JPH02166713A - 固体電解コンデンサ製造用支持電解質組成物 - Google Patents
固体電解コンデンサ製造用支持電解質組成物Info
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- JPH02166713A JPH02166713A JP32243588A JP32243588A JPH02166713A JP H02166713 A JPH02166713 A JP H02166713A JP 32243588 A JP32243588 A JP 32243588A JP 32243588 A JP32243588 A JP 32243588A JP H02166713 A JPH02166713 A JP H02166713A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電解重合法により固体電解質層を形成する際
に用いられる固体電解コンデンサ製造用支持電解質組成
物に関する。
に用いられる固体電解コンデンサ製造用支持電解質組成
物に関する。
(従来の技術及び発明が解決しようとする問題点)従来
、固体電解コンデンサとして、アルミニウム、タンタル
等の金属を陽極体とし、その陽極体表面を酸化して形成
した酸化金属皮膜上にビロール、チオフェン、アニリン
等の重合体を電解重きにより、導電性高分子ポリマー膜
を形成したものが知られている。また、これらの電解重
合には。
、固体電解コンデンサとして、アルミニウム、タンタル
等の金属を陽極体とし、その陽極体表面を酸化して形成
した酸化金属皮膜上にビロール、チオフェン、アニリン
等の重合体を電解重きにより、導電性高分子ポリマー膜
を形成したものが知られている。また、これらの電解重
合には。
−a的にドーパントになり得る支持電解質(ClO2−
、B F4− 、P Fa−−p−トルエンスルホン酸
、ASF6等のデトラアルキルアンモニウ11塩)が使
用されているが、これらの塩は電気化学的に活性な電極
(Pt、Au、Cなど)についてのみ、使用できるもの
であって、A1□03のような電極を用いると溶解反応
電流が流れ、電極上での重合反応は進行しない。
、B F4− 、P Fa−−p−トルエンスルホン酸
、ASF6等のデトラアルキルアンモニウ11塩)が使
用されているが、これらの塩は電気化学的に活性な電極
(Pt、Au、Cなど)についてのみ、使用できるもの
であって、A1□03のような電極を用いると溶解反応
電流が流れ、電極上での重合反応は進行しない。
そこで、電解重合時の電解液中の支持塩として、シュウ
酸、アジピン酸の水系での電解、ボロジサリチル酸アン
モニウム/水系の電解が提案されたが、これら水系での
電解は■モノマーが溶媒に難溶性であり、■fヒ成性が
高いので重合反応を起こすのに必要な電流が流れないな
どの問題点がある。
酸、アジピン酸の水系での電解、ボロジサリチル酸アン
モニウム/水系の電解が提案されたが、これら水系での
電解は■モノマーが溶媒に難溶性であり、■fヒ成性が
高いので重合反応を起こすのに必要な電流が流れないな
どの問題点がある。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、かかる問題点を解決するためになされたもの
であり、弁金属酸化物皮膜層上に電解重合法によりポリ
マー膜からなる固体電解質層を形成する際に使用される
好適な固体電解コンデンサ製造用支持塩を提供するもの
であり、支持塩として下記一般式で表される■芳香族オ
キシ化合物の硼素錯体の4級アンモニウム塩、及び■、
■芳香族オキシカルボン酸の硼素錯体の4級アンモニウ
ム塩を提供する。
であり、弁金属酸化物皮膜層上に電解重合法によりポリ
マー膜からなる固体電解質層を形成する際に使用される
好適な固体電解コンデンサ製造用支持塩を提供するもの
であり、支持塩として下記一般式で表される■芳香族オ
キシ化合物の硼素錯体の4級アンモニウム塩、及び■、
■芳香族オキシカルボン酸の硼素錯体の4級アンモニウ
ム塩を提供する。
(ただし、以上においてR,R’は水素、アルキル基、
水酸基5アミノ基又はカルボキシル基で、かつR、+
R’は同−又は異なる置換基である。
水酸基5アミノ基又はカルボキシル基で、かつR、+
R’は同−又は異なる置換基である。
R”は水素、炭素数1〜5のアルキル基又はR”が共に
結きして環状アンモニラ11を形成するものである。) 上記本発明の4級アンモニウム塩からなる支持塩は、非
水系での重合が可能であり、化成性の主因である水の影
響を排除することができるため、重きがスムーズに進行
する利点がある。
結きして環状アンモニラ11を形成するものである。) 上記本発明の4級アンモニウム塩からなる支持塩は、非
水系での重合が可能であり、化成性の主因である水の影
響を排除することができるため、重きがスムーズに進行
する利点がある。
上記本発明において提供される支持塩の、アニオン側の
芳香族オキシカルボン酸の硼素錯体として好ましい例は
、ボロジカテコール、ボロジ−Nアルキルカテコール(
N=3又は4)、ポロジブロトカテク酸、ボロジ−N−
アミノサリチル酸(N=3.4又は5)、ポロジクレゾ
チン酸、ボロジー2−ヒドロキシ−N−フェニル安息香
酸(N=3.4.5又は6)、ボロジサリチル酸、ボロ
ン2−N−ジオキシ安息香酸(N=3.4.5又は6)
、ボロジオキシナフトエ酸等が挙げられる。
芳香族オキシカルボン酸の硼素錯体として好ましい例は
、ボロジカテコール、ボロジ−Nアルキルカテコール(
N=3又は4)、ポロジブロトカテク酸、ボロジ−N−
アミノサリチル酸(N=3.4又は5)、ポロジクレゾ
チン酸、ボロジー2−ヒドロキシ−N−フェニル安息香
酸(N=3.4.5又は6)、ボロジサリチル酸、ボロ
ン2−N−ジオキシ安息香酸(N=3.4.5又は6)
、ボロジオキシナフトエ酸等が挙げられる。
以上の構造式は第1表に例記する。
また、カナオン側の4級アンモニウムイオンとしては、
アルキルアンモニウム、例えばテトラメチルアンモニウ
ム、テトラエチルアンモニウム等のテトラアルキルアン
モニウム、N、N−ジメチルピペリジウム、N、N−ジ
メチルピペリジウム1、N−メチルルチジニウノ、等の
環状アルミニウム、が挙げられる。
アルキルアンモニウム、例えばテトラメチルアンモニウ
ム、テトラエチルアンモニウム等のテトラアルキルアン
モニウム、N、N−ジメチルピペリジウム、N、N−ジ
メチルピペリジウム1、N−メチルルチジニウノ、等の
環状アルミニウム、が挙げられる。
また、電解重合により形成される固体電解質のポリマー
膜を構成する電導性高分子1ヒ合物としては、ポリアセ
チレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリシアノア
セチレン、ポリインチアナフテン、ポリジアセチレン、
ポリアニリン、ポリフタロシアニン、ポリアズレン等非
ベンゼン系芳香族fヒ合物、及びこれらのポリマーを構
成するモノマーの誘導体の重合体等が挙げられる。
膜を構成する電導性高分子1ヒ合物としては、ポリアセ
チレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリシアノア
セチレン、ポリインチアナフテン、ポリジアセチレン、
ポリアニリン、ポリフタロシアニン、ポリアズレン等非
ベンゼン系芳香族fヒ合物、及びこれらのポリマーを構
成するモノマーの誘導体の重合体等が挙げられる。
第
表
(実施例)
以下に、実施例にて本発明を具体的に説明する。
なお、以下のいずれの実施例並びに比較例についても、
3 c rn X 5 c m、厚さ1100uの高純
度アルミニウム箔にエツチング処理を行い、このアルミ
ニウムを35Vの電圧でリン酸溶液中で陽極酸化を行っ
て表面に酸化アルミニウムの誘電体層を形成した化成箔
を、陽極として共通に用いた。
3 c rn X 5 c m、厚さ1100uの高純
度アルミニウム箔にエツチング処理を行い、このアルミ
ニウムを35Vの電圧でリン酸溶液中で陽極酸化を行っ
て表面に酸化アルミニウムの誘電体層を形成した化成箔
を、陽極として共通に用いた。
陰陽には、容器を使用して3〜15m^/cM2の電流
密度で1時間電解重きを行った。次いで洗浄、乾燥1炎
、カーボンペーストと銀ペーストで陰極リードを引き出
し、樹脂封止した。
密度で1時間電解重きを行った。次いで洗浄、乾燥1炎
、カーボンペーストと銀ペーストで陰極リードを引き出
し、樹脂封止した。
実施例1・
0 、 1 mo1/1ボロジサリチル酸N、N−ジメ
チルピペリジウム塩、 0 、05 +aol/ 1ピ
ロールのアセトニトリル溶液中で10mA、/cm2の
電流密度で1時間電解重合した。
チルピペリジウム塩、 0 、05 +aol/ 1ピ
ロールのアセトニトリル溶液中で10mA、/cm2の
電流密度で1時間電解重合した。
実施r91I2:
0.05mol/eボロジレゾルシル酸テトラrl −
0−/しのジメチlレボルノ、アルデヒドl容、rIj
、中て′1゜III^/’CIO”の電流密度で1時間
電解重合した。
0−/しのジメチlレボルノ、アルデヒドl容、rIj
、中て′1゜III^/’CIO”の電流密度で1時間
電解重合した。
実施例3:
0.1mol//ポロジクレゾチン酸N、N−ジメチル
ピロリジウム塩、0−05mol/lアズレンのテトラ
ヒドロフラン溶液中で7m^/can2の電流密度で1
時間電解重合した。
ピロリジウム塩、0−05mol/lアズレンのテトラ
ヒドロフラン溶液中で7m^/can2の電流密度で1
時間電解重合した。
比較例1・
0.1n+ol/1シユウ酸、0.5+nol/eビロ
ールの水溶液中で電解したが、重きに必要な電流が流れ
なく、膜が成長しなかった。
ールの水溶液中で電解したが、重きに必要な電流が流れ
なく、膜が成長しなかった。
以上の結渠を下記第2表、第3表に示す。なお、第2艮
は初期の値、第3表は110”C1IOV、2000時
間の井命試験実施後の値である。
は初期の値、第3表は110”C1IOV、2000時
間の井命試験実施後の値である。
第2表
ブチルアンモニウム、0.05mol/&3メチルビ第
表
第2表、第3表からみて、本発明実施例により得られる
固体電解コンデンサは熱安定性及び耐久性のずぐれたも
のであることが判る。
固体電解コンデンサは熱安定性及び耐久性のずぐれたも
のであることが判る。
(発明の効果)
以上詳細に説明した通り、本発明の電解重合用支持塩を
使用すれば、有機溶媒への溶解度が高いので電解重合反
応が進行し易く、よって得られる固体電解コンデンサは
優れた熱安定性と電気的特性を有するものとなる。
使用すれば、有機溶媒への溶解度が高いので電解重合反
応が進行し易く、よって得られる固体電解コンデンサは
優れた熱安定性と電気的特性を有するものとなる。
Claims (3)
- (1)弁金属酸化物皮膜層上に電解重合法により固体電
解質層を形成する際に用いられる下記一般式で表される
芳香族オキシ化合物の硼素錯体の4級アンモニウム塩か
らなる固体電解コンデンサ製造用支持電解質組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、R,R’は水素、アルキル基、水酸基、アミ
ノ基又はカルボキシル基で、かつR,R’は同一又は異
なる置換基である。R”は水素、炭素数1〜5のアルキ
ル基又はR”が共に結合して環状アンモニウムを形成す
るものである。) - (2)弁金属酸化物皮膜層上に電解重合法により固体電
解質層を形成する際に用いられる下記一般式で表される
芳香族オキシカルボン酸の硼素錯体の4級アンモニウム
塩からなる固体電解コンデンサ製造用支持電解質組成物
。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、R,R’は水素、アルキル基、水酸基、アミ
ノ基又はカルボキシル基で、かつR,R’は同一又は異
なる置換基である。R”は水素、炭素数1〜5のアルキ
ル基又はR”が共に結合して環状アンモニウムを形成す
るものである。) - (3)弁金属酸化物皮膜層上に電解重合法により固体電
解質層を形成する際に用いられる下記一般式で表される
芳香族オキシカルボン酸の硼素錯体の4級アンモニウム
塩からなる固体電解コンデンサ製造用支持電解質組成物
。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、R,R’は水素、アルキル基、水酸基、アミ
ノ基又はカルボキシル基で、かつR,R’は同一又は異
なる置換基である。R”は水素、炭素数1〜5のアルキ
ル基又はR”が共に結合して環状アンモニウムを形成す
るものである。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63322435A JP3076872B2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 固体電解コンデンサ製造用支持電解質組成物 |
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|---|---|---|---|
| JP63322435A JP3076872B2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 固体電解コンデンサ製造用支持電解質組成物 |
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ID=18143640
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63322435A Expired - Fee Related JP3076872B2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 固体電解コンデンサ製造用支持電解質組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3076872B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999052368A1 (en) * | 1998-04-10 | 1999-10-21 | Basf Aktiengesellschaft | Plant growth regulator compositions |
-
1988
- 1988-12-21 JP JP63322435A patent/JP3076872B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999052368A1 (en) * | 1998-04-10 | 1999-10-21 | Basf Aktiengesellschaft | Plant growth regulator compositions |
| US6224734B1 (en) | 1998-04-10 | 2001-05-01 | Basf Aktiengesellschaft | Plant growth regulator compositions |
| US6248694B1 (en) | 1998-04-10 | 2001-06-19 | Basf Aktiengesellschaft | Plant growth regulator compositions |
| US6288009B1 (en) | 1998-04-10 | 2001-09-11 | Basf Corporation | Plant growth regulator compositions |
| AU751354B2 (en) * | 1998-04-10 | 2002-08-15 | Basf Aktiengesellschaft | Plant growth regulator compositions |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3076872B2 (ja) | 2000-08-14 |
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