JPH02160803A - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
- Publication number
- JPH02160803A JPH02160803A JP1099927A JP9992789A JPH02160803A JP H02160803 A JPH02160803 A JP H02160803A JP 1099927 A JP1099927 A JP 1099927A JP 9992789 A JP9992789 A JP 9992789A JP H02160803 A JPH02160803 A JP H02160803A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- product
- poly
- photopolymerization
- hydroxy
- methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 25
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N dihydroxyacetone Chemical compound OCC(=O)CO RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims abstract description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 1
- NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl chloride Chemical compound CC(C)(C)Cl NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 abstract description 35
- 239000003999 initiator Substances 0.000 abstract description 8
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 abstract description 6
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 230000032683 aging Effects 0.000 abstract description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 abstract description 3
- 241001082241 Lythrum hyssopifolia Species 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical group O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 11
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 9
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 8
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 6
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 benzoin alkyl ethers Chemical class 0.000 description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 3
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PBVWVALBZLCKNP-UHFFFAOYSA-N 4,4,5-trimethyl-1,3,2-dioxasilolane Chemical compound CC1(C(C)O[SiH2]O1)C PBVWVALBZLCKNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 2
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 description 2
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 230000003797 telogen phase Effects 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQBUKFFVOBJGV-UHFFFAOYSA-N 1-(4-ethenylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 CDQBUKFFVOBJGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACMZMLDEUSNOKZ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-prop-1-en-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C(C)=C)C=C1 ACMZMLDEUSNOKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GANBJDIOIDQSGI-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)furan Chemical compound ClCC1=CC=CO1 GANBJDIOIDQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl benzoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUHXLHLWASNVDB-UHFFFAOYSA-N 2-(oxan-2-yloxy)oxane Chemical compound O1CCCCC1OC1OCCCC1 HUHXLHLWASNVDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUJHTYRNHYOUKO-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 NUJHTYRNHYOUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGMOBVGABMBZSB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanoyl chloride Chemical compound CC(C)C(Cl)=O DGMOBVGABMBZSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMTMSDXUXJISAY-UHFFFAOYSA-N 2H-benzotriazol-4-ol Chemical compound OC1=CC=CC2=C1N=NN2 JMTMSDXUXJISAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPKWGRVMLLIFSY-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-2,2-dimethyloxirane Chemical compound COC1OC1(C)C FPKWGRVMLLIFSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCIGYTFKOXGYTA-UHFFFAOYSA-N 4-(3-cyanopropyldiazenyl)butanenitrile Chemical compound N#CCCCN=NCCCC#N YCIGYTFKOXGYTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzaldehyde Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C=O)C=C1 BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012958 Amine synergist Substances 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- CAQWNKXTMBFBGI-UHFFFAOYSA-N C.[Na] Chemical compound C.[Na] CAQWNKXTMBFBGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMNRDBFBZMUPHB-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCCCCC Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCCCCC RMNRDBFBZMUPHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 239000012963 UV stabilizer Substances 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- JQRRFDWXQOQICD-UHFFFAOYSA-N biphenylen-1-ylboronic acid Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=C1C=CC=C2B(O)O JQRRFDWXQOQICD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 1
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005837 enolization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N hydroxybenzotriazole Substances O=C1C=CC=C2NNN=C12 NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000006193 liquid solution Substances 0.000 description 1
- 239000006194 liquid suspension Substances 0.000 description 1
- YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N lithium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound [Li+].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenyloxamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010534 nucleophilic substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006384 oligomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000010424 printmaking Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000979 retarding effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940001593 sodium carbonate Drugs 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005028 tinplate Substances 0.000 description 1
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEIMLDGFXIOXMT-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl cyanide Chemical compound C[Si](C)(C)C#N LEIMLDGFXIOXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSRBKQFNFZQRBM-UHFFFAOYSA-N tuaminoheptane Chemical compound CCCCCC(C)N VSRBKQFNFZQRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003986 tuaminoheptane Drugs 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/08—Epoxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/10—Acylation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/12—Hydrolysis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/18—Introducing halogen atoms or halogen-containing groups
- C08F8/20—Halogenation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S522/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S522/904—Monomer or polymer contains initiating group
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、エチレン性不飽和モノマー及び/又はプレポ
リマーの光重合性組成物に関する。
リマーの光重合性組成物に関する。
不飽和モノマーおよびプレポリマーの光化学重合は、広
い工業的用途をもつ一般に周知の方法である。
い工業的用途をもつ一般に周知の方法である。
この型式の反応は、電磁スペクトルの十分に規定された
部分の光エルギーと、この光を吸収しかつ重合すること
ができる適当な基質との間の相互作用によって生じる。
部分の光エルギーと、この光を吸収しかつ重合すること
ができる適当な基質との間の相互作用によって生じる。
存在する物質の性質に左右される各種の機構によって、
光の照射は、エチレン性二重結合を含む分子の重合を極
めて短時間に引き起こすラジカル種の発生をもたらす、
特殊な光増感剤および光開始剤は、一般に光の吸収を容
易にしかつラジカル種を発生させるために使用される。
光の照射は、エチレン性二重結合を含む分子の重合を極
めて短時間に引き起こすラジカル種の発生をもたらす、
特殊な光増感剤および光開始剤は、一般に光の吸収を容
易にしかつラジカル種を発生させるために使用される。
光増感剤は、光開始剤が光化学反応に対して有効なスペ
クトル範囲内で吸収しない場合、光エネルギーを吸収し
かつ伝達させるため使用され、方、光開始剤は重合促進
ラジカルを発生させるために使用される。
クトル範囲内で吸収しない場合、光エネルギーを吸収し
かつ伝達させるため使用され、方、光開始剤は重合促進
ラジカルを発生させるために使用される。
これらの生成物の効率は、ペイントおよびラッカー、印
刷インキ、版画および電子回路の製造の場合と同様に、
光重合方法を使用する技術の発表と共に段々と改良され
た。
刷インキ、版画および電子回路の製造の場合と同様に、
光重合方法を使用する技術の発表と共に段々と改良され
た。
これらの生成物に適用される用語“効率”は。
特に定性的収量(吸収された光の各量子当りの転換され
たモノマーの量)の点及び重合速度(基質が所定の化学
物理特性を達成する時間)の点の両方での反応性、並び
に光開始剤を含む混合物の暗所安定性を意味する。
たモノマーの量)の点及び重合速度(基質が所定の化学
物理特性を達成する時間)の点の両方での反応性、並び
に光開始剤を含む混合物の暗所安定性を意味する。
多くの問題は、光開始剤として、米国特許節2.44E
l、828号に記述されているようなベンゾインアルキ
ルエーテル、米国特許節3,715,281号に記述さ
れているようなジアルコキシアセトフェノンおよびベン
ジルモノケタール、および第三アミン型式の水素供与体
と組合わせたベンゾフェノンを使用することによって解
決された。
l、828号に記述されているようなベンゾインアルキ
ルエーテル、米国特許節3,715,281号に記述さ
れているようなジアルコキシアセトフェノンおよびベン
ジルモノケタール、および第三アミン型式の水素供与体
と組合わせたベンゾフェノンを使用することによって解
決された。
最近、米国特許節4,318,791号および第4.3
47,111号で提案されているような、置換アセトフ
ェノン類に関する若干の生成物が導入された。
47,111号で提案されているような、置換アセトフ
ェノン類に関する若干の生成物が導入された。
特にアクリル系について、2,2−ジアルキル−2−ヒ
ドロキシアセトフェノンは、効率の低下を伴うことなし
で、光化学的に架橋した生成物の(架橋ランプの紫外線
からあるいは天然光に露出することによる結果として起
る老化から訓導される)黄変に関連する問題の解決をも
たらした。
ドロキシアセトフェノンは、効率の低下を伴うことなし
で、光化学的に架橋した生成物の(架橋ランプの紫外線
からあるいは天然光に露出することによる結果として起
る老化から訓導される)黄変に関連する問題の解決をも
たらした。
今回、光開始剤として使用するのに適した新規な化合物
を発見した。
を発見した。
本発明は、エチレン性不飽和モノマー及び/又はプレポ
リマーと、光開始剤としての0.1〜lO%の一般式 (式中、nは2〜50の数であり、Arはフェニレン基
であり、XはOH2!i又はC交原子であり、R及びR
1は等しいか又は異なる基で、それぞれ独立に炭素原子
数1〜4のアルキル基であり、R2は水素原子又は炭素
原子数1〜4のアルキル基であり、R3,R4,A及び
Bは水素原子である) で表わされる重合体芳香族・脂肪族ケトンとを含む光重
合性組成物である。
リマーと、光開始剤としての0.1〜lO%の一般式 (式中、nは2〜50の数であり、Arはフェニレン基
であり、XはOH2!i又はC交原子であり、R及びR
1は等しいか又は異なる基で、それぞれ独立に炭素原子
数1〜4のアルキル基であり、R2は水素原子又は炭素
原子数1〜4のアルキル基であり、R3,R4,A及び
Bは水素原子である) で表わされる重合体芳香族・脂肪族ケトンとを含む光重
合性組成物である。
上記の重合体芳香族・脂肪族ケトンは俺れた光開始特性
をもち、また慣用の非重合体のあるいは非重合性の光開
始剤よりも高い光重合速度をもたらす、これらのケトン
は、紫外線の作用下あるいは日光の存在下の通常の老化
条件の下でも黄変しない製品あるいはコーチングをつく
る。
をもち、また慣用の非重合体のあるいは非重合性の光開
始剤よりも高い光重合速度をもたらす、これらのケトン
は、紫外線の作用下あるいは日光の存在下の通常の老化
条件の下でも黄変しない製品あるいはコーチングをつく
る。
この光化学反応の副生物は臭気をほとんどもたず、また
重合した系と相溶性である1本発明の光重合性組成物の
暗所安定性は優れている。
重合した系と相溶性である1本発明の光重合性組成物の
暗所安定性は優れている。
式CI)の範囲内に含まれる重合体の例は重合度nが2
〜50である次の重合体である:ポリ〔2−ヒドロキシ
−2−メチル(p−ビニルプロピオフェノン)〕、ポリ
[2−ヒドロキシ−2−メチル(p−(1〜メチルビ
ニル)プロピオフェノン〕]、ポリ[2−ヒドロキシ−
2−n−ブチル(p−(1〜メチルビニル)−n−ブチ
ロフェノン]]。
〜50である次の重合体である:ポリ〔2−ヒドロキシ
−2−メチル(p−ビニルプロピオフェノン)〕、ポリ
[2−ヒドロキシ−2−メチル(p−(1〜メチルビ
ニル)プロピオフェノン〕]、ポリ[2−ヒドロキシ−
2−n−ブチル(p−(1〜メチルビニル)−n−ブチ
ロフェノン]]。
本発明の組成物で用いるのに好ましい七ノマーはメチル
メタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリト
リトールテトラクリレートのようなエステル型、あるい
はアクリルアミド又はアクリロニトリル型の一価、二価
、三価および多価のアクリルあるいはメタクリルモノマ
ーである。他のモノマーとしてビニルエステル、ビニル
エーテル、種々の置換スチレン、およびアリルエーテル
がある。
メタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリト
リトールテトラクリレートのようなエステル型、あるい
はアクリルアミド又はアクリロニトリル型の一価、二価
、三価および多価のアクリルあるいはメタクリルモノマ
ーである。他のモノマーとしてビニルエステル、ビニル
エーテル、種々の置換スチレン、およびアリルエーテル
がある。
不飽和ポリマーおよびプレポリマーとして不飽和ポリエ
ステル(フマル酸およびマレイン酸)、アクリル酸エス
テル化ポリエステル、アクリル酸エステル化エポキシド
、アクリル酸エステル化ウレタン、アクリル酸エステル
化ポリエステル等の樹脂がある。
ステル(フマル酸およびマレイン酸)、アクリル酸エス
テル化ポリエステル、アクリル酸エステル化エポキシド
、アクリル酸エステル化ウレタン、アクリル酸エステル
化ポリエステル等の樹脂がある。
本発明の光重合性組成物は特殊要件に従って以下のよう
な他の化合物をも含むことができる:ハイトロキノン、
ハイドロキノンモノメチルエーテル等のな重合抑制剤。
な他の化合物をも含むことができる:ハイトロキノン、
ハイドロキノンモノメチルエーテル等のな重合抑制剤。
ホスフィツト、ホスフィン、第四アンモニウム塩、ヒド
ロキルアミン誘導体、鉄、銅等を含む金属塩のような、
暗所安定性を確保させる熱安定剤。
ロキルアミン誘導体、鉄、銅等を含む金属塩のような、
暗所安定性を確保させる熱安定剤。
立体障害アミン、2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−
ヒドロキシベンゾトリアゾール、オキサルアニリド、ニ
ッケル■のS塩のような、得られる製品の早すぎる黄変
をさらに防止する紫外線安定剤。
ヒドロキシベンゾトリアゾール、オキサルアニリド、ニ
ッケル■のS塩のような、得られる製品の早すぎる黄変
をさらに防止する紫外線安定剤。
立体障害フェノールのような酸化防止剤1.3−ジフェ
ニルイソベンゾフラン、パラフィン、トリメチロールプ
ロパンジアリルエーテルのような、光化学反応における
酸素の遅延作用に対する防止剤。
ニルイソベンゾフラン、パラフィン、トリメチロールプ
ロパンジアリルエーテルのような、光化学反応における
酸素の遅延作用に対する防止剤。
充填剤、塗料、顔料、艶消し剤
分散剤等のような、粘性および表面特性を変性するため
の助剤。
の助剤。
電磁スペクトルの可視部で吸収する有機染料の形態の光
増感剤。
増感剤。
アルカノールアミン、アルコール、チオール、炭化水素
のような連鎖移動剤。
のような連鎖移動剤。
本発明の光重合性組成物は更に慣用の光開始剤を含有す
ることができ、これらはベンゾインエーテル、ペンシル
ジメチルケタール、アシルホスフィンオキシト、おるい
は2,2−シアルギル−2−ヒドロキ、ジアセトフェノ
ンのような破砕型、あるいは第三アミン相乗剤と組み合
わせたベンゾフェノン、チオキサントン、キノン等のよ
うな水素移動型のいづれかである。
ることができ、これらはベンゾインエーテル、ペンシル
ジメチルケタール、アシルホスフィンオキシト、おるい
は2,2−シアルギル−2−ヒドロキ、ジアセトフェノ
ンのような破砕型、あるいは第三アミン相乗剤と組み合
わせたベンゾフェノン、チオキサントン、キノン等のよ
うな水素移動型のいづれかである。
アルカノールアミン、P−ジメチルアミノ−ベンズアル
デヒド、エチルp−ジメチルアミノベンゾエートあるい
はジメチルアミノエチルベンゾエート型の相乗剤を追加
使用すると、光化学架橋プロセスを加速するために場合
によっては便利である。
デヒド、エチルp−ジメチルアミノベンゾエートあるい
はジメチルアミノエチルベンゾエート型の相乗剤を追加
使用すると、光化学架橋プロセスを加速するために場合
によっては便利である。
これらの組成物の最終用途は、木材ペイント、紙ラッカ
ー、印刷インキ、錫板平版印刷法、版面、印刷集積回路
の彫刻、セラミック印刷および捺染用のスクリーンのた
めのラッカーおよびインキ、転写の調製、織物印刷のた
めのポリマーおよび樹脂のエマルジョンおよび溶液とし
て使用することである。
ー、印刷インキ、錫板平版印刷法、版面、印刷集積回路
の彫刻、セラミック印刷および捺染用のスクリーンのた
めのラッカーおよびインキ、転写の調製、織物印刷のた
めのポリマーおよび樹脂のエマルジョンおよび溶液とし
て使用することである。
式(1)の化合物と、アクリル不飽和結合を含むモノマ
ー、プレポリマーおよび/あるいはポリマーとからなる
組成物が好ましい0式(r)の化合物は、0.1〜10
重量%、好ましくは0.5〜5重都−%の量で簡単に溶
解させることによって本発明の組成物とすることができ
る。光化学架橋は、250〜550n腸の発行スペクト
ルをもつ水銀灯での照射によって行なうことができる。
ー、プレポリマーおよび/あるいはポリマーとからなる
組成物が好ましい0式(r)の化合物は、0.1〜10
重量%、好ましくは0.5〜5重都−%の量で簡単に溶
解させることによって本発明の組成物とすることができ
る。光化学架橋は、250〜550n腸の発行スペクト
ルをもつ水銀灯での照射によって行なうことができる。
光開始剤として式(I)の化合物を使用する利点は、使
用される有効濃度及び重合速度のいずれに関しても効率
が高いことである。特に式(I)の化合物がオリゴマー
あるいはポリマーである場合、それらの生成物は、蒸気
流中においてすら、低蒸気圧および低揮発性をもち、ま
たこのことは、架橋され得る前に蒸発によってフィルム
にすべき水性エマルジョンにおける光化学架橋系に特に
適合させる0式(I)の化合物がモノマー性質のもので
ある場合、光化学反応および次の重合化の経過している
間、それらの化合物は、その系に存在するモツマーおよ
びプレポリマーと共重合化しかつ得られる高分子生成物
の一体部分となることができる。光化学反応を受けなか
った光開始剤の部分、及び主として重合体である光分解
副生物の両方とも各種の系と高い相溶性をもち、製品に
おいて低残留臭気および比較的小さい移動性をもち、従
って高級の製品を生ずる。−最大CI)により規定され
る芳香族、脂肪族ケトンの製法は、出発材料として少な
くとも1つの重合性置換基をもつ芳香族基質の使用から
成り、最終所要生成物が下記の諸反応の各種の組合せに
よって得られることを特徴とする。すなわち、上記基質
の重合化−アルキル化−得られたケトンのα−塩塩素処
理化工エポキシエーテル生成での求核性置換−エポキシ
エーテルの加水分解−エノール化−エボキシ化−エーテ
ル化−グリニャール反応−脂肪族ケトンでの芳香族アル
デヒドの転極−ブーヴオール/ロッカン縮合−ウイッチ
ヒ合虞−ヒドロキシル化。
用される有効濃度及び重合速度のいずれに関しても効率
が高いことである。特に式(I)の化合物がオリゴマー
あるいはポリマーである場合、それらの生成物は、蒸気
流中においてすら、低蒸気圧および低揮発性をもち、ま
たこのことは、架橋され得る前に蒸発によってフィルム
にすべき水性エマルジョンにおける光化学架橋系に特に
適合させる0式(I)の化合物がモノマー性質のもので
ある場合、光化学反応および次の重合化の経過している
間、それらの化合物は、その系に存在するモツマーおよ
びプレポリマーと共重合化しかつ得られる高分子生成物
の一体部分となることができる。光化学反応を受けなか
った光開始剤の部分、及び主として重合体である光分解
副生物の両方とも各種の系と高い相溶性をもち、製品に
おいて低残留臭気および比較的小さい移動性をもち、従
って高級の製品を生ずる。−最大CI)により規定され
る芳香族、脂肪族ケトンの製法は、出発材料として少な
くとも1つの重合性置換基をもつ芳香族基質の使用から
成り、最終所要生成物が下記の諸反応の各種の組合せに
よって得られることを特徴とする。すなわち、上記基質
の重合化−アルキル化−得られたケトンのα−塩塩素処
理化工エポキシエーテル生成での求核性置換−エポキシ
エーテルの加水分解−エノール化−エボキシ化−エーテ
ル化−グリニャール反応−脂肪族ケトンでの芳香族アル
デヒドの転極−ブーヴオール/ロッカン縮合−ウイッチ
ヒ合虞−ヒドロキシル化。
出発材料として使用される芳香族基質は、好まシくハス
チレンあるいは置換スチレン型の七ツマ−であり、これ
らのうち好ましい化合物がスチレンおよびアルファメチ
ルスチレンであるか、あるいはスチレン型のオリゴマー
あるいはポリマーである。
チレンあるいは置換スチレン型の七ツマ−であり、これ
らのうち好ましい化合物がスチレンおよびアルファメチ
ルスチレンであるか、あるいはスチレン型のオリゴマー
あるいはポリマーである。
この方法の好ましい実施態様例は、限定しない例として
示される下記の詳細な説明によって例示される。
示される下記の詳細な説明によって例示される。
最終生成物がポリマー型である場合、中間体を得るため
の反応はモノマーで実施され、そして特定の段階で重合
を行なうことができる。
の反応はモノマーで実施され、そして特定の段階で重合
を行なうことができる。
これに反して、第一に、適当なモノマーのオリゴマー化
あるいは重合化を行ない、それから最終所要生成物を得
るための一連の反応を行なうこともできる。
あるいは重合化を行ない、それから最終所要生成物を得
るための一連の反応を行なうこともできる。
式(りの化合物を製造する方法の説明は、説明を簡単に
するために、下記の式によって略して言及する。
するために、下記の式によって略して言及する。
この方法は、下記の諸段階に従って行なわれる。
段階(A):!I!立進
実際の重合化は、たとえば、ルイス酸あるいはブロンス
テッド酸あるいはラジカル開始剤あるいはアニオン重合
開始剤を使用して行なうことができる0本発明の目的に
対してオリゴマー化あるいはテロ重合を行なうことによ
ってかなりの低分子量を得るのが好ましい、使用するこ
とができるラジカル開始剤としてはヒドロペルオキシド
、ジアルキルペルオキシド、ジアシルペルオキシド、又
はアゾビスブチロニトリルがあり、それらのうちジ−t
−ブチルペルオキシドおよびベンゾイルペルオキシドが
好ましい。
テッド酸あるいはラジカル開始剤あるいはアニオン重合
開始剤を使用して行なうことができる0本発明の目的に
対してオリゴマー化あるいはテロ重合を行なうことによ
ってかなりの低分子量を得るのが好ましい、使用するこ
とができるラジカル開始剤としてはヒドロペルオキシド
、ジアルキルペルオキシド、ジアシルペルオキシド、又
はアゾビスブチロニトリルがあり、それらのうちジ−t
−ブチルペルオキシドおよびベンゾイルペルオキシドが
好ましい。
使用することができるテロゲン剤(telogeni−
cagentslとしては四塩化炭素のようなアルキル
ハライド、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、好ましく
はトルエン、あるいは塩化スルフリルあるいはp−ベン
ゾキノンがある。
cagentslとしては四塩化炭素のようなアルキル
ハライド、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、好ましく
はトルエン、あるいは塩化スルフリルあるいはp−ベン
ゾキノンがある。
反応は、好ましくはドレニン、四塩化炭素あるいは1.
2−ジクロロエタンのようなテロゲン剤でもある溶媒中
にモノマーを溶解し、次に所要分子量に比例する量の開
始剤を添加し、その系を選択された温度に調節すること
によって行なわれる。
2−ジクロロエタンのようなテロゲン剤でもある溶媒中
にモノマーを溶解し、次に所要分子量に比例する量の開
始剤を添加し、その系を選択された温度に調節すること
によって行なわれる。
それからその生成物を、溶媒を蒸発させることによって
単離し、そして晶出あるいは反復分別沈澱によって精製
する。
単離し、そして晶出あるいは反復分別沈澱によって精製
する。
(Ill )
芳香族基質(Iりを、二硫化炭素、塩化メチレンあるい
はジクロロエタンのような溶媒に溶解し、好ましくは一
20°ないし+20°Cの温度で同じ溶媒中の4℃CI
2.−!塩化物錯体の溶液と反応させる。
はジクロロエタンのような溶媒に溶解し、好ましくは一
20°ないし+20°Cの温度で同じ溶媒中の4℃CI
2.−!塩化物錯体の溶液と反応させる。
アシル化操作もまた、ベンゼン、トルエンあるいはキシ
レンのような芳香族溶媒の存在下で行なうことができる
。
レンのような芳香族溶媒の存在下で行なうことができる
。
芳香族・脂肪族ケトン(Ill )を、水で加水分解し
、洗浄し、そして溶媒を蒸発させることによって単離す
る。精製は、蒸留、分別沈澱あるいはシノ力ゲル力ラム
でのクロマトグラフィーによって行なうことができる。
、洗浄し、そして溶媒を蒸発させることによって単離す
る。精製は、蒸留、分別沈澱あるいはシノ力ゲル力ラム
でのクロマトグラフィーによって行なうことができる。
使用触媒はAffCJ2.の代りに口Fs、SnC氾4
、TiCff 4あるいはその他のルイス酸にすること
ができる。
、TiCff 4あるいはその他のルイス酸にすること
ができる。
(IV )
ケトン(Ill )を塩素化剤で処理する。この塩素化
剤は(たとえばDMFの存在下での)塩素、あるいは溶
媒の不存在下あるいは存在下での塩化フルフリルであっ
ても、芳香族炭化水素あるいは塩素化脂肪族市媒であっ
てもよい6反応温度は、一般に0°ないし100℃であ
る。
剤は(たとえばDMFの存在下での)塩素、あるいは溶
媒の不存在下あるいは存在下での塩化フルフリルであっ
ても、芳香族炭化水素あるいは塩素化脂肪族市媒であっ
てもよい6反応温度は、一般に0°ないし100℃であ
る。
揮発性反応副生物を除去した後、得られるクロロケトン
(1■)は一般にその次の転位操作の前に、二次的精製
を必要としない。
(1■)は一般にその次の転位操作の前に、二次的精製
を必要としない。
段階(D):エポキシエーテルを、るため求核υ
(Ill )
(1v)
(V)
a−クロロケトン(1v)を、一般に成る百分率のメタ
ノールを含む溶媒に溶解し、若干モル過II+のナトリ
ウムメチレートの溶液あるいは懸濁液で処理する。20
°ないし60℃の温度である時間の反応の後に、塩化ナ
トリウムを濾過あるいは抽出によって除去し、反応生成
物であるエポキシエーテル(V)を特性決定のために単
離することができ、あるいは引き続き同じ溶液で直接に
転位することができる。
ノールを含む溶媒に溶解し、若干モル過II+のナトリ
ウムメチレートの溶液あるいは懸濁液で処理する。20
°ないし60℃の温度である時間の反応の後に、塩化ナ
トリウムを濾過あるいは抽出によって除去し、反応生成
物であるエポキシエーテル(V)を特性決定のために単
離することができ、あるいは引き続き同じ溶液で直接に
転位することができる。
(V)
(Vl)
エポキシエーテル?8M(V)を水で処理し、そして1
0”ないし40℃の温度で鉱酸で酸性にする。
0”ないし40℃の温度で鉱酸で酸性にする。
反応が完了したとき、反応混合物は水で洗浄し、中和し
、そして乾燥し、また溶媒を蒸発させた後、最終生成物
(Vl)を通常の方法(晶出1反復沈澱、シリカを介す
るクロマトグラフィー等)によって精製する。
、そして乾燥し、また溶媒を蒸発させた後、最終生成物
(Vl)を通常の方法(晶出1反復沈澱、シリカを介す
るクロマトグラフィー等)によって精製する。
最終生成物(■)、すなわち芳香族、脂肪族ボッ−2−
ヒドロキシ−ケトンを得るための前記した方法は、各鍾
の改変および別の方法も可能にする。
ヒドロキシ−ケトンを得るための前記した方法は、各鍾
の改変および別の方法も可能にする。
これらの改変および別の方法を以下に説明する。
(IV を 接につくるためのαクロロ による−L
LL9J二ムに北 (If) ナトリウムあるいは重炭酸ナトリウムで処理する。所定
温度(20ないし90℃)での反応の¥後、生成物をエ
ポキシエーテル加水分解法(段階E)によって単離する
。
LL9J二ムに北 (If) ナトリウムあるいは重炭酸ナトリウムで処理する。所定
温度(20ないし90℃)での反応の¥後、生成物をエ
ポキシエーテル加水分解法(段階E)によって単離する
。
(1v)
反応は前記のアシル化法(段階B)と同様に正確に行な
われ、反応の進行を調整するパラメータも同様である。
われ、反応の進行を調整するパラメータも同様である。
(V)
(IV )
(Vl)
水性アルコール溶媒に溶解したクロロケトンを、化学量
論量の水酸化ナトリウムあるいは炭酸(VT) (式中:Q==CNあるいは口Si (CI−1〜1ケ
トン(T11 )を、(ヘキサメチルジシラザンでの処
理により)トリメチルシリルエノールエーテルに、ある
いは(HCNでの処理により)対応する不飽和ニトリル
に転位させる。
論量の水酸化ナトリウムあるいは炭酸(VT) (式中:Q==CNあるいは口Si (CI−1〜1ケ
トン(T11 )を、(ヘキサメチルジシラザンでの処
理により)トリメチルシリルエノールエーテルに、ある
いは(HCNでの処理により)対応する不飽和ニトリル
に転位させる。
塩素化脂肪族溶媒に溶解しているその得られた不飽和化
合物を、(たとえばm−クロロ過安息香酸あるいは過マ
ンガン酸塩により)エポキシ化し、そしてその得られた
中間体を前期した2つの方法のようにして(vr)をつ
くるために加水分解する。
合物を、(たとえばm−クロロ過安息香酸あるいは過マ
ンガン酸塩により)エポキシ化し、そしてその得られた
中間体を前期した2つの方法のようにして(vr)をつ
くるために加水分解する。
(■)
(式中: TIIPは2−トラヒドロピラニルである)
。
。
芳香族ハロゲン化物を、グリニヤール化合物を得るため
にエーテル溶媒中のマグネシウムと、あるいは通常のよ
うにテトラヒドロフランと反応させ、それからこの化合
物を適当なケトンのシアンヒドリン(テトラヒドロピラ
ニルエーテルとして保護されているもの)と反応させる
。逐次加水分解で、所望のヒドロキシケトン(vl)を
生ずる。
にエーテル溶媒中のマグネシウムと、あるいは通常のよ
うにテトラヒドロフランと反応させ、それからこの化合
物を適当なケトンのシアンヒドリン(テトラヒドロピラ
ニルエーテルとして保護されているもの)と反応させる
。逐次加水分解で、所望のヒドロキシケトン(vl)を
生ずる。
アルデヒド−導 での転
一般に反応温度は、−60°ないし20℃であり、また
溶媒はテトラヒドロフランのようなエテル型のものであ
る。
溶媒はテトラヒドロフランのようなエテル型のものであ
る。
(V[)
(式中M ;O3i (C10) 3あるいはCN、N
= N fcll IcN−) 2)a、CNある
いはP 10) foctns) aR’ =C11(
C1ls)*あるいは5i(C1lils l芳香族ア
ルデヒドを、トリメチルクロロシランおよびジオン化ナ
トリウム(あるいはトリメチルシリルシアニド)あるい
はトリエチルホスフィツトあるいはリチウムジイソプロ
ピルアミドで処理して中間化合物を得、その中間化合物
をリチウムジイソプロピルアミドあるいはリチウムビス
トリメチルシリルアミドによってリチウム塩へ転位させ
ることができる0次いで適切なケトンと反応させ、引き
継いで酸性環境中で水で加水分解してヒドロキシケトン
(1/I)を得る。
= N fcll IcN−) 2)a、CNある
いはP 10) foctns) aR’ =C11(
C1ls)*あるいは5i(C1lils l芳香族ア
ルデヒドを、トリメチルクロロシランおよびジオン化ナ
トリウム(あるいはトリメチルシリルシアニド)あるい
はトリエチルホスフィツトあるいはリチウムジイソプロ
ピルアミドで処理して中間化合物を得、その中間化合物
をリチウムジイソプロピルアミドあるいはリチウムビス
トリメチルシリルアミドによってリチウム塩へ転位させ
ることができる0次いで適切なケトンと反応させ、引き
継いで酸性環境中で水で加水分解してヒドロキシケトン
(1/I)を得る。
(VI)
そのエステルおよびケトンを、芳香族あるいは脂肪族型
であり得る(同一ケトンであり得る)溶媒に溶解させそ
して金属ナトリウムで低温条件(−20°ないし+20
℃)の下に処理する6反応が停止したとき、酢酸で中和
し、ヒドロキシケトン(Vl)を通常のように単離する
。
であり得る(同一ケトンであり得る)溶媒に溶解させそ
して金属ナトリウムで低温条件(−20°ないし+20
℃)の下に処理する6反応が停止したとき、酢酸で中和
し、ヒドロキシケトン(Vl)を通常のように単離する
。
収率は一般に低くかつ低純度の生成物である。
ウイッチヒ法
転位触媒によって行なうことができる。
最後に、ヒドロキシケトン(Vt1をつくるために使用
される方法がどんなものであっても、ヒドロキシケトン
は下記の反応によってエーテル化することができる。
される方法がどんなものであっても、ヒドロキシケトン
は下記の反応によってエーテル化することができる。
■
(Vll)
反応の第1部分は塩基としてナトリウムメチレートある
いは水酸化カリウムを使用して芳香族溶媒中で普通に行
なわれる。第2段階ではヒドロキシル化は過マンガン酸
カリウムを用いであるいは(過酸化水素あるいは有機過
酸化物を使用して、エポキシ化、次いで酸性環境中で水
による加水分解によって行なわれる。
いは水酸化カリウムを使用して芳香族溶媒中で普通に行
なわれる。第2段階ではヒドロキシル化は過マンガン酸
カリウムを用いであるいは(過酸化水素あるいは有機過
酸化物を使用して、エポキシ化、次いで酸性環境中で水
による加水分解によって行なわれる。
酸化は、たとえばアセトン中のアルミニウムイソプロピ
レートによって、無水クロム酸試薬によって、あるいは
水性次亜塩酸ナトリウムぶよび相(Vl) (式中=R7はC1(3あるいはSi fc11313
である)。
レートによって、無水クロム酸試薬によって、あるいは
水性次亜塩酸ナトリウムぶよび相(Vl) (式中=R7はC1(3あるいはSi fc11313
である)。
適当な溶媒に溶解したヒドロキシケトン(vl)を、た
とえば、塩化メチル、沃化メチル、硫酸ジメチルあるい
はトリメチルクロロシランであり得るエーテル化剤と、
および酸性残留物を捕獲するための塩基で処理する。生
成物を通常のように単離する。
とえば、塩化メチル、沃化メチル、硫酸ジメチルあるい
はトリメチルクロロシランであり得るエーテル化剤と、
および酸性残留物を捕獲するための塩基で処理する。生
成物を通常のように単離する。
下記の語例は2本発明を更に説明する。
第1例
調製は、以下に説明する5没階で行なった:段階(A)
:ポリスチレンの調製 スチレン142.7 g、 トルエン84.5 m交
および含水75%過酸化ベンンイル58.7gから調製
した溶液を、95″〜102℃に維持したトルエン7S
II文へ徐々に滴下した。4時間、100℃に加熱した
後、溶媒を蒸発させて、約4七ツマ−単位を含有し、連
鎖開始反応および連鎖停止反応としてそれぞれベンゾイ
ルオキシ残基およびベンジル残基を含むスチレチン21
0gを得た。
:ポリスチレンの調製 スチレン142.7 g、 トルエン84.5 m交
および含水75%過酸化ベンンイル58.7gから調製
した溶液を、95″〜102℃に維持したトルエン7S
II文へ徐々に滴下した。4時間、100℃に加熱した
後、溶媒を蒸発させて、約4七ツマ−単位を含有し、連
鎖開始反応および連鎖停止反応としてそれぞれベンゾイ
ルオキシ残基およびベンジル残基を含むスチレチン21
0gを得た。
生成物は著しい粘性の液体であり、この液体は50℃で
流動性になり、また1720 (C= 0)1800.
1490,1450.1270,750および700
am−’に特性吸収帯を有する赤外スペクトルをもって
いた。
流動性になり、また1720 (C= 0)1800.
1490,1450.1270,750および700
am−’に特性吸収帯を有する赤外スペクトルをもって
いた。
F[(B):ポリ(4−ビニルイソブチロフェノン)の
調製 塩化インブチリル122.8 g、塩化メチレン236
1IfLおよび無水三塩化アルミニウム153.8 g
から調製した溶液を、段階(A)で調製したポリスチレ
ン119gおよび塩化メチレン190+JLから調製し
た溶液中に徐々に滴下し、温度を一3〜O℃に制御した
。それから反応混合物を、2時間5℃に維持しかつ次に
水および氷で加水分解した。
調製 塩化インブチリル122.8 g、塩化メチレン236
1IfLおよび無水三塩化アルミニウム153.8 g
から調製した溶液を、段階(A)で調製したポリスチレ
ン119gおよび塩化メチレン190+JLから調製し
た溶液中に徐々に滴下し、温度を一3〜O℃に制御した
。それから反応混合物を、2時間5℃に維持しかつ次に
水および氷で加水分解した。
有機相を37%HCIで洗汁し、次に水で洗浄し、そし
てpHgに中和した。
てpHgに中和した。
溶媒を蒸発によって除去し、1720,1[i80
(C=0) 、 180G、1470,1450,1
230.!380,850および7000「lに特性吸
収帯を有する赤外スペクトルをもつ著しい粘性の生成物
(60℃で流動性となる)148gを得た。
(C=0) 、 180G、1470,1450,1
230.!380,850および7000「lに特性吸
収帯を有する赤外スペクトルをもつ著しい粘性の生成物
(60℃で流動性となる)148gを得た。
段階(C):ポリ(1〜(4−ビニルフェニル)−2−
クロロ−2−メチルプロパノン)の調製塩化スルフリル
149.3 gを、トルエン200歳旦中の段階(B)
で調製した生成物148gの溶液に40ないし45℃で
徐々に添加した。
クロロ−2−メチルプロパノン)の調製塩化スルフリル
149.3 gを、トルエン200歳旦中の段階(B)
で調製した生成物148gの溶液に40ないし45℃で
徐々に添加した。
45℃で2時間の後、その混合物を水で洗浄し、中和し
、そして真空下で溶媒を蒸発させて。
、そして真空下で溶媒を蒸発させて。
2930.1720,188G、!800,1270.
1165.1115.1380および700cm−’
に特性吸収帯を有する赤外スペクトルをもつ極めて粘性
のある油170gを得た。
1165.1115.1380および700cm−’
に特性吸収帯を有する赤外スペクトルをもつ極めて粘性
のある油170gを得た。
段階(D):ポリ(1〜(4−ビニルフェニル)−1〜
メトキシ−2,2−ジメチルオキシラン〕の;ATA
ナトリウムメチラート36gを、トルエン1661文お
よびメタノール89m1中の段階(C)で調製した生成
物113gの溶液に、温度を45℃以下に維持しながら
徐々に添加した。
メトキシ−2,2−ジメチルオキシラン〕の;ATA
ナトリウムメチラート36gを、トルエン1661文お
よびメタノール89m1中の段階(C)で調製した生成
物113gの溶液に、温度を45℃以下に維持しながら
徐々に添加した。
45℃で2時間の後、その溶液を濾過によって透明にし
、また溶媒を蒸発させて、2930,141110゜1
270.1235.1130.1110.830および
?00cm−1に特性吸収帯を有する赤外スペクトルを
もつ極めて粘性のある液体110gを得た。
、また溶媒を蒸発させて、2930,141110゜1
270.1235.1130.1110.830および
?00cm−1に特性吸収帯を有する赤外スペクトルを
もつ極めて粘性のある液体110gを得た。
段階(E):ポリ〔2−ヒドロキシ−2−メチル=(4
−ビニルプロピオフェノン)〕の調製段階(D)で得ら
れた生成物flogを、メタノールloomffiおよ
びトルエン100 ■見に溶解させ、水1701皇で処
理し、そして35℃以下の温度を維持しながら37%M
C1100siで徐々に処理した。2時間攪拌した後、
その有機相を水で洗浄し、中和し、また溶媒を真空下の
蒸発によって除去して、約50℃の流動点をもち、ま7
’−3450,2980,2920,1670,180
0,1450,1380,1280゜11B0,960
,750および700cm−1に特性吸収帯を有する赤
外ス〆クトルをもつ極めて粘性のある液体100gを得
た。
−ビニルプロピオフェノン)〕の調製段階(D)で得ら
れた生成物flogを、メタノールloomffiおよ
びトルエン100 ■見に溶解させ、水1701皇で処
理し、そして35℃以下の温度を維持しながら37%M
C1100siで徐々に処理した。2時間攪拌した後、
その有機相を水で洗浄し、中和し、また溶媒を真空下の
蒸発によって除去して、約50℃の流動点をもち、ま7
’−3450,2980,2920,1670,180
0,1450,1380,1280゜11B0,960
,750および700cm−1に特性吸収帯を有する赤
外ス〆クトルをもつ極めて粘性のある液体100gを得
た。
この生成物のNIIRスペクトル(CDCl2中、δ(
pp園))は次の通りであった:δ= 1.00−1.
80((fh);2.013−2.35(CH2、CI
) ; 2.80−3.50(OH) ;7.00−8
.35 (芳香族H〕。
pp園))は次の通りであった:δ= 1.00−1.
80((fh);2.013−2.35(CH2、CI
) ; 2.80−3.50(OH) ;7.00−8
.35 (芳香族H〕。
蒸気圧浸透圧計によって測足した平均分子駿は1100
であり、式(I)中のnが2〜10のものである。
であり、式(I)中のnが2〜10のものである。
元素分析は次通りであった。
実測値: C= 78.10 、 H= 7.21計算
値: c = 78.00 、 H= 7.10第2例 ポリ〔2−ヒドロキシ−2−メチル−−(1〜メチルビ
ニル)プロピオフェノン の調製調製は、以下説明する
5段階で行なった二段階(A):ポリα−メチルスチレ
ンの調製α−メチルスチレン87.9g、トルエン27
.5 mlおよび75%ベンゾイルペルオキシド23.
85 gから調製した溶液を、約lOO°Cで維持した
トルエン40 mlに徐々に滴下した。
値: c = 78.00 、 H= 7.10第2例 ポリ〔2−ヒドロキシ−2−メチル−−(1〜メチルビ
ニル)プロピオフェノン の調製調製は、以下説明する
5段階で行なった二段階(A):ポリα−メチルスチレ
ンの調製α−メチルスチレン87.9g、トルエン27
.5 mlおよび75%ベンゾイルペルオキシド23.
85 gから調製した溶液を、約lOO°Cで維持した
トルエン40 mlに徐々に滴下した。
100°Cに3時間加熱した後、溶媒を蒸発させて、約
4モノマー単位を含み、それぞれ連鎖開始反応および連
鎖停止反応としてのベンゾイルオキシ残基およびベンジ
ル残基を含むα−メチルスチレンオリゴマー85gを得
た。
4モノマー単位を含み、それぞれ連鎖開始反応および連
鎖停止反応としてのベンゾイルオキシ残基およびベンジ
ル残基を含むα−メチルスチレンオリゴマー85gを得
た。
生成物は、環境温度ですら粘性であるがしかし流動液体
であり、1720 (C= O) 、 1800.1
450゜1270、1110.7fiOおよび700c
++−1に特性吸収帯を有する赤外スペクトルをもって
いた。
であり、1720 (C= O) 、 1800.1
450゜1270、1110.7fiOおよび700c
++−1に特性吸収帯を有する赤外スペクトルをもって
いた。
段Wi(B):ポリ(4−(1〜メチルビニル)インブ
チロフェノン〕の調製 塩化インブチリル67g、塩化メチレン125mflお
よび無水三塩化アルミニウム83.7gから調製した溶
液を、塩化メチレン115 曹l中のポリα−メチルス
チレン73.5gの溶液に徐々に滴ドし、温度を0℃に
制御した。5℃で2時間の後。
チロフェノン〕の調製 塩化インブチリル67g、塩化メチレン125mflお
よび無水三塩化アルミニウム83.7gから調製した溶
液を、塩化メチレン115 曹l中のポリα−メチルス
チレン73.5gの溶液に徐々に滴ドし、温度を0℃に
制御した。5℃で2時間の後。
その混合物を水および氷で加水分解し、そしてイノ穏和
を37%HCI で洗浄し、それから水で洗浄し、最終
的にpH8に中和し、溶媒を蒸発させた後、2950.
1875 (C=0) 、 1600.1480.1
450゜1220.375,840および700cs−
’ に特性吸収・;i″fを有する赤外スペクトルをも
つ粘性油の形状のケトンポリマー115gをを得た。
を37%HCI で洗浄し、それから水で洗浄し、最終
的にpH8に中和し、溶媒を蒸発させた後、2950.
1875 (C=0) 、 1600.1480.1
450゜1220.375,840および700cs−
’ に特性吸収・;i″fを有する赤外スペクトルをも
つ粘性油の形状のケトンポリマー115gをを得た。
段階(C):ポリ [1〜(4−(1〜メチルビニル)
フェニル〕2−クロロー2−メチルプロパノン1のJ!
l製 塩化ス/L−フリル74.3gを、トルエン107mu
中の1)階(B)で調製した生成物79gの溶液に40
°〜50℃で徐々に添加した。
フェニル〕2−クロロー2−メチルプロパノン1のJ!
l製 塩化ス/L−フリル74.3gを、トルエン107mu
中の1)階(B)で調製した生成物79gの溶液に40
°〜50℃で徐々に添加した。
45℃で2時間の後、その混合物を水で洗浄し、中和し
、そして溶媒を真空rで蒸発させて、2950 、 I
fi80 、1800.1450 、1270.117
0 、 + 120.!1185,840オよび700
cs+ ’ に特性吸収帯を有する赤外スペクトルをも
つ粘性油98gを得た。
、そして溶媒を真空rで蒸発させて、2950 、 I
fi80 、1800.1450 、1270.117
0 、 + 120.!1185,840オよび700
cs+ ’ に特性吸収帯を有する赤外スペクトルをも
つ粘性油98gを得た。
段階(D)、ポリ[1〜(4−(1〜メチルビニル)フ
ェニル)−1〜メトキシ−2,2−ジメチルオキシラン
]の調製 ナトリウムメチレート30gを、トルエン1301文お
よびメタノール70道文中の段階(C)で得た生成物9
8gの溶液に、45℃以下の温度を維持しながら徐々に
添加した。
ェニル)−1〜メトキシ−2,2−ジメチルオキシラン
]の調製 ナトリウムメチレート30gを、トルエン1301文お
よびメタノール70道文中の段階(C)で得た生成物9
8gの溶液に、45℃以下の温度を維持しながら徐々に
添加した。
45℃で2時間の後、その溶液を濾過によって透明にし
そして溶媒を蒸発させて2950 、1450 。
そして溶媒を蒸発させて2950 、1450 。
+270.1230.1110,830および700c
m−1に特性吸収帯を有する赤外スペクトルをもつ粘性
液体94gを得た。
m−1に特性吸収帯を有する赤外スペクトルをもつ粘性
液体94gを得た。
段階(E):ポリ〔2−ヒドロキシ−2−メチルp−(
1〜メチルビニル)プロピオフェノン〕の調製 段階(D)で得た生成物94gをメタノール90gおよ
びトルエン90gに溶解させ、モして水140wMで処
理し、また35℃以下に温度を維持しながら37%)I
C182重文で徐々に処理した。
1〜メチルビニル)プロピオフェノン〕の調製 段階(D)で得た生成物94gをメタノール90gおよ
びトルエン90gに溶解させ、モして水140wMで処
理し、また35℃以下に温度を維持しながら37%)I
C182重文で徐々に処理した。
2時間攪拌した後、その有機相を水で洗浄し、中和し、
また溶液を真空ドでのJS、発によって除去し−C,I
it動点約10℃オ、11〜び3450,2970.1
67[1,1eOO。
また溶液を真空ドでのJS、発によって除去し−C,I
it動点約10℃オ、11〜び3450,2970.1
67[1,1eOO。
1450.1370.1260.1+70.9130.
830 オヨび700cm−’ ニ特性吸収帯を有する
赤外スペクトルをもつ粘性液体87gをを得た。
830 オヨび700cm−’ ニ特性吸収帯を有する
赤外スペクトルをもつ粘性液体87gをを得た。
この生成物のNMRスペクトル(CI]Gh中、δ(p
pm))は次の通りであった:δ= 1.05−1.7
5(G)13);2.+8−2.52((J/ 、)
; 2.80−3.50(OH) ; 7.10−8.
40(芳香族H)。
pm))は次の通りであった:δ= 1.05−1.7
5(G)13);2.+8−2.52((J/ 、)
; 2.80−3.50(OH) ; 7.10−8.
40(芳香族H)。
蒸気圧侵透圧計によって測定したf均分子量は1200
であり、式(I)中のnが2〜10のものである。
であり、式(I)中のnが2〜10のものである。
元素分析は次通りであった。
実測値: C= 78.85 、 H= 7.52計算
値: C= 7f1.50 、 H= 7.45第3例 置) この調製法は第2例の方法の可能な改良方法である。
値: C= 7f1.50 、 H= 7.45第3例 置) この調製法は第2例の方法の可能な改良方法である。
ベンゼン80g中のα−メチルスチレン120gから調
製した溶液を、塩化イソブチリル212gおよび無水玉
塩化アルアミニウム266gで、−5″と0℃との間め
温度で徐々に処理した。0ないし5℃で2時間の後、そ
の溶液を木100gで徐々に処理し、次いで20℃で塩
化スルフリル2720 gで処理した。さらに2時間の
反応の後、その混合物を水および氷で加水分解し、有機
相を水で洗浄し、中和し、そして80℃、40 mm1
gで乾燥して、表題で述べた重合性生成倹約55%およ
びα−クロロイソブチロフェノン45%を含む油状液体
398gを得た。
製した溶液を、塩化イソブチリル212gおよび無水玉
塩化アルアミニウム266gで、−5″と0℃との間め
温度で徐々に処理した。0ないし5℃で2時間の後、そ
の溶液を木100gで徐々に処理し、次いで20℃で塩
化スルフリル2720 gで処理した。さらに2時間の
反応の後、その混合物を水および氷で加水分解し、有機
相を水で洗浄し、中和し、そして80℃、40 mm1
gで乾燥して、表題で述べた重合性生成倹約55%およ
びα−クロロイソブチロフェノン45%を含む油状液体
398gを得た。
第4例
この調製法は第2例の方法の可能な改良法である。
メタノール2001皇およびトルエン200鵬文中の、
第3例で得た生成物398gの溶液を、ナトリウ1、メ
チレート130gで20℃において徐々に処理した。4
0℃で4時間の後、水300層見8よび37%)ICI
200−見を導入した。
第3例で得た生成物398gの溶液を、ナトリウ1、メ
チレート130gで20℃において徐々に処理した。4
0℃で4時間の後、水300層見8よび37%)ICI
200−見を導入した。
35℃で2吟間の後、有機相を水で洗浄し、中和し、そ
の溶媒を真空下での蒸発によって除去して1重合体生成
物約55%およびα−ヒドロキシイソブチロフェノン4
5%を含む油状液体360gを得た。
の溶媒を真空下での蒸発によって除去して1重合体生成
物約55%およびα−ヒドロキシイソブチロフェノン4
5%を含む油状液体360gを得た。
第5例
不飽和アクリル樹脂(ビスフェノーメAビスグリシジル
エーテルおよびアクリル酸から得られかつ酸価3をもつ
もの)56重量部、ヘキサンジ才−ルジアクリレー)
14ffi@部、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート30重に部、レベリングニード(levellin
g aid) (ジメチルシロキサン、酸化プロピレ
ン、酸化エチレンに基づいたコポリマー)0.5重量部
および第1例、第2例および第4例で得た光開始剤の可
変量から成る光化学架橋性混合物を厚さ約200ミクロ
ンの厚さでガラス板に塗41シた。30秒間空気に露出
した後そのフィルムを電力40W/cmの中圧水銀燈下
1Ocllの距離で200m/秒で逐次に通過させるこ
とによって照射した。下記の表は各通過の10分後に測
定したヌオード硬度を示している。
エーテルおよびアクリル酸から得られかつ酸価3をもつ
もの)56重量部、ヘキサンジ才−ルジアクリレー)
14ffi@部、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート30重に部、レベリングニード(levellin
g aid) (ジメチルシロキサン、酸化プロピレ
ン、酸化エチレンに基づいたコポリマー)0.5重量部
および第1例、第2例および第4例で得た光開始剤の可
変量から成る光化学架橋性混合物を厚さ約200ミクロ
ンの厚さでガラス板に塗41シた。30秒間空気に露出
した後そのフィルムを電力40W/cmの中圧水銀燈下
1Ocllの距離で200m/秒で逐次に通過させるこ
とによって照射した。下記の表は各通過の10分後に測
定したヌオード硬度を示している。
60℃で暗所中での樹脂−光開始剤混合物の貯蔵安定性
はあらゆる場合に30日を超過した。
はあらゆる場合に30日を超過した。
光開始剤
対照物質(1)
第1例の
生成物
第2例の
生成物
f54例の
生成物
スオード硬度
量 通過回数
雀% 1 23
0.5 0 2 4
1.5 2 18 35
2.5 15 38 40
0.5 0 2
1.0 2 1G
1.5 3 18
2.0 5 34
2.5 14 38
0.5 0 5
1.0 2 B
1.5 4 24
2.0 8 33
2.5 15 38
0.5 0 3
1.5 2 9
1.5 3 1?
2.0 5 30
2.5 14 38
(1)1〜(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロパノン(米国特許第4.374,
111号) この例および後の例において、スオード硬度は、AST
M D−2134−68方法によって測定した。
キシ−2−メチルプロパノン(米国特許第4.374,
111号) この例および後の例において、スオード硬度は、AST
M D−2134−68方法によって測定した。
第6例
ビニルエステルアクリレート(酸価9.6、不飽和当量
245)65重量部、ヘキサンジオールジアクリレート
35重量部およびレベリングニード(ジメチルシロキサ
ン、酸化プロピレン、m化エチレンに基づいたコポリマ
ー)0.5重量部および第1例でおよび第2例で得られ
た光開始剤の可変量によって構成された光化学架橋性混
合物を厚さ200ミクロンの厚さでガラス板に塗布した
。 30秒間空気に露出した後、第5例で記述した条件
下で照射した。下記の表は各通過の10分後に測定した
スオード硬度を示す。
245)65重量部、ヘキサンジオールジアクリレート
35重量部およびレベリングニード(ジメチルシロキサ
ン、酸化プロピレン、m化エチレンに基づいたコポリマ
ー)0.5重量部および第1例でおよび第2例で得られ
た光開始剤の可変量によって構成された光化学架橋性混
合物を厚さ200ミクロンの厚さでガラス板に塗布した
。 30秒間空気に露出した後、第5例で記述した条件
下で照射した。下記の表は各通過の10分後に測定した
スオード硬度を示す。
60℃で暗所中での本樹脂−光開始剤の貯蔵安定性はあ
らゆる場合に30日を超過した。
らゆる場合に30日を超過した。
光開始剤
対照物質(+)
第1例の
生成物
7n2例の
生成物
スオード硬度
酸
% l
1.5 2
2.5 2
通過回数
(1)l−(4−イソプロピルフェニル)−2〜ヒドロ
キシ−2−メチルプロパノン 第7例 第6例で記載の条件下で架橋させたフィルムを、水銀燈
に長時間露出することによって人工的に老化させて、黄
変および崩壊を引、き起こさせた。)1変指数を規則的
間隔で測定して下記の表に示す。
キシ−2−メチルプロパノン 第7例 第6例で記載の条件下で架橋させたフィルムを、水銀燈
に長時間露出することによって人工的に老化させて、黄
変および崩壊を引、き起こさせた。)1変指数を規則的
間隔で測定して下記の表に示す。
誠変指数(Yl)
叛に塗4jした。塗布したフィルムを炉中80”Cで・
30分間乾燥した。暗所で15分間冷却後、フィルムを
80 W / c層の中圧水銀燈丁10c鳳の距離を置
いてIOm/分で一回通過させることによって照射した
。
30分間乾燥した。暗所で15分間冷却後、フィルムを
80 W / c層の中圧水銀燈丁10c鳳の距離を置
いてIOm/分で一回通過させることによって照射した
。
下記の表は照射の10分後に測定したスオード硬度を示
す。
す。
スオード硬度
対照物質 10 11 13 15 18第1
例 7 8 13 14.5 1!i第2例
10 11.5 13 14.5 18この黄変指
数はASTM D−1925方法によって測定した。
例 7 8 13 14.5 1!i第2例
10 11.5 13 14.5 18この黄変指
数はASTM D−1925方法によって測定した。
第8例
光開始剤の可変量および均展剤(シリコーン−エチレン
酸化物コポリマー)0.5重量%を光化学架橋性アクリ
ル樹脂(改質ポリエステル)の50重量%水性エマルジ
、ンに添加した。
酸化物コポリマー)0.5重量%を光化学架橋性アクリ
ル樹脂(改質ポリエステル)の50重量%水性エマルジ
、ンに添加した。
得られた混合物を厚さ200ミクロンでガラス対照物質
(1) 16 14 12対照物質(2)
12 16 4第1例 16 19
20 第2 16 22 20 (1)l−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ
−2−メチルプロパノ/ (2)1〜(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロパノン 上記(1)および(2)は米国特許第4,347,11
1号に従ってつくられたものである。
(1) 16 14 12対照物質(2)
12 16 4第1例 16 19
20 第2 16 22 20 (1)l−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ
−2−メチルプロパノ/ (2)1〜(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロパノン 上記(1)および(2)は米国特許第4,347,11
1号に従ってつくられたものである。
第9例
第1例で得た光開始剤3.8重量部をn−ブチルアクリ
レート1281[置部とへキサジオールジアクリレート
210重量部との混合物中に溶解させた* Mailの
2つのシートの間で厚さ10ミクロンで塗布された混合
物をsoowの中圧水銀燈(ヘリオスイタルクオーツモ
デルGN 500L)によって距離20ctaを置いて
所定の時間の間照射した。二重結合の残留量を、特性吸
収帯についての赤外分析によって規則的間隔で測定した
。
レート1281[置部とへキサジオールジアクリレート
210重量部との混合物中に溶解させた* Mailの
2つのシートの間で厚さ10ミクロンで塗布された混合
物をsoowの中圧水銀燈(ヘリオスイタルクオーツモ
デルGN 500L)によって距離20ctaを置いて
所定の時間の間照射した。二重結合の残留量を、特性吸
収帯についての赤外分析によって規則的間隔で測定した
。
下記の表は0時間に関する各811足時に存在する二重
結合の百分率量を指示することによって二重結合が消滅
する速度論を示す。
結合の百分率量を指示することによって二重結合が消滅
する速度論を示す。
二重結合の百分率量
対照物質(1)100 95 85 80 27 1B
第 1 例 100 8G 40 15
12 9(1) l−フェニル−2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロパノン 第10例 第5例におけるようにして生成されかつ光開始剤3重量
%を含む樹脂を厚さ50ミクロンでガラス板に塗布した
。30分間空気に露出した後、500W/cmの中圧水
銀燈下に距filocmを置いて可変速度で一度通過さ
せることによって老化を行なった。スオード硬度を10
分後に測定して下記の表の測定値を得た。
第 1 例 100 8G 40 15
12 9(1) l−フェニル−2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロパノン 第10例 第5例におけるようにして生成されかつ光開始剤3重量
%を含む樹脂を厚さ50ミクロンでガラス板に塗布した
。30分間空気に露出した後、500W/cmの中圧水
銀燈下に距filocmを置いて可変速度で一度通過さ
せることによって老化を行なった。スオード硬度を10
分後に測定して下記の表の測定値を得た。
スオード硬度
対照物質(1) 44 36 30第 1
例 44 37 32ffS
2 例 44 35 29(1)1
〜(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2
−メチルプロパノン 第11例 光開始剤3重量%を含む第6例におけるようにして生成
された樹脂を厚さ25ミクロンでガラス板に塗布した。
例 44 37 32ffS
2 例 44 35 29(1)1
〜(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2
−メチルプロパノン 第11例 光開始剤3重量%を含む第6例におけるようにして生成
された樹脂を厚さ25ミクロンでガラス板に塗布した。
30分間空気に露出した後、フィルムを距111110
cmに置いた80W/ci+の水銀燈によって得られる
フィルムが感触では最早や検知できない最大速度で照射
した。
cmに置いた80W/ci+の水銀燈によって得られる
フィルムが感触では最早や検知できない最大速度で照射
した。
最大搬送速度を第1例および第2例の光開始剤について
もまた対照物質(1〜(4−イソプロピルフェニル)−
2−ヒドロキシ−2−メチルプロパノン〕についても2
0m/分であると判明した。
もまた対照物質(1〜(4−イソプロピルフェニル)−
2−ヒドロキシ−2−メチルプロパノン〕についても2
0m/分であると判明した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、エチレン性不飽和モノマー及び/又はプレポリマー
と、光開始剤としての0.1〜10%の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは2〜50の数であり、Arはフェニレン基
であり、XはOH基またはCl原子であり、R及びR_
1は等しいか又は異なる基で、それぞれ独立に炭素原子
数1〜4のアルキル基であり、R_2は水素原子又は炭
素原子数1〜4のアルキル基であり、R_3、R_4、
A及びBは水素原子である) で表わされる重合体芳香族・脂肪族ケトンとを含む光重
合性組成物。 2、光開始剤がポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−(4−ビニルプロピオフェノン)]、ポリ[2−ヒド
ロキシ−2−メチル−p−(1−メチルビニル)プロピ
オフェノン]及びポリ[1−〔4−(1−メチルビニル
)フェニル〕−2−クロロ−2−メチル−プロパン]か
ら成る群から選ばれた重合体である請求項1記載の光重
合性組成物。 3、エチレン性不飽和モノマー及び/又はプレホリマー
がアクリル酸型及び/又はメタクリル酸型の化合物であ
る請求項1又は2記載の光重合性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT20498/84A IT1176018B (it) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione |
| IT20498A/84 | 1984-04-12 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60076889A Division JPS60252443A (ja) | 1984-04-12 | 1985-04-12 | 重合体芳香族・脂肪族ケトン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02160803A true JPH02160803A (ja) | 1990-06-20 |
| JPH0780927B2 JPH0780927B2 (ja) | 1995-08-30 |
Family
ID=11167840
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60076889A Granted JPS60252443A (ja) | 1984-04-12 | 1985-04-12 | 重合体芳香族・脂肪族ケトン |
| JP1099927A Expired - Lifetime JPH0780927B2 (ja) | 1984-04-12 | 1989-04-19 | 光重合性組成物 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60076889A Granted JPS60252443A (ja) | 1984-04-12 | 1985-04-12 | 重合体芳香族・脂肪族ケトン |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4672079A (ja) |
| EP (1) | EP0161463B1 (ja) |
| JP (2) | JPS60252443A (ja) |
| AT (1) | ATE40557T1 (ja) |
| BR (1) | BR8501709A (ja) |
| CA (1) | CA1323463C (ja) |
| DE (1) | DE3568049D1 (ja) |
| ES (1) | ES8606888A1 (ja) |
| IT (1) | IT1176018B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100694946B1 (ko) * | 1998-11-19 | 2007-03-14 | 램베르티 에스.피.에이. | 광중합반응에 적합한 이작용성 광개시제 및 이를 함유하는광중합성시스템 |
Families Citing this family (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1176018B (it) * | 1984-04-12 | 1987-08-12 | Lamberti Flli Spa | Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione |
| IT1208494B (it) * | 1985-01-28 | 1989-07-10 | Lamberti Flli Spa | Polimerizzazione. derivati solforati di chetoni aromatico-alifatici e alifatici come fotoiniziatori di |
| IT1187703B (it) * | 1985-07-23 | 1987-12-23 | Lamberti Fratelli Spa | Benzofenoni sostituiti e loro miscele liquide,atti all'impiego come iniziatori di fotopolimerizzazione |
| EP0258719A3 (de) * | 1986-08-30 | 1989-07-05 | Ciba-Geigy Ag | Zweischichtensystem |
| DE3738567A1 (de) * | 1987-03-12 | 1988-09-22 | Merck Patent Gmbh | Coreaktive fotoinitiatoren |
| US4950795A (en) * | 1987-08-27 | 1990-08-21 | Ciba-Geigy Corporation | Oligomeric benzil ketals and their use as photoinitiators |
| US5095044A (en) * | 1987-08-27 | 1992-03-10 | Ciba-Geigy Corporation | Oligomeric benzil ketals and their use as photoinitiators |
| DE3816304A1 (de) * | 1988-05-13 | 1989-11-23 | Merck Patent Gmbh | Fotoinitiator-copolymere |
| GB9123070D0 (en) † | 1991-10-30 | 1991-12-18 | Domino Printing Sciences Plc | Ink |
| IT1243932B (it) * | 1990-11-27 | 1994-06-28 | Lamberti Flli Spa | Composizioni liquide stabili utili come fotoiniziatori di polimerizzazione, loro preparazione e loro impiego. |
| US5484822A (en) * | 1991-06-24 | 1996-01-16 | Polaroid Corporation | Process and composition for cladding optic fibers |
| JPH06172471A (ja) * | 1992-10-09 | 1994-06-21 | Henkel Hakusui Kk | 重合硬化性組成物とこれを用いて成形または被覆する方法 |
| DE4302123A1 (de) * | 1993-01-27 | 1994-07-28 | Herberts Gmbh | Verfahren zum Bedrucken von Glashohlkörpern |
| AU5635796A (en) * | 1995-05-10 | 1996-11-29 | Avery Dennison Corporation | Pigmented, uv-cured, acrylic-based, pressure sensitive adhes ives, and method for making same |
| DE19546899C1 (de) | 1995-12-15 | 1997-01-09 | Herberts Gmbh | Überzugsmittel und Verwendung des Überzugsmittels |
| JPH1017635A (ja) * | 1996-07-08 | 1998-01-20 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 注型重合用放射線硬化性樹脂組成物 |
| SG53043A1 (en) * | 1996-08-28 | 1998-09-28 | Ciba Geigy Ag | Molecular complex compounds as photoinitiators |
| DE19635447C1 (de) * | 1996-08-31 | 1997-11-20 | Herberts Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Reparaturlackierung |
| US6139770A (en) * | 1997-05-16 | 2000-10-31 | Chevron Chemical Company Llc | Photoinitiators and oxygen scavenging compositions |
| ATE346847T1 (de) * | 1999-05-10 | 2006-12-15 | Ciba Sc Holding Ag | Neue photoinitiatoren und deren anwendungen |
| GB2352718A (en) | 1999-08-04 | 2001-02-07 | Coates Brothers Plc | Photoinitiators |
| JP2001049077A (ja) * | 1999-08-12 | 2001-02-20 | Jsr Corp | 樹脂組成物及びその硬化物 |
| DE10049669A1 (de) * | 2000-10-06 | 2002-04-11 | Tesa Ag | Verfahren zur Herstellung von vernetzten Acrylatschmelzhaftklebemassen |
| TWI312786B (en) * | 2001-11-08 | 2009-08-01 | Ciba Sc Holding Ag | Novel difunctional photoinitiators |
| US20030225179A1 (en) * | 2002-04-26 | 2003-12-04 | Chiu Chingfan Chris | Novel morpholinoketone derivatives, and preparation process and uses of the same |
| US7157535B2 (en) * | 2002-06-19 | 2007-01-02 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Polymeric photoinitiators |
| ITVA20030028A1 (it) | 2003-08-07 | 2005-02-08 | Lamberti Spa | Sistemi fotopolimerizzabili trasparenti per la preparazione di rivestimenti ad elevato spessore. |
| ES2660319T3 (es) * | 2003-08-29 | 2018-03-21 | Igm Group B.V. | Recubrimientos de fibra óptica |
| ITVA20030040A1 (it) * | 2003-10-27 | 2005-04-28 | Lamberti Spa | Fotoiniziatore solido bianco in polvere e procedimento per la sua preparazione. |
| US7153891B2 (en) * | 2003-12-24 | 2006-12-26 | Cryovac, Inc. | Photoinitiator blends for high speed triggering |
| EP1711862B1 (en) | 2004-02-02 | 2014-09-10 | Basf Se | Functionalized photoinitiators |
| JP2008195616A (ja) * | 2007-02-08 | 2008-08-28 | Fujifilm Corp | 重合性化合物、光記録用組成物、ホログラフィック記録媒体および情報記録方法 |
| EP2342237B1 (en) | 2008-11-03 | 2014-04-23 | Basf Se | Photoinitiator mixtures |
| SG186778A1 (en) * | 2010-06-22 | 2013-02-28 | Coloplast As | Hydrophilic gels derived from grafted photoinitiators |
| US20120207935A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photocurable inks and methods of use |
| US8816211B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-08-26 | Eastman Kodak Company | Articles with photocurable and photocured compositions |
| US20120208914A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photoinitiator compositions and uses |
| CN102351676A (zh) * | 2011-08-19 | 2012-02-15 | 滨海锦翔化学助剂有限公司 | 一种高分子羟基酮类光引发剂的制备方法 |
| EP3154925B1 (en) | 2014-06-10 | 2018-08-01 | IGM Resins Italia S.r.l. | Process for the preparation of a phenylindan compound |
| EP3154926B1 (en) | 2014-06-10 | 2018-08-01 | IGM Resins Italia S.r.l. | Process for the preparation of a phenylindan photoinitiator |
| CN106365974B (zh) * | 2016-08-29 | 2019-07-02 | 天津久日新材料股份有限公司 | 新的羟基酮类光引发剂及其制备和应用 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60252443A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-12-13 | フラテツリ・ランベルテイ・エス.ピ−.エイ. | 重合体芳香族・脂肪族ケトン |
| JPH0236582A (ja) * | 1988-07-27 | 1990-02-06 | Toshiba Corp | ガスレーザ発振装置 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2706725A (en) * | 1951-09-13 | 1955-04-19 | Eastman Kodak Co | Polymers of vinyl benzal acetophenones |
| US2708665A (en) * | 1951-09-13 | 1955-05-17 | Eastman Kodak Co | Preparation of vinyl benzal acetophenone polymers |
| US3265772A (en) * | 1962-03-27 | 1966-08-09 | Du Pont | Cross-linked blended polymers containing polymeric acryloxy benzophenones |
| NL290653A (ja) * | 1962-03-27 | |||
| NL290654A (ja) * | 1962-03-27 | 1900-01-01 | ||
| GB1147250A (en) * | 1966-05-16 | 1969-04-02 | Richardson Co | Uv absorbing polymers |
| DE1720604A1 (de) * | 1967-01-18 | 1971-08-05 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung vernetzter Copolymerisate |
| DE1720681C3 (de) * | 1967-07-06 | 1979-06-07 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | lichtvernetzbare Polyether und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| US3591661A (en) * | 1969-07-23 | 1971-07-06 | Du Pont | Polymeric photosensitizers |
| DE2722264C2 (de) * | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
| EP0003002B1 (de) * | 1977-12-22 | 1984-06-13 | Ciba-Geigy Ag | Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone |
| EP0097124B1 (de) * | 1982-06-15 | 1986-10-15 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Photopolymerisation ungesättigter Verbindungen |
-
1984
- 1984-04-12 IT IT20498/84A patent/IT1176018B/it active
-
1985
- 1985-04-04 AT AT85104088T patent/ATE40557T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-04-04 EP EP85104088A patent/EP0161463B1/en not_active Expired
- 1985-04-04 DE DE8585104088T patent/DE3568049D1/de not_active Expired
- 1985-04-05 US US06/720,344 patent/US4672079A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-04-10 ES ES542866A patent/ES8606888A1/es not_active Expired
- 1985-04-10 CA CA000478744A patent/CA1323463C/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-04-11 BR BR8501709A patent/BR8501709A/pt unknown
- 1985-04-12 JP JP60076889A patent/JPS60252443A/ja active Granted
-
1989
- 1989-04-19 JP JP1099927A patent/JPH0780927B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60252443A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-12-13 | フラテツリ・ランベルテイ・エス.ピ−.エイ. | 重合体芳香族・脂肪族ケトン |
| JPH0236582A (ja) * | 1988-07-27 | 1990-02-06 | Toshiba Corp | ガスレーザ発振装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100694946B1 (ko) * | 1998-11-19 | 2007-03-14 | 램베르티 에스.피.에이. | 광중합반응에 적합한 이작용성 광개시제 및 이를 함유하는광중합성시스템 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0780927B2 (ja) | 1995-08-30 |
| BR8501709A (pt) | 1985-12-10 |
| CA1323463C (en) | 1993-10-19 |
| ES8606888A1 (es) | 1986-05-16 |
| ATE40557T1 (de) | 1989-02-15 |
| IT1176018B (it) | 1987-08-12 |
| DE3568049D1 (en) | 1989-03-09 |
| IT8420498A0 (it) | 1984-04-12 |
| US4672079A (en) | 1987-06-09 |
| JPH0236582B2 (ja) | 1990-08-17 |
| ES542866A0 (es) | 1986-05-16 |
| JPS60252443A (ja) | 1985-12-13 |
| EP0161463B1 (en) | 1989-02-01 |
| EP0161463A1 (en) | 1985-11-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH02160803A (ja) | 光重合性組成物 | |
| EP0007508B1 (de) | Acylphosphinoxidverbindungen, ihre Herstellung und ihre Verwendung | |
| Corrales et al. | Free radical macrophotoinitiators: an overview on recent advances | |
| US6034150A (en) | Polymerization processes using aliphatic maleimides | |
| JP2582792B2 (ja) | チタノセン、それらの製造法およびそれらを含有する組成物 | |
| BE1010179A4 (fr) | Oxydes de bisacylphosphine substitues par alcoxyphenyle, comme photoamorceurs pour la photopolymerisation des composes a insaturation ethylenique. | |
| JP2514804B2 (ja) | 共重合性光開始剤 | |
| FI86412C (fi) | Fotoinitiatorer foer fotopolymerisation av omaettade system. | |
| US4795766A (en) | Propiophenone derivatives as photoinitiators for photopolymerization | |
| US6316519B1 (en) | Molecular weight controlled polymers by photopolymerization | |
| JPH0360322B2 (ja) | ||
| AU2003233984A1 (en) | Incorporable photoinitiator | |
| WO1998007759A9 (en) | Polymerization processes using aliphatic maleimides | |
| AU2003246675A1 (en) | New difunctional photoinitiators | |
| US4113592A (en) | Trihalogenated hydrocarbons as co-photoinitiators | |
| JP2012051927A (ja) | 粉末の形態での白色固体光開始剤およびその製造 | |
| JP2777807B2 (ja) | 新規な6‐アシル‐(6H)‐ジベンゾ〔c,e〕〔1,2〕オキサホスホリン‐6‐オキシド、その製法及び該化合物を光開始剤として使用する方法 | |
| WO2022238592A2 (en) | Novel photoinitiator | |
| CN100554234C (zh) | 用于制备高厚度涂层的透明的光可聚合体系 | |
| JP2000510868A (ja) | 狭い波長帯の紫外線(uv)キュアシステムに使用する光活性化合物 | |
| JP2009503209A (ja) | 低抽出性、低揮発性共開始剤を含む光重合系 | |
| EP0980393A1 (en) | Biradical photoinitiators | |
| JPH0196145A (ja) | 低重合ベンジルケタール及び光開始剤としてのそれらの使用方法 | |
| JP2001512512A (ja) | 光重合による(共)重合体 | |
| US4207155A (en) | Diluents for ultraviolet coating compositions |