JPH02157286A - 塩素化珪素化合物の製造方法 - Google Patents

塩素化珪素化合物の製造方法

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JPH02157286A
JPH02157286A JP63311535A JP31153588A JPH02157286A JP H02157286 A JPH02157286 A JP H02157286A JP 63311535 A JP63311535 A JP 63311535A JP 31153588 A JP31153588 A JP 31153588A JP H02157286 A JPH02157286 A JP H02157286A
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JP
Japan
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compound
silicon
products
chlorinated silicon
chlorinated
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JP63311535A
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English (en)
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Norio Shinohara
紀夫 篠原
Masatoshi Hayashi
正敏 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、塩素化珪素化合物の製造方法に関する。
塩素化珪素化合物は、有機珪素化合物の製造あるいは有
機珪素からなる基を含む化合物の製造に活性の高い原料
として広(用いられている。
〔従来の技術〕
塩素化珪素化合物の製造方法のひとつとして、水素化珪
素化合物に塩素ガスを反応させて塩素化珪素化合物を得
る方法が知られている。しかし、水素化珪素化合物がC
−H結合をもつ場合、その分子中のC−H結合の塩素化
が同時に起り、副生成物が生成して、目的とする塩素化
珪素化合物の収率が低下するという欠点があった。また
、副生成物は精留によっても分離が難しく、高純度の塩
素化珪素化合物が得られないという欠点もあった。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は、上記従来技術のもっている欠点を解決しよう
とするものであり、珪素原子に直結した塩素原子を有す
る有機珪素化合物を高収率かつ高純度に製造する方法を
提供するものである。
〔課題を解決するための手段〕
既に、本発明者らは、従来技術のもつ欠点を解決する方
法として、珪素原子に直結した水素原子を有する有機珪
素化合物と塩素とを反応させることにより、塩素化珪素
化合物を製造するに際して、有機硫黄化合物又は、有機
酸素化合物又は、金属ハロゲン化物の存在下で行なう方
法を見出している。
さらに、本発明者らは、この研究に鋭意取り組んだ結果
、芳香族化合物が有機硫黄化合物及び有機酸素化合物及
び金属ハロゲン化物と同等な効果をもっていることを新
たに見出した。
即ち、本発明の方法は、珪素原子に直結した水素原子を
有する有機珪素化合物と塩素とを反応させることにより
塩素化珪素化合物を製造するに際して、芳香族化合物の
存在下で行なうことを特徴としている。
本発明で用いられる珪素原子に直結した水素原子を有す
る有機珪素化合物としては、 II l Me  Me Me Me Me MeSiCl z、MezSiCII 、EtzSil
l、EtSiClt l+  EtzSiHz+Et3
SiH,、−PrSill、  、1−Pr5ill 
 t−Pr5ill、  、1−BuSill。
こに、Meはメチル基、Etはエチル基、Prはプロピ
ル基、Buはブチル基、phはフェニル基を表す。)本
発明で利用できる芳香族化合物としては、l Ph、P、 PhzSiCl z、 Ph1SiC1、
Ph、l5nC1等が例示される。
使用する芳香族化合物の量は、必要以上の添加は経済的
ではないので、原料の水素化珪素化合物に対して0.0
1〜10重量%、好ましくは0.05〜1重量%である
溶媒は四塩化炭素などの塩素化溶媒で良く、その使用量
は原料の水素化珪素化合物に対して重量にして0.1〜
100倍、好ましくは0.5〜10倍である。
反応温度は一70〜50℃、好ましくは一30〜30℃
の範囲である。この温度範囲で水素化珪素化合物に対し
て塩素を当量(モル)以上1.5倍当量(モル)以下反
応させれば、副生成物が発生することもなく、反応終了
後溶媒を留去したのら、残留分を蒸留精製することより
目的とする塩素化珪素化合物を純度99%以上のものと
して得ることができる。
〔作 用〕
本発明の方法によれば、芳香族化合物の共存下で珪素原
子に直結した水素原子を有する有機珪素化合物に塩素を
反応させることにより、副生成物の生成もほとんどなく
、目的とする塩素化珪素化合物を収率よく合成できるが
、反応機構的には、芳香族化合物の芳香環上に塩素を拘
束して反応に関与させるため、C−H基よりもS i 
−II 7Jを優先的に攻撃するものと考えられる。
〔実施例〕
以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明す
る。
実施例1 terL−ブチルメチルクロロシラン137g (1,
00モル)と四塩化炭素270gとメシチレンクロロシ
ランの0.5wt%)の混合物の中に塩素カス71g(
1,00モル)を温度O℃にて2時間かけて吹き込み反
応させ、反応終了後四塩化炭素を常圧にて加熱し留去し
た後、残留物を蒸留塔を用いて精製し、沸点135〜1
36℃でtert−ブチルメチルジクロロシラン170
gを得た。(収率99%)このとき、 C1h  C1I□CI C1li  CSi  CN    −−−−−・−−
−−−−−(A)C1l、   (:、1 C1h     1 CIl、     C1 等の副生成物はなかった。
比較例1 実施例1においてメシチレンを入れずに同様の条件下で
実験を行なった処、ter t−ブチルメチルジクロロ
シランは得られたが、上記(A)、  CB)及び(C
)の副生成物が次の割合で含まれていた。
(A)  −−−−−−−・−・−1,1%〔B〕 −
・−−一−−・−−−−−12,6%(C)−−−・−
・−・−−−−−1,3%実施例2〜5 ter t−ブチルメチルクロロシラン137g (1
,00モル)と塩素ガスとを第1表に示した通りの条件
下で反応させた後、溶媒の四塩化炭素を留去し、実施例
1と同様にして沸点135〜136℃でter t−ブ
チルメチルジクロロシランを第1表に示す収率で得た。
この実施例からも、芳香族化合物を使用した場合、副生
成物(A)、  CB)及び(C)が全く生成しないこ
とが判る。
実施例6 トリエチルシラン174g(1,50モル)と四1.2
2g()リエチJレジランの0.7賀t%)の混合物の
中に塩素ガス106g(1,50モル)を温度10°C
にて2時間かけて吹き込み反応させ、反応終了後、四塩
化炭素を常圧にて加熱し留去した後、残留物を蒸留塔を
用いて精製し、沸点144〜145℃でトリエチルクロ
ロシラン224gを得た(収率99%)このとき、 CICtIts C1h  Cll  Si  C1−・−・−・・−C
D)C,H5 Cz ll 5 C1−CI、−CIl□−5i −CI   −−−−
−・−−−−−−−−−(E)zHs CH。
CH−fl (/!−CH2−CHz−5i  −C1−−−−−−
−−−−−(F)C,lIS 等の副生成物の発生はなかった。
比較例2 実施例6において、アントラセンを入れずに、同様の条
件下で実験を行なった処、トリエチルクロロシランは得
られたが、上記CD)、  (E)及びCF)の副生成
物が次の割合で含まれていた。
〔D〕 −・−・−−−−−−−−2,8%(E)  
−−−−−−−−−・−2,5%(F)  −−−−−
−一・−2,1%実施例7 tert−ブチルジメチルシラン267g(2,30モ
ル)と四塩化炭素670gとジフェニルランの1.0w
t%)の混合物の中に塩素ガス163g(2,30モル
)を温度20℃にて2時間30分かけて吹き込み反応さ
せ、反応終了後、四塩化炭素を常圧にて加熱し留去した
後、残留物を蒸留塔を用いて精製し、沸点124〜12
6℃でtert −ブチルジメチルクロロシラン340
gを得た(収率98%)このとき、 Cll3     CL CH3 CH3CH3 等の副生成物の発生はおこらなかった。
比較例3 実施例7において、ジフェニルを入れずに、同様の条件
下で実験を行なった処、ter t−ブチルジメチルク
ロロシランは得られたが上記〔G〕。
(H)及び(1)の副生成物が次の割合で含まれていた
CG)  −−−m−−−−−−−−1,9%(H) 
 −−−−−−−−1,5% (1)−−−−−〜−−1.7% 実施例8 1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン268g(
2,00モル)と四塩化炭素540gと塩化トリフェニ
ルすずI’tl:+5nCj! 0.80g  (1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサンの0.3wt%
)の混合物の中に、塩素ガス291g(4,10モル)
を温度−5℃にて3時間かけて吹き込み反応させ、反応
終了後、四塩化炭素を常圧にて加熱し留去した後、残留
物を蒸留塔を用いて精製し、沸点137〜138℃で1
.1.3.3−テトラメチル−1,3−ジクロロジシロ
キサン397gを得た。(収率98%)このとき、 C11□Cβ C113 Cβ−5i O5i C11’ (J) C11゜ C11□Cβ      C1l□(JCe −5i 
−0−5i−CI−〔K )C1h         
C11J CIl□C7!       CI+3(J! −5i
 −0−5i−C1−(L)CIl□l!      
 C113 等の副生成物の発生はおこっていなかった。
比較例4 実施例8において、塩化トリフェニルずずを入れずに、
同様の条件下で実験を行なった処、1.1,3.3−テ
トラメチル−■、3−ジクロロジシロキサンは得られた
が、上記(J)、  (K)、  (L)の副生成物が
次の割合で含まれていた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 珪素原子に直結した水素原子を有する有機珪素化合物と
    塩素とを芳香族化合物の存在下に反応させることを特徴
    とする塩素化珪素化合物の製造方法。
JP63311535A 1988-12-09 1988-12-09 塩素化珪素化合物の製造方法 Pending JPH02157286A (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6357592A (ja) * 1986-08-29 1988-03-12 Shin Etsu Chem Co Ltd tert−ブチルジメチルクロロシランの製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6357592A (ja) * 1986-08-29 1988-03-12 Shin Etsu Chem Co Ltd tert−ブチルジメチルクロロシランの製造方法

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