された組成物をプロペラ型ミキサーで攪拌し、ブレ
ードコーターにより厚さ25μ、幅360mmのポリエ
ステルフィルム上に塗工幅340mmで塗布した。つい
で幅400mm、高さ I OOmm、長さ8mのクラ
ット型乾燥機中を向流にして熱風を送り込み、乾燥塗工
厚さ50μmとした。この時の塗工速度は5m/分、熱
風温度を90℃とした1次いでその乾燥塗膜上に厚さ3
5μmのポリエチレン製保護フィルムをラミネートし、
ドライフィルムレジストとした。これを120m分ロー
ルに巻き取った。このロールを23℃の恒温室に横向き
にして5日間静置し、ロール端面からのコールドフロー
の状態を目視で観察した。その結果を表3に示す。
ードコーターにより厚さ25μ、幅360mmのポリエ
ステルフィルム上に塗工幅340mmで塗布した。つい
で幅400mm、高さ I OOmm、長さ8mのクラ
ット型乾燥機中を向流にして熱風を送り込み、乾燥塗工
厚さ50μmとした。この時の塗工速度は5m/分、熱
風温度を90℃とした1次いでその乾燥塗膜上に厚さ3
5μmのポリエチレン製保護フィルムをラミネートし、
ドライフィルムレジストとした。これを120m分ロー
ルに巻き取った。このロールを23℃の恒温室に横向き
にして5日間静置し、ロール端面からのコールドフロー
の状態を目視で観察した。その結果を表3に示す。
また得られたドライフィルムレジストは保護フィルムを
剥離しながら塗布膜面を銅張積層板に熱ラミネートし、
銅張積層板の温度が室温に戻った後、ポリエステルフィ
ルム面にフォトツールを密着して超高圧水銀灯で露光し
た。超高圧水銀灯はウシオ電機製USH−102Dを用
い、照射量100mJ/cm”を照射した。この際の露
光強度はウシオ電機製紫外線強度計(UIT−100)
に受光器(UVD−365P)を取付けて測定したとこ
ろ、5mW/cm”であった。
剥離しながら塗布膜面を銅張積層板に熱ラミネートし、
銅張積層板の温度が室温に戻った後、ポリエステルフィ
ルム面にフォトツールを密着して超高圧水銀灯で露光し
た。超高圧水銀灯はウシオ電機製USH−102Dを用
い、照射量100mJ/cm”を照射した。この際の露
光強度はウシオ電機製紫外線強度計(UIT−100)
に受光器(UVD−365P)を取付けて測定したとこ
ろ、5mW/cm”であった。
露光後20分放置して支持体フィルムを剥離して1%炭
酸ナトリウム水溶液で現像した。現像は液温27℃、ス
プレー圧1.2kg/am”とし、スプレーと基板との
距離を10cmとして行なった0次いで酸性脱脂剤に4
5℃で2分間浸漬し脱脂した後、オーバーフロータンク
でスプレー水洗を約1分間行ない、その後20重量%の
過硫酸アンモニウム水溶液中に1分間浸漬し酸化皮膜を
除去した。同様にスプレー水洗により過硫酸アンモニウ
ム水溶液を除去した後、10%硫酸水溶液に1分間浸漬
しエツチングを行ない、同様にスプレー水洗して硫酸水
溶液を除去した0以上のようにして処理した銅基板をニ
ッケルめっき浴(ワット浴)に入れて、1、5A/dm
”で10分間めっきを施した。この時の液温は45℃で
あった。めっき終了後、直ちに水洗を1分間行ない、次
いで1. OA/dm”で12分間金めフきを施した。
酸ナトリウム水溶液で現像した。現像は液温27℃、ス
プレー圧1.2kg/am”とし、スプレーと基板との
距離を10cmとして行なった0次いで酸性脱脂剤に4
5℃で2分間浸漬し脱脂した後、オーバーフロータンク
でスプレー水洗を約1分間行ない、その後20重量%の
過硫酸アンモニウム水溶液中に1分間浸漬し酸化皮膜を
除去した。同様にスプレー水洗により過硫酸アンモニウ
ム水溶液を除去した後、10%硫酸水溶液に1分間浸漬
しエツチングを行ない、同様にスプレー水洗して硫酸水
溶液を除去した0以上のようにして処理した銅基板をニ
ッケルめっき浴(ワット浴)に入れて、1、5A/dm
”で10分間めっきを施した。この時の液温は45℃で
あった。めっき終了後、直ちに水洗を1分間行ない、次
いで1. OA/dm”で12分間金めフきを施した。
金めつき液は日本エレクトロブレーティングエンジニャ
ーズ■製のオートロネクスCIを用い、液温30℃で使
用した。めっき終了後水洗を行ない、その後、3%水酸
化ナトリウム水溶液でドライフィルムレジストを除去し
、さらに20重量%の過硫酸アンモニウム水溶液に浸漬
して銅をエツチングし、めっきもぐりの状態を目視で観
察した。その結果を表3に示した。
ーズ■製のオートロネクスCIを用い、液温30℃で使
用した。めっき終了後水洗を行ない、その後、3%水酸
化ナトリウム水溶液でドライフィルムレジストを除去し
、さらに20重量%の過硫酸アンモニウム水溶液に浸漬
して銅をエツチングし、めっきもぐりの状態を目視で観
察した。その結果を表3に示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (A)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは水素、1〜6個の炭素原子を有するアルキ
ル基またはハロゲン原子を示す)で表わされるスチレン
型化合物、またはその環置換誘導体1種以上の3〜30
重量%、 アルキル基が1〜6個の炭素原子を有するアルキルアク
リレート、およびヒドロキシアルキル基が2〜6個の炭
素原子を有するヒドロキシアルキルアクリレートよりな
る群から選ばれる一種以上の化合物の15〜45重量%
、 アルキル基が1〜6個の炭素原子を有するアルキルメタ
クリレート、およびヒドロキシアルキル基が2〜6個の
炭素原子を有するヒドロキシアルキルメタクリレートよ
りなる群から選ばれる一種以上の化合物の25〜60重
量%、 3〜15個の炭素原子を有するα,β−不飽和カルボキ
シル基含有モノマーの一種以上の15〜35重量%を共
重合してなる、示差走査熱量計で測定したガラス転移温
度が60〜100℃の範囲にあるバインダー用熱可塑性
重合体の40〜70重量部: (B)1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有す
る一種またはそれ以上の化合物からなり、該化合物中に
1分子中に1個以上の水酸基と2個以上のエチレン性不
飽和基を有する化合物を5重量%以上含有するところの
架橋性単量体の25〜50重量部: (C)光重合開始剤の0.1〜10重量部:からなる光
重合性樹脂組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30781088A JPH02154264A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 光重合性樹脂組成物 |
| EP19890312742 EP0372944A3 (en) | 1988-12-07 | 1989-12-07 | Photopolymerizable resin composition and gold plating method using same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30781088A JPH02154264A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 光重合性樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02154264A true JPH02154264A (ja) | 1990-06-13 |
Family
ID=17973492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30781088A Pending JPH02154264A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 光重合性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02154264A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05257281A (ja) * | 1991-06-12 | 1993-10-08 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 感光性樹脂組成物、感光液組成物及び感光性フィルム |
-
1988
- 1988-12-07 JP JP30781088A patent/JPH02154264A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05257281A (ja) * | 1991-06-12 | 1993-10-08 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 感光性樹脂組成物、感光液組成物及び感光性フィルム |
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