JPH02157155A - 高誘電率系誘電体磁器組成物の製造方法 - Google Patents
高誘電率系誘電体磁器組成物の製造方法Info
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- JPH02157155A JPH02157155A JP63309509A JP30950988A JPH02157155A JP H02157155 A JPH02157155 A JP H02157155A JP 63309509 A JP63309509 A JP 63309509A JP 30950988 A JP30950988 A JP 30950988A JP H02157155 A JPH02157155 A JP H02157155A
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- dielectric
- ceramic composition
- fired
- dielectric constant
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は焼成温度が800〜1000°Cでかつ大気中
、中性雰囲気中まだは還元雰囲気中にて短時間で焼成し
得る。高誘電率系誘電体磁器組成物の製造方法に関する
ものである。
、中性雰囲気中まだは還元雰囲気中にて短時間で焼成し
得る。高誘電率系誘電体磁器組成物の製造方法に関する
ものである。
従来の技術
小型化、大容量化の進むセラミックコンデンサの高誘電
率材料としては、従来よりチタン酸バリウムを主成分と
する材料が用いられてきだが、この材料を焼結させるに
は大気中でかっ焼成温度として1300℃程度の高温が
必要であるだめ、積層型セラミックコンデンサを作成す
る場合に、電極材料としては高価な白金あるいはバラジ
ュウムなどの貴金属の使用が不可欠であり、特に大容量
化に伴い内部電極材料が原材料費を押し上げる要因とな
っていた。
率材料としては、従来よりチタン酸バリウムを主成分と
する材料が用いられてきだが、この材料を焼結させるに
は大気中でかっ焼成温度として1300℃程度の高温が
必要であるだめ、積層型セラミックコンデンサを作成す
る場合に、電極材料としては高価な白金あるいはバラジ
ュウムなどの貴金属の使用が不可欠であり、特に大容量
化に伴い内部電極材料が原材料費を押し上げる要因とな
っていた。
これに対して、近年、チタン酸バリウム材料に耐還元性
を持たせ、電極材料として安価な卑金属を用いて酸素分
圧の低い雰囲気中で焼成する方法や、鉛系誘電体材料と
安価な銀を主体とする銀−パラジウム合金の電極材料と
を用いて、1000°C前後の低温で焼成する方法によ
り積層セラミックコンデンサの低コスト化が図られてい
る。
を持たせ、電極材料として安価な卑金属を用いて酸素分
圧の低い雰囲気中で焼成する方法や、鉛系誘電体材料と
安価な銀を主体とする銀−パラジウム合金の電極材料と
を用いて、1000°C前後の低温で焼成する方法によ
り積層セラミックコンデンサの低コスト化が図られてい
る。
一方、小型化や高信頼性が望まれる電子機器においては
、実装密度の高いハイグツリドIC化が進められておシ
、従来のチップコンデンサに変わって厚膜コンデンサに
対する要望が高まっている。
、実装密度の高いハイグツリドIC化が進められておシ
、従来のチップコンデンサに変わって厚膜コンデンサに
対する要望が高まっている。
この厚膜コンデンサを作成するには、低温、短時間焼成
が可能な誘電体が必要であり、このための材料としては
主に鉛系誘電体が用いられる。
が可能な誘電体が必要であり、このための材料としては
主に鉛系誘電体が用いられる。
従って、積層チップコンデンサの大容量化あるいはコン
デンサの厚膜化のいずれにも対応できる材料として、鉛
系誘電体の開発が盛んに進められている。
デンサの厚膜化のいずれにも対応できる材料として、鉛
系誘電体の開発が盛んに進められている。
発明が解決しようとする課題
さて PbTiO3−Pb(Mg%Nb乞)03Pb(
Ni%W%)03系固溶体は、特開昭61−15524
9号公報で知られているように、1000°C以下の大
気中で焼成される高誘電率組成物であるが、誘電率を高
め、充分緻密な焼結体を得るためには、焼成温度にて数
時間保持する必要がある。一方、ハイブリッドIC用の
厚膜コンデンサを作成する場合、低温短時間焼成が不可
欠となり、このような条件化では前記誘電体材料は未焼
結となるだめ、所望の特性が得られないという問題が起
こる。さらに、長時間の中性あるいは還元雰囲気中にお
ける熱処理により誘電体磁器中に酸素欠陥が生じ易くな
り、誘電率の低下、絶縁抵抗の低下をきたし、実用上問
題であった。
Ni%W%)03系固溶体は、特開昭61−15524
9号公報で知られているように、1000°C以下の大
気中で焼成される高誘電率組成物であるが、誘電率を高
め、充分緻密な焼結体を得るためには、焼成温度にて数
時間保持する必要がある。一方、ハイブリッドIC用の
厚膜コンデンサを作成する場合、低温短時間焼成が不可
欠となり、このような条件化では前記誘電体材料は未焼
結となるだめ、所望の特性が得られないという問題が起
こる。さらに、長時間の中性あるいは還元雰囲気中にお
ける熱処理により誘電体磁器中に酸素欠陥が生じ易くな
り、誘電率の低下、絶縁抵抗の低下をきたし、実用上問
題であった。
本発明ではかかる問題に鑑み PbTiO3Pb (”
X Nb515)05−Pb(Ni%WH) O,系固
溶体の持つ高い誘電率を損なわず、大気中ならびに中性
雰囲気中あるいは還元雰囲気中にて800〜6へ−7 1000℃で短時間焼成が可能な高誘電率誘電体磁器組
成物の製造方法、およびそれを用いたセラミックコンデ
ンサまだは厚膜コンデンサを提供することを目的とする
ものである。
X Nb515)05−Pb(Ni%WH) O,系固
溶体の持つ高い誘電率を損なわず、大気中ならびに中性
雰囲気中あるいは還元雰囲気中にて800〜6へ−7 1000℃で短時間焼成が可能な高誘電率誘電体磁器組
成物の製造方法、およびそれを用いたセラミックコンデ
ンサまだは厚膜コンデンサを提供することを目的とする
ものである。
課題を解決するだめの手段
前記問題点を解決するだめに本発明の高誘電率系誘電体
磁器組成物の製造方法は PbTix(MgHNb、H
)y(N’、Aw%)205 f表される磁器組成物(
ただし、x+y+z=1)において。
磁器組成物の製造方法は PbTix(MgHNb、H
)y(N’、Aw%)205 f表される磁器組成物(
ただし、x+y+z=1)において。
PbTiO3,Pb(Mg%Nb y、) 05および
Pb(NIHW、A)o5を頂点とする三角座標で、下
記〔〕内の数値で表される組成人、B、G、D、Eを頂
点とする五角形の領域内からなる主成分誘電体磁器組成
物の粉体に対して、副成分として酸化鉛1.0〜25.
0モルににて前記誘電体粉体を被覆した粉体を用い、そ
の後、成形、焼成するという構成を備えだものである。
Pb(NIHW、A)o5を頂点とする三角座標で、下
記〔〕内の数値で表される組成人、B、G、D、Eを頂
点とする五角形の領域内からなる主成分誘電体磁器組成
物の粉体に対して、副成分として酸化鉛1.0〜25.
0モルににて前記誘電体粉体を被覆した粉体を用い、そ
の後、成形、焼成するという構成を備えだものである。
作用
すなわち、本発明の特許請求の範囲の組成物においては
、ペロブスカイト構造を有するPbT10゜−Pb(M
g%Nb3/3)03−Pb(Ni3AW%)03系の
粉体を酸化鉛にて被覆することによシ、酸化鉛の融点(
880’C)を利用して低温で前記誘電体粉体の表面に
均一な液相を発生させ、液用焼結することによって誘電
体への拡散を円滑に行え、添加物による粒界相の形成が
抑制されることによって誘電率の低下を防ぎ、1000
°C以下という低い焼成温度にて、短時間に緻密に焼成
し得る大容量の積層セラミックコンデンサあるいは厚膜
コンデンサ用の組成物が得られることとなる。
、ペロブスカイト構造を有するPbT10゜−Pb(M
g%Nb3/3)03−Pb(Ni3AW%)03系の
粉体を酸化鉛にて被覆することによシ、酸化鉛の融点(
880’C)を利用して低温で前記誘電体粉体の表面に
均一な液相を発生させ、液用焼結することによって誘電
体への拡散を円滑に行え、添加物による粒界相の形成が
抑制されることによって誘電率の低下を防ぎ、1000
°C以下という低い焼成温度にて、短時間に緻密に焼成
し得る大容量の積層セラミックコンデンサあるいは厚膜
コンデンサ用の組成物が得られることとなる。
実施例
以下、本発明の実施例を示す。
〈実施例1〉
まず、出発原料としては化学的に高純度なPbO、Mg
O、Nb2O5,TiO2,NiO、WO3ヲ用いた。
O、Nb2O5,TiO2,NiO、WO3ヲ用いた。
これらを純度補正を行った土で所定量を秤量し、純水を
加えメノウ製玉石を用いてボールミル 分の大半を分離した後乾燥し,その後ライカイ機で充分
解砕した後,粉体量5Wtπの純水を加え。
加えメノウ製玉石を用いてボールミル 分の大半を分離した後乾燥し,その後ライカイ機で充分
解砕した後,粉体量5Wtπの純水を加え。
直径60朋,高さrsommの円柱状に成形圧力6o○
に! /crlで成形した。これをアルミナルツボ中に
入れ同質の蓋をし.760〜1000℃で2時間仮焼し
た。次に、前記仮焼物をアルミナ乳鉢で粗砕し,さらに
ボールミル 吸引濾過した後.乾燥した。以上の仮焼・粉砕・乾燥を
数回繰り返しだ。この粉末をX線回折法によす解析し、
ペロブスカイト相であることを確認した。この誘電体粉
末に酸化鉛の被覆を行う。
に! /crlで成形した。これをアルミナルツボ中に
入れ同質の蓋をし.760〜1000℃で2時間仮焼し
た。次に、前記仮焼物をアルミナ乳鉢で粗砕し,さらに
ボールミル 吸引濾過した後.乾燥した。以上の仮焼・粉砕・乾燥を
数回繰り返しだ。この粉末をX線回折法によす解析し、
ペロブスカイト相であることを確認した。この誘電体粉
末に酸化鉛の被覆を行う。
ここで、酸化鉛の被覆方法としては,乾式法・液相法・
気相法とがある。まず、乾式法ではメカノケミカル反応
を利用して,基体である誘電体粉末の表面を酸化鉛の微
粉が付着したような構造を有する。一方の液相法は湿式
法ともいわれ、化学9ヘー・ 反応を利用して誘電体粉末の表面に酸化鉛の被覆層を構
成させるものである。この方法はセラミック粉末を得る
だめの合成方法として知られているものであり、液相法
は沈澱法と溶媒蒸発法に大別されるが、沈澱法で合成さ
れることが圧倒的に多い。さらに、気相法による被覆方
法では蒸発−凝縮法と気相化学反応法があり、いずれも
被覆層を薄くすることができる。これらのいずれの方法
で被覆してもよいが,本実施例では液相法を用いて被覆
処理を行った。
気相法とがある。まず、乾式法ではメカノケミカル反応
を利用して,基体である誘電体粉末の表面を酸化鉛の微
粉が付着したような構造を有する。一方の液相法は湿式
法ともいわれ、化学9ヘー・ 反応を利用して誘電体粉末の表面に酸化鉛の被覆層を構
成させるものである。この方法はセラミック粉末を得る
だめの合成方法として知られているものであり、液相法
は沈澱法と溶媒蒸発法に大別されるが、沈澱法で合成さ
れることが圧倒的に多い。さらに、気相法による被覆方
法では蒸発−凝縮法と気相化学反応法があり、いずれも
被覆層を薄くすることができる。これらのいずれの方法
で被覆してもよいが,本実施例では液相法を用いて被覆
処理を行った。
まず、誘電体粉末.純水.分散剤としてアンモニウム塩
を加えて分散処理する。その後、給水溶液,鉛沈澱剤と
を加えて鉛沈澱物を生成させる。
を加えて分散処理する。その後、給水溶液,鉛沈澱剤と
を加えて鉛沈澱物を生成させる。
その後、濾過.乾燥をしだ後、500℃程度の低温にて
加熱することによって酸化鉛の被覆層を有した誘電体粉
末を得ることができる。この誘電体粉末をX線回折,K
SCA,電顕観察にて解析を行った結果,ペロプスカイ
ト単一相の誘電体粉末の表面を酸化鉛層が被覆している
ことを確認した。
加熱することによって酸化鉛の被覆層を有した誘電体粉
末を得ることができる。この誘電体粉末をX線回折,K
SCA,電顕観察にて解析を行った結果,ペロプスカイ
ト単一相の誘電体粉末の表面を酸化鉛層が被覆している
ことを確認した。
さらに、第3成分としてN10.まだはWO.を下10
、X−、、。
、X−、、。
記の表1に示すモ/I/cXにて添加・混合する。この
酸化鉛被覆誘電体粉末にポリビニルアルコール6wt%
水溶液を粉体量のewt%加え、32メソシユのふるい
をパスさせた後,造粒し成形圧力1 0 0 0Kf/
crjで直径13朋,高さ約5囮の円盤状に成形した。
酸化鉛被覆誘電体粉末にポリビニルアルコール6wt%
水溶液を粉体量のewt%加え、32メソシユのふるい
をパスさせた後,造粒し成形圧力1 0 0 0Kf/
crjで直径13朋,高さ約5囮の円盤状に成形した。
次いで、この成形物を大気中600℃で,1時間保持し
て脱バインダーした後。
て脱バインダーした後。
マグネシア磁器容器に入れて同質の蓋をし、大気中、中
性雰囲気中あるいは還元雰囲気中で所定温度まで240
0℃/時間で昇温し、最高温度で5〜3o分間保持後,
2400℃/時間で降温した。
性雰囲気中あるいは還元雰囲気中で所定温度まで240
0℃/時間で昇温し、最高温度で5〜3o分間保持後,
2400℃/時間で降温した。
以上のようにして得られた焼成物を厚さ1間の円盤状に
加工し,両面に電極としてOr−λgを蒸着し,誘電率
.誘電正接を1に±,1V/yttxの電界下で測定し
た。下記のく表1〉に本発明の材料組成と、大気中にて
焼成した焼成物の誘電特性を示す。また、焼成雰囲気を
中性界・囲気である窒素中とした場合、あるいは1 0
−8atm以上の酸素分圧を有する窒素−水素混合ガス
中とした場合の9 0 0 ℃焼成の結果をそれぞれ下
記のく表2〉および〈表3〉に示す。
加工し,両面に電極としてOr−λgを蒸着し,誘電率
.誘電正接を1に±,1V/yttxの電界下で測定し
た。下記のく表1〉に本発明の材料組成と、大気中にて
焼成した焼成物の誘電特性を示す。また、焼成雰囲気を
中性界・囲気である窒素中とした場合、あるいは1 0
−8atm以上の酸素分圧を有する窒素−水素混合ガス
中とした場合の9 0 0 ℃焼成の結果をそれぞれ下
記のく表2〉および〈表3〉に示す。
また、前記の実施例においては被覆する酸化鉛の形態と
してpboを用いているが、こればPb2o3Pb30
4.Pbo2ノいずれにおいても誘電特性の優れた焼結
体が得られた。
してpboを用いているが、こればPb2o3Pb30
4.Pbo2ノいずれにおいても誘電特性の優れた焼結
体が得られた。
(以 下 余 白)
14へ
16 、X
19 へ−7
前記のく表1〉〜く表3〉に示すように、本発明の材料
組成にかかる焼成物は、900’C短時間焼成にもかか
わらず、またさまざまな雰囲気焼成においても高誘喧率
の緻密な焼結体が得られた。
組成にかかる焼成物は、900’C短時間焼成にもかか
わらず、またさまざまな雰囲気焼成においても高誘喧率
の緻密な焼結体が得られた。
また、第1図には本発明の主成分の組成範囲をPbTi
O3,)’b(Mg、ANby )o3 、pb(ii
、w%)o3を主成分とする三角組成図中に示した。
O3,)’b(Mg、ANby )o3 、pb(ii
、w%)o3を主成分とする三角組成図中に示した。
ここで、本発明において、特許請求の範囲をP bTl
x(Mg % N b 37. )、 (N1% W
% )203 で表される磁器組成*(ただし、X+
Y+Z=1)において、PbTiO3,PO(Mg3A
Nb%)03 およびPb(Ni3A’W!A)03を
頂点とする三角座標で下記〔〕内の数値で表される組成
A、B、C,D。
x(Mg % N b 37. )、 (N1% W
% )203 で表される磁器組成*(ただし、X+
Y+Z=1)において、PbTiO3,PO(Mg3A
Nb%)03 およびPb(Ni3A’W!A)03を
頂点とする三角座標で下記〔〕内の数値で表される組成
A、B、C,D。
Eを頂点とする五角形の領域内からなる主成分誘電体磁
器組成物の粉体に対して、副成分として酸化鉛1.○〜
25.○モル%にて被覆すること、さらには、第3成分
としてNiOまたはWO2を1.0〜16、oモ/I/
%添加することを特徴とする誘電体磁器組成物〔AはX
= 2.5 、 Y = 95.0 、 Z = 2
.5 。
器組成物の粉体に対して、副成分として酸化鉛1.○〜
25.○モル%にて被覆すること、さらには、第3成分
としてNiOまたはWO2を1.0〜16、oモ/I/
%添加することを特徴とする誘電体磁器組成物〔AはX
= 2.5 、 Y = 95.0 、 Z = 2
.5 。
Bばx−:12.5. y=85.0. Z:2.5.
Cはx==60.0,7=1o、o、Z=30.0.
DはX=40.0.7=10.○、z=50.○、Eは
X=2.5.7=90.○、Z=7.5(単位はいずれ
もモルレイ)〕と具体的に限定した理由は、〈表1〉〈
表2〉く表3〉の比較例に示すように限定範囲外の組成
では、900’C焼成温度で焼結体の誘電率が4000
を下回ることとなり、焼結が不十分となるものである。
Cはx==60.0,7=1o、o、Z=30.0.
DはX=40.0.7=10.○、z=50.○、Eは
X=2.5.7=90.○、Z=7.5(単位はいずれ
もモルレイ)〕と具体的に限定した理由は、〈表1〉〈
表2〉く表3〉の比較例に示すように限定範囲外の組成
では、900’C焼成温度で焼結体の誘電率が4000
を下回ることとなり、焼結が不十分となるものである。
また、800℃よシ低い温度での焼成では、焼結が不十
分となり、1000℃よシ高い温度での焼成は誘電率の
低下などの問題を生じ、所望の特性は得られないためで
ある。
分となり、1000℃よシ高い温度での焼成は誘電率の
低下などの問題を生じ、所望の特性は得られないためで
ある。
〈実施例2〉
前記実施例1にて用いた酸化鉛被覆誘電体粉末。
さらには第3成分としてNiO、WO2を添加してボー
ルミル セルローズを主成分とする樹脂を溶媒で溶かしたビヒク
ルを加え,三段ロールにて混練し誘電体ペーストを作成
した。一方、純度96cXのアルミナ基板上に2 X
2 my2の形状を有する厚膜コンデンサを形成するた
めに、下部電極として銅電極を印21 7、−。
ルミル セルローズを主成分とする樹脂を溶媒で溶かしたビヒク
ルを加え,三段ロールにて混練し誘電体ペーストを作成
した。一方、純度96cXのアルミナ基板上に2 X
2 my2の形状を有する厚膜コンデンサを形成するた
めに、下部電極として銅電極を印21 7、−。
刷し,乾燥させた。次に、誘准体層として前記誘電体ペ
ーストを厚み50〜60μmになるように2度印刷・乾
燥することにより、電極−誘電体電極の3層構造の印刷
厚膜を形成し.ベルト炉を用いて最高温度800〜1o
Oo5CI保持時間5〜30分間,窒素中で焼成した。
ーストを厚み50〜60μmになるように2度印刷・乾
燥することにより、電極−誘電体電極の3層構造の印刷
厚膜を形成し.ベルト炉を用いて最高温度800〜1o
Oo5CI保持時間5〜30分間,窒素中で焼成した。
このようにして得られた厚膜コンデンサの誘電率.誘電
正接を1KI士,1v/朋の電界下で測定した。下記の
く表4〉に本発明の材料組成と,窒素中900℃で焼成
した焼成物の誘電特性を示す。
正接を1KI士,1v/朋の電界下で測定した。下記の
く表4〉に本発明の材料組成と,窒素中900℃で焼成
した焼成物の誘電特性を示す。
(以下余 白)
前記〈表4〉に示すように1本発明の材料組成にかかる
焼成物は、短時間低温焼成にもかか−bらず、緻密な焼
結体からなる高誘電率の厚膜コンデンサが得られた。
焼成物は、短時間低温焼成にもかか−bらず、緻密な焼
結体からなる高誘電率の厚膜コンデンサが得られた。
また、特許請求の範囲を限定した理由は、実施例1と同
様に、〈表4〉の比較例に示すように、限定範囲外の組
成物では、900’Cの焼成温度で焼結の誘電率が50
00以下となシ、A結が不十分となるためである。
様に、〈表4〉の比較例に示すように、限定範囲外の組
成物では、900’Cの焼成温度で焼結の誘電率が50
00以下となシ、A結が不十分となるためである。
本実施例では窒素中にて焼成が可能であることを示した
が、アルゴン、ヘリウムなどの中性雰囲気中でも焼成が
可能であることは容易に推測される。
が、アルゴン、ヘリウムなどの中性雰囲気中でも焼成が
可能であることは容易に推測される。
尚、本発明で用いられる成極としては、大気中。
中性雰囲気中、あるいは還元雰囲気中にて800〜10
00℃で焼成可能な電極が適宜選択され。
00℃で焼成可能な電極が適宜選択され。
使用されるものである。
発明の効果
以上述べてきたように、本発明はPbTix(Mgy
N b 2A) y (N l ’7’2 ”fl y
) z O3で表される磁器25”−/ 組成物(ただし X−4−y+z=1 )において、P
bTiO3,Pb(Mg、HNb y)03オJ:びP
b(Ni%W%)03を頂点とする三角座環で、下記〔
〕内の数値で表される組成A、B、C,D。
N b 2A) y (N l ’7’2 ”fl y
) z O3で表される磁器25”−/ 組成物(ただし X−4−y+z=1 )において、P
bTiO3,Pb(Mg、HNb y)03オJ:びP
b(Ni%W%)03を頂点とする三角座環で、下記〔
〕内の数値で表される組成A、B、C,D。
Eを頂点とする五角形の領域内からなる主成分誘電本磁
器組成物の粉体に対して、副成分として酸化鉛1.0〜
26.oモ)I/Kにて前記誘電体粉体を被覆しだ粉体
を用い、その後、成形、焼成するという構成を備えたも
のである〔AはX=2.6.7−95.0.Z=30.
OIBはx = 12.5 、 y=85.○。
器組成物の粉体に対して、副成分として酸化鉛1.0〜
26.oモ)I/Kにて前記誘電体粉体を被覆しだ粉体
を用い、その後、成形、焼成するという構成を備えたも
のである〔AはX=2.6.7−95.0.Z=30.
OIBはx = 12.5 、 y=85.○。
Z=2.5.Cばx=60.0,7==1o、o、Z=
30.0.DはX=40.0. y=10.0. z=
50.0Eはx=2.6.7=90.0.z−7,5(
単位はいずれもモ)vに)〕。このような構成とするこ
とにより、800〜1000℃の温度にて短時間でかつ
大気中または中性雰囲気中あるいは還元雰囲気中におい
ても焼成可能なセラミックコンデンサおよび厚膜コンデ
ンサを提供し得るという優れた効果を発揮するものであ
る。
30.0.DはX=40.0. y=10.0. z=
50.0Eはx=2.6.7=90.0.z−7,5(
単位はいずれもモ)vに)〕。このような構成とするこ
とにより、800〜1000℃の温度にて短時間でかつ
大気中または中性雰囲気中あるいは還元雰囲気中におい
ても焼成可能なセラミックコンデンサおよび厚膜コンデ
ンサを提供し得るという優れた効果を発揮するものであ
る。
26 A、。
第1図は本発明の組成範囲を示す、 PbTi0. 。
P b 、(Mg%N b 37s )os オヨびP
b (NIHWH) 03 を主成分とする三角組成
図である。
b (NIHWH) 03 を主成分とする三角組成
図である。
Claims (7)
- (1)PbTi_x(Mg_1_/_3Nb_2_/_
3)_y(Ni_1_/_2W_1_/_2)O_3で
表される磁器組成物(ただし、X+Y+Z=1)におい
て、PbTiO_3,Pb(Mg_1_/_3Nb_2
_/_3)O_3およびPb(Ni_1/_2W_1_
/_2)O_3を頂点とする三角座標で、下記〔〕内の
数値で表される組成A,B,C,D,Eを頂点とする五
角形の領域内組成からなる主成分誘電体の粉体に対して
、副成分として酸化鉛1.0〜26.0モル%にて前記
誘電体粉体を被覆した粉体を用い、その後、成形,焼成
することを特徴とする高誘電率系誘電体磁器組成物の製
造方法。 〔Aはx=2.5,y=95.0,z=30.0,Bは
x=12.5,y=85.0,z=2.5,Cはx=6
0.0,y=10.0,z=30.0,Dはx=40.
0,y=10.0,z=50.0,Eはx=2.5,y
=90.0,z=7.5(単位はいずれもモル%)。〕 - (2)請求項1記載の酸化鉛として、PbO,Pb_2
O_3,Pb_3O_4,PbO_2のうち少なくとも
一種を含んだことを特徴とする高誘電率系誘電体磁器組
成物の製造方法。 - (3)請求項1,2記載の組成に対して、NiOを1.
0〜15.0モル%添加することを特徴とする高誘電率
系誘電体磁器組成物の製造方法。 - (4)請求項1,2記載の組成に対してWO_3を1.
0〜15.0モル%添加することを特徴とする高誘電率
系誘電体磁器組成物の製造方法。 - (5)請求項1,2,3または4記載の誘電体磁器組成
物を用い、大気中にて800〜1000℃で焼成可能な
電極とで構成されたことを特徴とするセラミックコンデ
ンサ。 - (6)請求項1,2,3または4記載の誘電体磁器組成
物を用い、中性雰囲気中あるいは還元雰囲気中にて80
0〜1000℃で焼成可能な電極とで構成されたことを
特徴とするセラミックコンデンサ。 - (7)セラミック基板上に、請求項1,2,3または4
記載の誘電体磁器組成物からなる誘電体層と800〜1
000℃で焼成可能な電極とを設けて構成されたことを
特徴とする厚膜コンデンサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63309509A JP2757402B2 (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 高誘電率系誘電体磁器組成物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63309509A JP2757402B2 (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 高誘電率系誘電体磁器組成物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02157155A true JPH02157155A (ja) | 1990-06-15 |
| JP2757402B2 JP2757402B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=17993855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63309509A Expired - Fee Related JP2757402B2 (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 高誘電率系誘電体磁器組成物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2757402B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04351804A (ja) * | 1991-05-29 | 1992-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 誘電体磁器組成物およびそれを用いたセラミックコンデンサと厚膜コンデンサ |
| US5680291A (en) * | 1994-12-23 | 1997-10-21 | Korea Institute Of Science And Technology | Low-temperature sinterable dielectric composition with high dielectric constant and multi-layered ceramic capacitor using the same |
-
1988
- 1988-12-07 JP JP63309509A patent/JP2757402B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04351804A (ja) * | 1991-05-29 | 1992-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 誘電体磁器組成物およびそれを用いたセラミックコンデンサと厚膜コンデンサ |
| US5680291A (en) * | 1994-12-23 | 1997-10-21 | Korea Institute Of Science And Technology | Low-temperature sinterable dielectric composition with high dielectric constant and multi-layered ceramic capacitor using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2757402B2 (ja) | 1998-05-25 |
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