JPH02163392A - 電極の製造法 - Google Patents
電極の製造法Info
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- JPH02163392A JPH02163392A JP63314969A JP31496988A JPH02163392A JP H02163392 A JPH02163392 A JP H02163392A JP 63314969 A JP63314969 A JP 63314969A JP 31496988 A JP31496988 A JP 31496988A JP H02163392 A JPH02163392 A JP H02163392A
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- Japan
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- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は電極の製造法に関するものであり、さらに詳し
くは、硫Ｌ′、ｌを含むニッケルメッキ彼覆電暎の製造
法に関するものである。
くは、硫Ｌ′、ｌを含むニッケルメッキ彼覆電暎の製造
法に関するものである。
これらの電極は、種々の電気化学装置における電極とし
て適用可能なものであるが、特に工業用電解用電極、例
えば水電解用電極や食塩電解用電極としての用途に適し
、高耐久性を示すものであ［従来の技術］ 水電解や食塩゛ｉは解等の工業電解の分野において、’
ｉａ解電圧電圧減は重要な課題である。特に、新規なプ
ロセスとして注１」されている陽イオン交換膜食塩電解
技術に於ては、電解電圧の低減を目的とし、陰極の水素
過電圧を低下するため、６四の低水素過電圧陰極か開発
されている。
て適用可能なものであるが、特に工業用電解用電極、例
えば水電解用電極や食塩電解用電極としての用途に適し
、高耐久性を示すものであ［従来の技術］ 水電解や食塩゛ｉは解等の工業電解の分野において、’
ｉａ解電圧電圧減は重要な課題である。特に、新規なプ
ロセスとして注１」されている陽イオン交換膜食塩電解
技術に於ては、電解電圧の低減を目的とし、陰極の水素
過電圧を低下するため、６四の低水素過電圧陰極か開発
されている。
低水素過電圧陰極の製造法の一つとして、？ＩＳ極基）
ｔ」上に電気メツキ法により硫黄を含むニッケルを彼覆
した電極の製造法は既に公知であり、持分Ｉ＋／（２５
−２３０５号、不発明石°らの出願である特開昭５７−
１９３８８号、同５７−１１４６７８号などか提案され
ている。
ｔ」上に電気メツキ法により硫黄を含むニッケルを彼覆
した電極の製造法は既に公知であり、持分Ｉ＋／（２５
−２３０５号、不発明石°らの出願である特開昭５７−
１９３８８号、同５７−１１４６７８号などか提案され
ている。
これらの硫黄を含むニッケルメッキ；成田を−Ｕする電
照は、経済的な手法でｉｒ？られるものであり、既に実
用化されている例もある。しかしながら、これらの肢覆
電極では、電極基材として用いる金属話祠との関係で新
たな問題を生しることがある。
照は、経済的な手法でｉｒ？られるものであり、既に実
用化されている例もある。しかしながら、これらの肢覆
電極では、電極基材として用いる金属話祠との関係で新
たな問題を生しることがある。
すなわち、金属はカソード方向に分極されていれば、カ
ソード防食を受けることは良く知られた現象であり、金
属の示す水素過″ｒに圧は、その過電正分だけ、その金
属をカソード防食しているので、水素過゛電圧を低下さ
せる場合は電極乱祠として用いる金属基材の腐食を考慮
する必要がある。
ソード防食を受けることは良く知られた現象であり、金
属の示す水素過″ｒに圧は、その過電正分だけ、その金
属をカソード防食しているので、水素過゛電圧を低下さ
せる場合は電極乱祠として用いる金属基材の腐食を考慮
する必要がある。
例えば、鉄からなる試打上に上記のような低水素通゛ト
ヒ圧を示す波膜を被覆した場合、水素過電圧を低下させ
た割合だけ鉄の溶解、腐食という問題が生じ、電極や電
解槽の寿命の短縮及び製品１″ｌＪｆ性アルカリの品質
低下、陽イオン交換膜の性能劣化′、９深刻な問題を引
き起こすことになる。
ヒ圧を示す波膜を被覆した場合、水素過電圧を低下させ
た割合だけ鉄の溶解、腐食という問題が生じ、電極や電
解槽の寿命の短縮及び製品１″ｌＪｆ性アルカリの品質
低下、陽イオン交換膜の性能劣化′、９深刻な問題を引
き起こすことになる。
ところで、陽イオン交換膜食塩電解法において、現在実
施されている方法は大別すると二つに分れる。一つは従
来、水銀法等で使用されていた電解槽を廃棄して新しく
新設した新規なイオン交換膜電解法であり、今一つは従
来、水銀法、アスベスト隔膜法等で使用されていた電解
槽をそのまま有効利用している改良イオン交換膜電解法
である。
施されている方法は大別すると二つに分れる。一つは従
来、水銀法等で使用されていた電解槽を廃棄して新しく
新設した新規なイオン交換膜電解法であり、今一つは従
来、水銀法、アスベスト隔膜法等で使用されていた電解
槽をそのまま有効利用している改良イオン交換膜電解法
である。
改良イオン交換脱法の電解槽は、そのほとんどが鉄から
なる陰極及び陰極缶体が用いられている。
なる陰極及び陰極缶体が用いられている。
従って、改良イオン交換膜電解法においても、電解電圧
の低減が重要な課題であるとして、通常の（１（水素過
電圧電極を陰極として装着すると、陰極基祠、陰極室１
５体を構成する鉄が溶解、腐食してしまうという問題が
生じる。
の低減が重要な課題であるとして、通常の（１（水素過
電圧電極を陰極として装着すると、陰極基祠、陰極室１
５体を構成する鉄が溶解、腐食してしまうという問題が
生じる。
［本発明が解決しようとする課題］
本発明の１］的は、低水素過電圧特性を示し、優れた耐
久性を示す電極の製造法、特に鉄からなる電極基）」を
用いる場合においても適用することのできる製造法を提
ＩＪ（することにある。
久性を示す電極の製造法、特に鉄からなる電極基）」を
用いる場合においても適用することのできる製造法を提
ＩＪ（することにある。
［課題を解決するための手段］
本発明者は上記課題を解決するために、硫黄を含むニッ
ケルメッキ被覆電極に関し、特にメツキ条件と得られる
電極の電極特性に関し鋭意検討を重ねた結果、ｐ１１２
以下のニッケル塩及び可溶性含硫黄化合物を含むニッケ
ルメッキ浴を用いて、電極基村上に硫黄を含むニッケル
メッキを施すことにより、低水素過電圧を示し、かつ劣
化の少ない耐久性に優れた′電照が得られることを見出
し本発明を完成するに至った。
ケルメッキ被覆電極に関し、特にメツキ条件と得られる
電極の電極特性に関し鋭意検討を重ねた結果、ｐ１１２
以下のニッケル塩及び可溶性含硫黄化合物を含むニッケ
ルメッキ浴を用いて、電極基村上に硫黄を含むニッケル
メッキを施すことにより、低水素過電圧を示し、かつ劣
化の少ない耐久性に優れた′電照が得られることを見出
し本発明を完成するに至った。
以下、本発明の詳細な説明する。本発明において用いら
れる硫黄を含むニッケルメッキ浴としては、塩化ニッケ
ル、硫酸ニッケル、スルファミン酸ニッケルなどの可溶
性のニッケル塩と可溶性の硫し′１？化合物か含まれる
メツキ浴が挙げられ、可溶性１〆ε黄化合物としては、
チオシアン酸塩、チオ尿素又は硫黄の酸化数が５以下の
、亜硫酸、重亜硫酸、チオ硫酸、亜ジチオン酸のオキシ
酸塩などを例示することができる。史に、強固な優れた
耐久性を示す活性ニッケルメッキ波膜を得るために、ニ
ッケルメッキ浴にアンモニウムイオンを加えてもよい。
れる硫黄を含むニッケルメッキ浴としては、塩化ニッケ
ル、硫酸ニッケル、スルファミン酸ニッケルなどの可溶
性のニッケル塩と可溶性の硫し′１？化合物か含まれる
メツキ浴が挙げられ、可溶性１〆ε黄化合物としては、
チオシアン酸塩、チオ尿素又は硫黄の酸化数が５以下の
、亜硫酸、重亜硫酸、チオ硫酸、亜ジチオン酸のオキシ
酸塩などを例示することができる。史に、強固な優れた
耐久性を示す活性ニッケルメッキ波膜を得るために、ニ
ッケルメッキ浴にアンモニウムイオンを加えてもよい。
本発明の１“ヒ四の製造法においては、メツキ浴のｐｌ
ｌを２以下に維持することが必要であり、このことによ
り、１１）られる電ｉは低い水素過電圧を示し、かつ耐
久性の優れたものとなる。
ｌを２以下に維持することが必要であり、このことによ
り、１１）られる電ｉは低い水素過電圧を示し、かつ耐
久性の優れたものとなる。
例えば、鉄基材を’；ｕ Ｗ ）Ｉｓ祠として用い、本
発明の方法により得られた電極は、鉄基材に比較し、１
００〜１５０ｍｖ低い水素過電圧を示す。
発明の方法により得られた電極は、鉄基材に比較し、１
００〜１５０ｍｖ低い水素過電圧を示す。
ツ考として、本発明者がΔＩＩＩ定した鉄の溶出速度の
電位依存性を第１図に示す。測定に用いた系は、一般的
な食塩電解の条件として採用される３２％Ｎ ａ ＯＩ
ｆ水溶液中、９ ［１°Ｃの条件である。第１図に示す
とおり、上記の１１１１１定により鉄の溶出速度は明確
な電位依存性を示すことがわかった。更に、鉄の溶出速
度の電位依存性は−１，Ｏｖ付近に明確な変曲点をａし
、−１，ＯＶ付近より電位が低下すると、鉄の溶出速Ｊ
Ｕは著しく減少し、はとんど問題とならない量となるこ
とがイ〕かった。従って、−役の食塩電解の条件では、
鉄陰極の電位は−１，１５Ｖ程度であるために、鉄の溶
出は問題とならないが、更に１００〜１５０ｍｖの範囲
で電位を上Ｒさせ、過電圧を低下せしめても鉄の溶出は
抑制できることがわかった。
電位依存性を第１図に示す。測定に用いた系は、一般的
な食塩電解の条件として採用される３２％Ｎ ａ ＯＩ
ｆ水溶液中、９ ［１°Ｃの条件である。第１図に示す
とおり、上記の１１１１１定により鉄の溶出速度は明確
な電位依存性を示すことがわかった。更に、鉄の溶出速
度の電位依存性は−１，Ｏｖ付近に明確な変曲点をａし
、−１，ＯＶ付近より電位が低下すると、鉄の溶出速Ｊ
Ｕは著しく減少し、はとんど問題とならない量となるこ
とがイ〕かった。従って、−役の食塩電解の条件では、
鉄陰極の電位は−１，１５Ｖ程度であるために、鉄の溶
出は問題とならないが、更に１００〜１５０ｍｖの範囲
で電位を上Ｒさせ、過電圧を低下せしめても鉄の溶出は
抑制できることがわかった。
すなわち、上記の鉄基）イに比較し１００〜Ｌ５０ ｍ
Ｖ低い水素過電圧とは、基材を痛めないで、水素過電圧
が低下できる１直である。
Ｖ低い水素過電圧とは、基材を痛めないで、水素過電圧
が低下できる１直である。
一方、ｐｌ＋が２を越えるメツキ浴を用いて、基材上に
Ｋｔ ｍを含むニッケルメッキ浴を施してｉ＋ｉられる
′電極の過電圧はより低くなり、例えば電極基材として
鉄を用いた場合は鉄の溶解が無視できなくなる。
Ｋｔ ｍを含むニッケルメッキ浴を施してｉ＋ｉられる
′電極の過電圧はより低くなり、例えば電極基材として
鉄を用いた場合は鉄の溶解が無視できなくなる。
本発明において用いられるメツキ浴のｐｌ＋は種々の方
法で１周整しｊするが、例えばｐｌ＋が大きい場合、塩
酸、疏酸などの酸を適宜メツキ浴に添加することなどに
より調整できる。
法で１周整しｊするが、例えばｐｌ＋が大きい場合、塩
酸、疏酸などの酸を適宜メツキ浴に添加することなどに
より調整できる。
その他のメツキ条件は適宜選択することができるか、例
えばメツキ温度は室温から９０℃の温度範囲、メツキ時
の電流密度は０６１＾１ｄ１１２〜【０＾／ｄｌＩ２の
範囲を採用することができる。
えばメツキ温度は室温から９０℃の温度範囲、メツキ時
の電流密度は０６１＾１ｄ１１２〜【０＾／ｄｌＩ２の
範囲を採用することができる。
本発明に用いる電極基材としては、金属又は導電性を（
−＋−す樹脂又はセラミックスなど任意の導電性基祠が
用いられるが、本発明は特に鉄や鉄を主体とした合金を
基材として用いる場合にも−ａ効である。また、電極基
材の形状は、平板、メツシュ状、多孔状などいかなる形
状のものでもよいが、＋２Ｌ電流密度での気体発生電極
として用いる場合は、特にエキスバンドメタル、パンチ
ングメタル、金網状の形状のものなどが用いられる。
−＋−す樹脂又はセラミックスなど任意の導電性基祠が
用いられるが、本発明は特に鉄や鉄を主体とした合金を
基材として用いる場合にも−ａ効である。また、電極基
材の形状は、平板、メツシュ状、多孔状などいかなる形
状のものでもよいが、＋２Ｌ電流密度での気体発生電極
として用いる場合は、特にエキスバンドメタル、パンチ
ングメタル、金網状の形状のものなどが用いられる。
更に、本発明の電極の製造法においては、上記の電極基
材上にあらかじめ適当な前処理を施したものを用いるこ
とらできる。この適当な前処理とは、例えばステンレス
表面の不動態被膜の除去法として公知の塩酸酸性ニッケ
ルメッキ浴を用いるストライクニッケルメッキ処理や、
基材の１ｌｉｉＪ食性向上のために施す通常のニッケル
メッキ、あるいは、基祠及び硫黄を含むニッケルメッキ
の両名と優れた密着性を示す下地のニッケルメッキなど
が含まれる。
材上にあらかじめ適当な前処理を施したものを用いるこ
とらできる。この適当な前処理とは、例えばステンレス
表面の不動態被膜の除去法として公知の塩酸酸性ニッケ
ルメッキ浴を用いるストライクニッケルメッキ処理や、
基材の１ｌｉｉＪ食性向上のために施す通常のニッケル
メッキ、あるいは、基祠及び硫黄を含むニッケルメッキ
の両名と優れた密着性を示す下地のニッケルメッキなど
が含まれる。
［発明の効果］
以上述べたとおり、本発明の方法により得られた電極は
、種々の電気化学装置における電極として適用ｒｉ工能
なものであり、特に工業用電解用電極、例えば水電解用
電極や食塩電解用電極としての用途に通するものとなる
。また、陰極、陰極缶体などの陰極＋ｉ〜を成部材が鉄
又は鉄を主体としてなる合金を用いる場合に特に有効で
あり、鉄基祠を病めることなく、１００〜１．５０ｍｖ
低い水素過電圧を与え、これに１ｆい１００〜ｌ ５０
ｎ ｖ低い電解電圧を与えることかできるものとなる
。更に、この電極は高耐久性を示すものであり、その工
業的価値は極めて大きいものとなる。
、種々の電気化学装置における電極として適用ｒｉ工能
なものであり、特に工業用電解用電極、例えば水電解用
電極や食塩電解用電極としての用途に通するものとなる
。また、陰極、陰極缶体などの陰極＋ｉ〜を成部材が鉄
又は鉄を主体としてなる合金を用いる場合に特に有効で
あり、鉄基祠を病めることなく、１００〜１．５０ｍｖ
低い水素過電圧を与え、これに１ｆい１００〜ｌ ５０
ｎ ｖ低い電解電圧を与えることかできるものとなる
。更に、この電極は高耐久性を示すものであり、その工
業的価値は極めて大きいものとなる。
［実施例］
以下、本発明の実施例を述べるか、本発明はこれらにＩ
ＸＲ定されるものではない。
ＸＲ定されるものではない。
表１
硫黄を含むニッケルメッキ条件
くメツキ浴組成〉
・塩化ニッケル １．２ｍｏｌ／トチオ尿素
０．４−〇！／１・塩化アンモニウム
１．ｏｗｏｌ／Ｉくメッキ条１牛〉 ・電流密度 ＩＡ／（＋１１２ ・温度 ０
０℃−ｐＨ１，５−メツキ時間 ２１１ｒ 実施例１、比較例１〜２ 実施例１として４Ｘ７．５ｅｆｆｌの大きさで、゛小極
形状か６メツシユの鉄の金網状の電極基ｔＡ上に、表１
で示した条件を用いてニッケルメッキを行い゛、−ヒ極
を作製した。なお、建浴後のｐＨは約４．２であり、塩
酸を添加することによりｐｕを１．５まで低下させた。
０．４−〇！／１・塩化アンモニウム
１．ｏｗｏｌ／Ｉくメッキ条１牛〉 ・電流密度 ＩＡ／（＋１１２ ・温度 ０
０℃−ｐＨ１，５−メツキ時間 ２１１ｒ 実施例１、比較例１〜２ 実施例１として４Ｘ７．５ｅｆｆｌの大きさで、゛小極
形状か６メツシユの鉄の金網状の電極基ｔＡ上に、表１
で示した条件を用いてニッケルメッキを行い゛、−ヒ極
を作製した。なお、建浴後のｐＨは約４．２であり、塩
酸を添加することによりｐｕを１．５まで低下させた。
また、比較例１として、表１のメツキ浴を用い、メツキ
浴のｐｌ＋を低下させず、ｐｌＨ゜２とした以外は実施
例１と同一の条件でメツキした電極を得、比較例２とし
て全くニッケルメッキを施していない鉄製の金網状電極
を得た。これらの１は極を鉄性缶体に取り付け、陽イオ
ン交換膜を使用し、陽画として］１上に、Ｉ？ ｕ ０
２− ’ｌ’ Ｉ ０２彼膜をＵするＩ）ＳＡタイプの
エキスバンドメタルを用いて、表２の条件で食塩水を電
解した。
浴のｐｌ＋を低下させず、ｐｌＨ゜２とした以外は実施
例１と同一の条件でメツキした電極を得、比較例２とし
て全くニッケルメッキを施していない鉄製の金網状電極
を得た。これらの１は極を鉄性缶体に取り付け、陽イオ
ン交換膜を使用し、陽画として］１上に、Ｉ？ ｕ ０
２− ’ｌ’ Ｉ ０２彼膜をＵするＩ）ＳＡタイプの
エキスバンドメタルを用いて、表２の条件で食塩水を電
解した。
表２
表３
食塩電解条件
・陽髄室Ｎ＋ｔＣＩｉ農度 ２３０ｇ／ｌ・陰極室ｈ
ｌｔ０１１ｉＧ度 ３２ｖＬ％Ｎａ０１１・電流ｌ＋
ｉ度 ２ＬＩＡ／ｄｓ２ ・／ＡＡ度 ９０℃ ・陽、陰極間距離 ２Ｉ（
陽イオン交換膜は、陽極室側に押しつけて固シ↓ゴしｔ
二） 実施例１．比・咬例１〜２でｉすられた電極を陰極とし
て用いた電解槽の電解電圧、陰極の電位（Ｖ ｖｓ、５
ｌＩＩＥ）、鉄缶体の電（ｎ＜Ｖ ｖｓ、５ＩＩＩＥ）
、苛性ソーダ中の鉄濃度の値を表３に示す。
ｌｔ０１１ｉＧ度 ３２ｖＬ％Ｎａ０１１・電流ｌ＋
ｉ度 ２ＬＩＡ／ｄｓ２ ・／ＡＡ度 ９０℃ ・陽、陰極間距離 ２Ｉ（
陽イオン交換膜は、陽極室側に押しつけて固シ↓ゴしｔ
二） 実施例１．比・咬例１〜２でｉすられた電極を陰極とし
て用いた電解槽の電解電圧、陰極の電位（Ｖ ｖｓ、５
ｌＩＩＥ）、鉄缶体の電（ｎ＜Ｖ ｖｓ、５ＩＩＩＥ）
、苛性ソーダ中の鉄濃度の値を表３に示す。
表′うより、本発明の方法で得られた電極は、比較例２
で得た鉄陰極に比較して、１５０ｍｖ ’電解電圧を紙
上させ、また苛性ソーダ中の鉄濃度は、比較例２−（−
ｊＪた鉄陰極とほば同一のレベル内に抑制されたことが
イ）かる。一方、比較例１でｊ：＃た１ｌｉｌｆｆｌは
、表３に示すとおり極めて低い過電圧を示し、比較例２
で１１７た鉄陰極に比較し、２５０ｍＶ低い電、うｌ電
圧を与えたが、苛性ソーダ中の鉄濃度は、７．５ｐｐｍ
と高く、鉄の溶解、１１４食の問題が生じた。
で得た鉄陰極に比較して、１５０ｍｖ ’電解電圧を紙
上させ、また苛性ソーダ中の鉄濃度は、比較例２−（−
ｊＪた鉄陰極とほば同一のレベル内に抑制されたことが
イ）かる。一方、比較例１でｊ：＃た１ｌｉｌｆｆｌは
、表３に示すとおり極めて低い過電圧を示し、比較例２
で１１７た鉄陰極に比較し、２５０ｍＶ低い電、うｌ電
圧を与えたが、苛性ソーダ中の鉄濃度は、７．５ｐｐｍ
と高く、鉄の溶解、１１４食の問題が生じた。
実施例２．比較例３
１、．１ｔｎＸ １．３ｍ、高さ約０．８ｍの内容積を
もつ鉄からなる陰極室缶体を以下のような手法によりニ
ッケルメッキを施した。なお、本電解槽は、従来アスベ
スト隔膜法食塩電解槽をイオン交換脱法に転換した、い
わゆる改良型イオン交換膜食塩電解めであり、陰極形状
は実施例１と同様な金網状電極である。
もつ鉄からなる陰極室缶体を以下のような手法によりニ
ッケルメッキを施した。なお、本電解槽は、従来アスベ
スト隔膜法食塩電解槽をイオン交換脱法に転換した、い
わゆる改良型イオン交換膜食塩電解めであり、陰極形状
は実施例１と同様な金網状電極である。
まず、鉄製の陰極室内面を塩酸により酸処理を行い、水
洗後、表４に示した条件で下地ニッケルメッキを行い、
その後、表５に示した条件で硫ｆ１？を含むニッケルメ
ッキを行った。
洗後、表４に示した条件で下地ニッケルメッキを行い、
その後、表５に示した条件で硫ｆ１？を含むニッケルメ
ッキを行った。
人４
下地ニッケルメッキ条件
くメツキ浴、ｔ１１成〉
・塩化ニッケル １．２ｍｏｌ／ｌ・塩化アン
モニウム １．Ｏｍｏｌ／ｌくメツキ条件〉 パ屯流密度 ２Ａ／ｄ■ ・温度 ・ｐＨ４，０・メツキ時間 ４０℃ ０．５１１ｒ 表５ 硫黄を含むニッケルメッキ条件 くメソ午浴組成〉 ・塩化ニッケル ０．５講ＯＩ／トチオ尿素
０．３ｍｏｌ／１・塩化アンモニウム
１．ｏｒａｏｌ／１くメツキ条件〉 ” ｉａ （ＡＥ ’ｔ％ ｌｘ ２Ａ／ｄｍ
’ 温度 ４１１ ’Ｃ＋）Ｈ１，０・メツキ時
間 ２！！ｔ・このようにして’Ａ遺した陰極及び陰極
室を有する電解槽に、ＤＳＡ陽睡を取り付け、実施例１
と同一の条件で食塩電解を行った。なお、比・咬のため
全くニッケルメッキをしていない鉄の金網状陰極を用い
て同一の条件で電解を行った（比較例３）。
モニウム １．Ｏｍｏｌ／ｌくメツキ条件〉 パ屯流密度 ２Ａ／ｄ■ ・温度 ・ｐＨ４，０・メツキ時間 ４０℃ ０．５１１ｒ 表５ 硫黄を含むニッケルメッキ条件 くメソ午浴組成〉 ・塩化ニッケル ０．５講ＯＩ／トチオ尿素
０．３ｍｏｌ／１・塩化アンモニウム
１．ｏｒａｏｌ／１くメツキ条件〉 ” ｉａ （ＡＥ ’ｔ％ ｌｘ ２Ａ／ｄｍ
’ 温度 ４１１ ’Ｃ＋）Ｈ１，０・メツキ時
間 ２！！ｔ・このようにして’Ａ遺した陰極及び陰極
室を有する電解槽に、ＤＳＡ陽睡を取り付け、実施例１
と同一の条件で食塩電解を行った。なお、比・咬のため
全くニッケルメッキをしていない鉄の金網状陰極を用い
て同一の条件で電解を行った（比較例３）。
表６に゛−゛Ｉ解漕における電解電圧及び苛性ソーダ中
の鉄濃度の経時変化を示す。
の鉄濃度の経時変化を示す。
表６
極の電解電、圧は１年間はとんど一定であり、耐久性の
優れた電極であった。
優れた電極であった。
第１図は、３２％ Ｎ１ｔＯＩＩ水溶液中で９０℃の条
件での鉄の溶出速度の電位依７ｒ性を示す図である。
件での鉄の溶出速度の電位依７ｒ性を示す図である。
Claims (1)
- （１）ｐＨ２以下のニッケル塩及び可溶性含硫黄化合物
を含むニッケルメッキ浴を用いて、電極基Ｈ上に硫黄を
含むニッケルメッキを施すことを特徴とする電極の製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63314969A JPH02163392A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | 電極の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63314969A JPH02163392A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | 電極の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02163392A true JPH02163392A (ja) | 1990-06-22 |
Family
ID=18059846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63314969A Pending JPH02163392A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | 電極の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02163392A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010047804A (ja) * | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Murata Mfg Co Ltd | 多孔質体、および多孔質体の製造方法 |
| CN101781787A (zh) * | 2010-03-31 | 2010-07-21 | 金昌市宇恒镍网有限公司 | 特宽幅印花镍网的生产工艺及电镍槽设备 |
| CN102071441A (zh) * | 2010-12-20 | 2011-05-25 | 中南大学 | 一种制备含硫镍材料的方法 |
| WO2023237797A1 (es) | 2022-06-06 | 2023-12-14 | Hydrogen & Innovation, S.L. | Procedimiento de eliminación de compuestos nitrogenados |
-
1988
- 1988-12-15 JP JP63314969A patent/JPH02163392A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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