JPH02162503A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は高周波信号の記録、再生に好適な磁気ヘッドに
関する。

（ロ）従来の技術 最近のＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）においては高画
質化を実現するために、信号周波数帯域を広帯域化する
傾向にあり、特にハイビジョン用の高品位ＶＴＲにおい
てはその帯域が３０ＭＨｚ以上にまで拡大されている。

従来、この種のＶＴＲに用いられる磁気ヘッドとしては
、実開昭６３−６５１０９号（ＧＬＩＢ５　／　１２７
　）に示されているようにコア幅が１０ｍ１！１以下の
ものや、第９図に示されているように媒体摺接側の端面
に凹部（１）（１）を設けることによりコア幅Ｗａが３
〜５工に対して巻線（２）（２）が施されている部分の
コア幅ｗｂをｌ　ｍｍ前後にしたものが提案されている
。第９図において、（３）はセンダスト等の強磁性金属
材料よりなる主コア、（４）（４）は結晶化ガラス等の
非磁性材料よりなる補強コアである。尚、上記従来の磁
気ヘッドにおいてコア幅を１０前後と小さくしている理
由は、巻線が巻回されている磁性体部の断面積を小さく
することにより再生効率を低下させずに巻線巻回領域で
のインダクタンス値を小さくして高周波領域での伝送系
の損失を防止し且つ回路との共振周波数を高くするため
である。

しかし乍ら、上記従来の磁気ヘッドでは、巻線が巻回さ
れている部分の断面積が小さいため機械的強度が弱く、
製造歩留りの低下を招く。また、媒体との対接面積が小
さいため、寿命等の信頼性においても問題がある。

（ハ）発明が解決しようとする課題 本発明は上記従来例の欠点に鑑み為されたものであり、
機械的強度を劣化させることなしに再生効率を低下させ
ず高周波領域での伝送系の損失を防止し且つ回路との共
振周波数を高くした磁気ヘッド及びその製造方法を提供
することを目的とするものである。

（ニ）課題を解決するための手段 本発明は一対の非磁性基板間に強磁性金属薄膜よりなる
主コア半体が被着形成されている第１、第２コア半体を
有し、該第１、第２コア半体の前記主コアの端面が露出
しているギャップ形成面同士を衝き合わせることにより
前記端面間に作動ギャップを構成すると共に前記第１、
第２コア半体間に巻線溝を形成した磁気ヘッドであって
、前記第１、第２コア半体のうち少なくとも一方のコア
半体は巻線巻回領域における前記一対の非磁性基板間の
前記主コア半体の前記作動ギャップと反対側の側部に、
前記一対の非磁性基板同士を直接接合するガラスを充填
したことを特徴とする。

更に、本発明の磁気ヘッドは、前記主コア半体が強磁性
金属薄膜と絶縁薄膜との積層薄膜であることを特徴とす
る。

また、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、非磁性基板の
一方の面に強磁性金属薄膜を有する薄膜を島状に被着す
ると共に他方の面にガラス層を形成する第１の工程と、
前記第１の工程により形成された基板を複数枚積み重ね
た後、前記ガラス層を溶融して前記複数の基板間の前記
薄膜未形成部分にガラスを充填し前記複数の基板を接合
してブロックを形成する第２の工程と、前記ブロックを
前記ガラス充填部で切断して前記薄膜の両側に前記ガラ
ス充填部を有するヘッドピースを形成する第３の工程と
、前記ヘッドピースに研磨加工を施して一方の端面がギ
ャップ形成面に露出し他方の端面が前記ガラスに覆われ
ている前記薄膜からなる主コア半体を形成する第４の工
程と、前記第４の工程で形成されたヘッドピースを一対
用意し、該一対のヘッドピースのギャップ形成面同士を
非磁性材料を介して接合し、前記主コア半体間に作動ギ
ャップを形成する第５の工程とを有することを特徴とす
る。

（ホ）作　用 上記構成に依れば、非磁性基板及び該非磁性基板間に充
填されたガラスにより機械的強度を劣化させることなく
巻線巻回領域における強磁性金属薄膜よりなる主コア半
体の断面積を小さくすることが出来る。

更に、前記主コア半体を強磁性金属薄膜と絶縁薄膜との
積層薄膜で形成することにより高周波領域での渦電流損
失を防止することが出来る。

また、上記製造方法に依れば、強磁性金属薄膜にヒビ、
剥離等を生じることなく、上記本発明の磁気ヘッドを形
成することが出来る。

（へ）実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説明
する。

第１図は本実施例の磁気ヘッドの外観を示す斜視図であ
る。

第１図中、（５ａ）（５ｂ）は第１、第２コア半体であ
り、該第１、第２コア半体（５ａ）（５ｂ）は夫々結晶
化ガラス、非磁性セラミック等よりなる非磁性基板（６
）（６）上の一部分にセンダスト等の強磁性金属薄膜（
７）と５ｉＯｚ等の絶縁薄膜（８）との積層薄膜（９）
よりなる主コア半体（１０）（１０）を被着形成し、該
主コア半体（１０）（１０）上に高融点ガラス（１１）
（１１）により結晶化ガラス、非磁性セラミック等より
なる非磁性基板（６’）（６’）を接合してなる。前記
第１コア半体（５ａ）のギャップ形成面上には巻線溝（
１２）及びガラス充填溝（１３）（１４）が形成されて
いる。前記第１、第２コア半体（５ａ）（５ｂ）のギャ
ップ形成面同士は前記巻線溝（１２）の上端及びガラス
充填溝（１３）（１４）全域に充填されている低融点ガ
ラス（１５）（１５）（１５）によりＳｉｎ、等よりな
るギャップ゛スペーサを介して接合固定されており、前
記主コア半体（１０）（１０）同士の接合部分に作動ギ
ャップ（１６）が形成されている。前記非磁性基板（６
）（６）（６’）（６’）間のうち主コア半体（１０）
（１０）以外の部分には高融点ガラス（１１）（１１）
が充填されており、媒体摺接面（１７）においては作動
ギャップ（１６）側に主コア半体（１０）（１０）が露
出し、その両側に高融点ガラス（１１）（１１）が露出
している。また、ギャップ形成面においては媒体摺接面
（１７）側に主コア半体（１０）（１０）が露出し、そ
の下方域に高融点ガラス（１１）（１１）が露出してい
る。また、前記主コア半体（１０）には前記巻線溝（１
２）が形成されており、該巻線溝（１２）によりフロン
トギャップ部とパックギャップ部とが規定され磁路が形
成される。（１８）（１８）は巻線である。

次に、上記磁気ヘッドの製造方法について説明する。

先ず、第２図に示すように結晶化ガラス、非磁性セラミ
ック等よりなる非磁性基板（６）の下面に例えば軟化点
が５４０℃であるＮａｘＯ−Ｂ！０ｌ−５ｉｎ、系の高
融点ガラスよりなる高融点ガラス層（ｌｌａ）を印刷塗
布法等により１０〜２０μｍ厚形成し、また、前記非磁
性基板（６）の上面に島状の積層薄膜（９）を被着して
積層基板（す）を形成する。前記積層薄膜（９）はセン
ダストどうよりなる５μｍ厚の強磁性金属薄膜（７）と
５ｉｎｓ等よりなる０、１１Ｉｍ厚の絶縁薄膜（８）と
をスパッタリング等により交互に被着してなるものであ
り、４層（但し、図面では３層）の強磁性金属薄膜（７
）を有している。尚、前記積層薄膜（９）の最上面は４
層目の絶縁薄膜である。前記積層薄膜（９）の全膜厚く
約２０．３ａｍ）は所望のトラック幅に略等しく、前記
積層薄膜（９）の上面の大きさは磁気ヘッド最終形状に
おける主コア半体（１０）（１０）の大きさ（例えば１
．ＯＸｏ、５ｍｆｆ１）よりも少許大きく、その大きさ
は例えば１．２Ｘ０．６ｍｍ程度である。また、隣り合
う積層薄膜（９）の間隔２、ｍの関係はｌ　＜　ｍであ
り、間隔２は後の切断工程で積層薄膜に影響を与えない
大きさに設定され、間隔ｍは磁気ヘッド完成体の大きさ
により決まる。前記積層薄膜（９）の前記非磁性基板（
６）への配置はスパッタリング時のマスキング、または
成膜後のエツチングにより行われる。

次に、第２図に示す積層基板（１９）を複数個用意し、
該複数の積層基板（１９）を第３図に示すように隣接す
る積層基板（１９）の高融点ガラス層（ｌｌａ）と積層
薄膜（９）とが当接するように所定の治具を用いて整列
積層させた後、この整列積層体を例えば７００℃の加熱
雰囲気中で上下方向に５０〜１０Ｑｇ／ｍｍ”で加圧し
て前記高融点ガラス層（ｌｌａ）を溶融し、前記積層基
板（１９）間の積層薄膜（９）未形成部分に高融点ガラ
ス（１１）を充填して前記複数の積層基板（１９）を接
合し積層ブロック（２０）を形成する。尚、前記積層ブ
ロック（２０）の最上部には高融点ガラス層の°みが形
成された非磁性基板（６”）が接合されており、前記積
層ブロック（２０）の最下部には積層薄膜（９）のみが
形成されている非磁性基板（６”）が接合されている。

次に、前記積層ブロック（２０）を積層薄膜（９）未形
成部分り高融点ガラス（１１）充填部に沿って（破線Ａ
−Ａ’　　Ｂ−Ｂ’　　Ｃ−Ｃ’に沿って）切断し、Ｂ
−Ｂ’切断面を積層薄膜（９）の側端面（９ａ）が露出
するまで研削研磨することにより第４図に示す積層ヘッ
ドピース（２１）を複数個形成する。

尚、この切断方法では積層薄膜（９）は直接切断されな
いので、前記積層薄膜（９）にはヒビ、剥離は発生しな
い。

次に、第４図に示すように一対の前記積層ヘッドピース
（２１）（２１）を用意した後、第５図に示すように一
方の積層ヘッドピース（２１）の積層薄膜（９）の側端
面（９ａ）（９ａ）が露出しているギャップ形成面（２
２）のうち前記積層薄膜（９）の側端面露出域に巻線溝
（１２）を形成すると共に高融点ガラス（１１）露出域
にガラス充填溝（１３）（１４）を形成し、前記巻線溝
に（１２）の上端及び前記ガラス充填溝（１３）（１４
）全域に例えば軟化点が３５０℃であるＰｂ０−Ｂ。

０ｌ−３ｉＯ＋系の低融点ガラス（１５）（１５）（１
５）を充填し、その後、前記一対の積層ヘッドピース（
２１）（２１）のギャップ形成面（２２）（２２）同士
を５ｌｏｔ薄膜等のギャップスペーサとなる非磁性薄膜
（図示せず）を介して衝き合わせ前記低融点ガラス（１
５）（１５）（１５）を溶融固化することにより前記積
層ヘッドピース（２１）（２１）を接合して積層ヘッド
ブロック（２３）を形成する。

そして、最後に前記積層ヘッドブロック（２３）を非磁
性基板（６）（６’）部分で切断してヘッドチップを形
成し、該ヘッドチップの媒体摺接面側の端面にＲ付研磨
を行うことにより第１図に示す本実施例の磁気ヘッドが
完成する。

上述のような磁気ヘッドでは、主コア半体（１０）（１
０）のうち巻線（１８）が巻回されている部分の断面積
がヘッド全体のうち巻線（１８）が巻回されている部分
よりも十分に小さいため、機械的強度を低下させること
なしに再生効率を低下させず、更に巻線（１８）巻回部
におけるインダクタンス値を小さくして高周波領域での
伝送系の損失を防止し且つ回路との共振周波数を高くす
ることが出来る。

第６図は上記実施例の主コア半体（１０）（１０）の位
置を示す図であるが、それ以外にも第７図まのたは第８
図に示す位置に主コア半体（１０）（１０）を形成して
も上記実施例と略同様の効果を得ることがでる。また、
非磁性基板（６）（６’）の巻線が巻回される部分の側
面に主コア半体（１０）にまで及ばない大きさの切欠き
を設けることにより巻線の巻回の作業効率を向上させる
ことが出来る。尚、前記切欠きの大きさは磁気ヘッドの
機械的強度に悪影響を与えない範囲である。

（ト）発明の効果 本発明に依れば、機械的強度を劣化させることなしに再
生効率の低下及び高周波領域での伝送系の損失を防止し
且つ回路との共振周波数を高くした磁気ヘッドを提供し
得る。

更に、本発明に依れば、高周波領域における渦電流損失
をも防止な磁気ヘッドを提供し得る。

また、本発明に依れば、主コア半体を構成する強磁性金
属薄膜にヒビ、剥離等を生じさせることなく上記本発明
の磁気ヘッドを形成することが出来る磁気ヘッドの製造
方法を提供し得る。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第８図は本発明に係り、第１図は磁気ヘッド
の外観を示す斜視図、第２図、第３図、第４図、及び第
５図は夫々磁気ヘッドの外観を示す斜視図、第６図は主
コア半体の位置を示す図、第７図及び第８図は他の実施
例の主コア半体の位置を示す図である。第９図は従来の
磁気ヘッドの外観を示す図である。 （５ａ）・・・第１コア半体、（５ｂ）・・・第２コア
半体、（６）（６）（６’）（６’）・・・非磁性基板
、（７）・・・強磁性金属薄膜、（８）・・・絶縁薄膜
、（９）・・・積層薄膜、（９ａ）・・・側端面、（１
０）・・・主コア半体、（１１）・・・高融点ガラス、
（ｌｌａ）・・・高融点ガラス層、（１２）・・・巻線
溝、（１６）・・・作動ギャップ、（１８）・・・巻線
、（１９）・・・積層基板、（銭）・・・積層ブロック
、（旦）・・・積層ヘッドピース、（２２）・・・ギャ
ップ形成面。 第１図 第３図 第２図 第６図 第７図 Ｏ 第９図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）一対の非磁性基板間に強磁性金属薄膜よりなる主
   コア半体が被着形成されている第１、第２コア半体を有
   し、該第１、第２コア半体の前記主コアの端面が露出し
   ているギャップ形成面同士を衝き合わせることにより前
   記端面間に作動ギャップを構成すると共に前記第１、第
   ２コア半体間に巻線溝を形成した磁気ヘッドであって、
   前記第１、第２コア半体のうち少なくとも一方のコア半
   体は巻線巻回領域における前記一対の非磁性基板間の前
   記主コア半体の前記作動ギャップと反対側の側部に、前
   記一対の非磁性基板同士を直接接合するガラスを充填し
   たことを特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）前記主コア半体が強磁性金属薄膜と絶縁薄膜との
   積層薄膜であることを特徴とする請求項（１）記載の磁
   気ヘッド。
3. （３）非磁性基板の一方の面に強磁性金属薄膜を有する
   薄膜を島状に被着すると共に他方の面にガラス層を形成
   する第１の工程と、前記第１の工程により形成された基
   板を複数枚積み重ねた後、前記ガラス層を溶融して前記
   複数の基板間の前記薄膜未形成部分にガラスを充填し前
   記複数の基板を接合してブロックを形成する第２の工程
   と、前記ブロックを前記ガラス充填部で切断して前記薄
   膜の両側に前記ガラス充填部を有するヘッドピースを形
   成する第３の工程と、前記ヘッドピースに研磨加工を施
   して一方の端面がギャップ形成面に露出し他方の端面が
   前記ガラスに覆われている前記薄膜からなる主コア半体
   を形成する第４の工程と、前記第４の工程で形成された
   ヘッドピースを一対用意し、該一対のヘッドピースのギ
   ャップ形成面同士を非磁性材料を介して接合し、前記主
   コア半体間に作動ギャップを形成する第５の工程とを有
   することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。