JPH02169032A - 窒素酸化物の選択的還元法に使用できる新規な触媒 - Google Patents
窒素酸化物の選択的還元法に使用できる新規な触媒Info
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- JPH02169032A JPH02169032A JP1152453A JP15245389A JPH02169032A JP H02169032 A JPH02169032 A JP H02169032A JP 1152453 A JP1152453 A JP 1152453A JP 15245389 A JP15245389 A JP 15245389A JP H02169032 A JPH02169032 A JP H02169032A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、新規な触媒、この触媒の製造法並びにこの触
媒を使用してガス流れ中に含まれる窒素酸化物を除去す
る方法に関する。
媒を使用してガス流れ中に含まれる窒素酸化物を除去す
る方法に関する。
[従来の技術とその問題点]
フランス特許出願筒79.05598号によれば、ガス
流れ中に含まれる窒素酸化物No及びNO□(NOo)
をアンモニアにより窒素に還元せしめる触媒が知られて
いる。
流れ中に含まれる窒素酸化物No及びNO□(NOo)
をアンモニアにより窒素に還元せしめる触媒が知られて
いる。
この触媒は、多孔質アルミナ担体と触媒活性相からなっ
ていて、酸素によるアンモニアの酸化によって硝酸を合
成するときに生成する残留窒素酸化物の還元にとって特
に有効であることが示されている。また、この触媒は、
190〜250℃程度の比較的低い温度で使用できると
いう利点を有し、そのために処理すべきガス流れを再加
熱しないという点でエネルギーの節約となる。しかしな
がら、このような触媒は、さらに硫黄酸化物を低含有量
で含むガス流れ中に含まれる窒素酸化物をアンモニアで
接触還元するのに使用したときにいくつかの不都合を有
することが明らかにされた。
ていて、酸素によるアンモニアの酸化によって硝酸を合
成するときに生成する残留窒素酸化物の還元にとって特
に有効であることが示されている。また、この触媒は、
190〜250℃程度の比較的低い温度で使用できると
いう利点を有し、そのために処理すべきガス流れを再加
熱しないという点でエネルギーの節約となる。しかしな
がら、このような触媒は、さらに硫黄酸化物を低含有量
で含むガス流れ中に含まれる窒素酸化物をアンモニアで
接触還元するのに使用したときにいくつかの不都合を有
することが明らかにされた。
事実、ガス流れ中の硫黄酸化物S02及びSO,(SO
う)の存在が触媒の迅速な失活を引起すことが認められ
た。
う)の存在が触媒の迅速な失活を引起すことが認められ
た。
この失活は、硫黄酸化物とガス流れ中に存在する水と窒
素酸化物の接触還元に必須のアンモニアとの間の反応に
よって重硫酸アンモニウムNH4+(SO,及び硫酸ア
ンモニウム(N144)2SO−が生成するためであろ
う。
素酸化物の接触還元に必須のアンモニアとの間の反応に
よって重硫酸アンモニウムNH4+(SO,及び硫酸ア
ンモニウム(N144)2SO−が生成するためであろ
う。
事実、重硫酸アンモニウムは触媒の細孔上に沈着し、そ
れによりその容積と表面積を減少させてしまう。さらに
、重硫酸アンモニウムはアルミナと反応して化合物NH
4A1 (SO−)z及びAiz(so4)xを形成し
、これらも触媒を失活させることが認められた。
れによりその容積と表面積を減少させてしまう。さらに
、重硫酸アンモニウムはアルミナと反応して化合物NH
4A1 (SO−)z及びAiz(so4)xを形成し
、これらも触媒を失活させることが認められた。
窒素酸化物NOxと少量の硫黄酸化物SO,を含有する
この種のガス流れは、特に、排気ガス、燃焼ボイラーや
他の固定ユニットの廃ガス、例えば火力発電所から生じ
かつ既に実質的に脱硫されている廃ガス中にしばしば見
られる。
この種のガス流れは、特に、排気ガス、燃焼ボイラーや
他の固定ユニットの廃ガス、例えば火力発電所から生じ
かつ既に実質的に脱硫されている廃ガス中にしばしば見
られる。
また、前記の条件と近似した条件でNOxを接触還元で
きる触媒が既に提案されている。
きる触媒が既に提案されている。
二酸化チタン担体上に活性相が担持されている触媒がそ
うである。
うである。
しかしながら、これらの触媒は、300〜400℃程度
の温度で最適の活性を示す。さらに、これらは、二酸化
チタンがアルミナよりも高価であるという点で比較的経
費がかかる。これらの担体の別の不都合は、それらの機
械的性質が低いことである。
の温度で最適の活性を示す。さらに、これらは、二酸化
チタンがアルミナよりも高価であるという点で比較的経
費がかかる。これらの担体の別の不都合は、それらの機
械的性質が低いことである。
[発明が解決しようとする課題j
したがって、本発明の目的は、ガス流れ中に少量でSO
lが存在するにもかかわらず、そのガス流れ中に含まれ
る窒素酸化物をアンモニアにより選択的に還元するのを
特に可能ならしめる新規な触媒を提供することである。
lが存在するにもかかわらず、そのガス流れ中に含まれ
る窒素酸化物をアンモニアにより選択的に還元するのを
特に可能ならしめる新規な触媒を提供することである。
本発明の他の目的は、200〜400℃の温度(この温
度は有利には200〜300℃である)で窒素酸化物を
選択的に還元するのを可能ならしめる触媒を提供するこ
とである。
度は有利には200〜300℃である)で窒素酸化物を
選択的に還元するのを可能ならしめる触媒を提供するこ
とである。
本発明の第三の目的は、このような触媒の製造法を提供
するこ“とである。
するこ“とである。
[課題を解決するための手段]
このために、本発明は、多孔質アルミナを基体とした担
体と少なくとも1種の触媒活性相よりなる触媒において
、該担体が、少なくとも1種のスピネル型化合物の表面
層を含むことを特徴とする触媒を提案する。
体と少なくとも1種の触媒活性相よりなる触媒において
、該担体が、少なくとも1種のスピネル型化合物の表面
層を含むことを特徴とする触媒を提案する。
本発明に従うスピネル型化合物は、次の一般式%式%
(ここで、Mlはマグネシウム、亜鉛、ニッケル又はコ
バルトよりなる詳から選ばれる少なくとも1fIの2価
金属元素を表わす) を有する。
バルトよりなる詳から選ばれる少なくとも1fIの2価
金属元素を表わす) を有する。
本発明の好ましい特徴によれば、2価金属元素はニッケ
ル又は亜鉛である。
ル又は亜鉛である。
触媒の2価金属元素M’の含有量は、その酸化物M1O
として表わして、触媒の全重量に対して2〜45重量%
、好ましくは5〜30重量%である。
として表わして、触媒の全重量に対して2〜45重量%
、好ましくは5〜30重量%である。
本発明においては、1100n以上の直径の細孔の容積
が25co+’/100g以上、特に25〜70cm3
7100gであり、30nm以上の直径の細孔の容積が
40 cm37100g以上、特に43〜70 cm3
/100 gでありかつ全細孔容積が80〜120 a
m’/ l OOgであるアルミナを基体とした触媒担
体を使用するのが好ましい。
が25co+’/100g以上、特に25〜70cm3
7100gであり、30nm以上の直径の細孔の容積が
40 cm37100g以上、特に43〜70 cm3
/100 gでありかつ全細孔容積が80〜120 a
m’/ l OOgであるアルミナを基体とした触媒担
体を使用するのが好ましい。
アルミナを基体とした上記担体の表面積は好ましくは多
くとも160m2/gであって、一般には90〜l 5
0 ra”/gである。
くとも160m2/gであって、一般には90〜l 5
0 ra”/gである。
使用することができるアルミナは、通常γ、θ、δ及び
α結晶形を示し、一般にγ、θ及びδ形が優勢であるが
、α形は痕跡状態で存在する。
α結晶形を示し、一般にγ、θ及びδ形が優勢であるが
、α形は痕跡状態で存在する。
本発明に従う触媒活性相は、バナジウム、タングステン
、モリブデン、鉄又はコバルトの酸化物のような少なく
とも1種の金属酸化物よりなっていてよい。
、モリブデン、鉄又はコバルトの酸化物のような少なく
とも1種の金属酸化物よりなっていてよい。
触媒の活性相の含有量は、触媒の全重量に対して0.5
〜50重量%、好ましくは2〜30重量%であってよい
。
〜50重量%、好ましくは2〜30重量%であってよい
。
有利には、触媒活性相は一方では酸化バナジウム■20
.を、他方では酸化モリブデンM o Ox又は酸化タ
ングステンW Oxを包含できることが認められた。、
1〜0,1のV2OとMoo、又はWO2との間の重量
比が好ましい。
.を、他方では酸化モリブデンM o Ox又は酸化タ
ングステンW Oxを包含できることが認められた。、
1〜0,1のV2OとMoo、又はWO2との間の重量
比が好ましい。
また、本発明は、前記したような触媒の製造法を目的と
する。
する。
この製造法は、第一工程において、例えば小球状又は顆
粒状の多孔質アルミナ担体を少な(とも1種の2価金属
元素M’化合物の溶液で含浸することからなる。その際
、該化合物の溶液中の濃度は2価金属元素M1の最終含
有量が前記の範囲にあるような濃度とする。
粒状の多孔質アルミナ担体を少な(とも1種の2価金属
元素M’化合物の溶液で含浸することからなる。その際
、該化合物の溶液中の濃度は2価金属元素M1の最終含
有量が前記の範囲にあるような濃度とする。
このようにし処理されたアルミナ担体は、第二工程にお
いて、約半時間から6時間100〜200℃の温度で乾
燥される。次いで、一般に空気中で700〜1.000
℃程度、好ましくは750〜850℃程度の温度で約1
〜6時間行われる焼成操作が実施される。
いて、約半時間から6時間100〜200℃の温度で乾
燥される。次いで、一般に空気中で700〜1.000
℃程度、好ましくは750〜850℃程度の温度で約1
〜6時間行われる焼成操作が実施される。
かくして、この処理の後、アルミナを基体とした担体の
表面上に式M’ Al2O4のスピネル型化合物の層が
形成されることを認めることができる。
表面上に式M’ Al2O4のスピネル型化合物の層が
形成されることを認めることができる。
前記の含浸、乾燥及び焼成操作は1回又は数回繰り返す
ことができる。
ことができる。
含浸用溶液は、一般に、ニッケル、マグネシウム、亜鉛
及び(又は)コバルトの塩を含有できる水溶液である。
及び(又は)コバルトの塩を含有できる水溶液である。
これらの塩は、例えばこれらの金属の硝酸塩又は酢酸塩
であってよい。
であってよい。
本発明に従う第三工程では、スピネル型化合物の層で覆
われたアルミナ担体に、触媒活性相を構成する金属酸化
物を与える少なくとも】種の金属化合物の溶液が含浸さ
れる。その際に、該金属化合物の溶液中の濃度は、金属
酸化物の最終含有量が前記した範囲内にあるような濃度
とする。
われたアルミナ担体に、触媒活性相を構成する金属酸化
物を与える少なくとも】種の金属化合物の溶液が含浸さ
れる。その際に、該金属化合物の溶液中の濃度は、金属
酸化物の最終含有量が前記した範囲内にあるような濃度
とする。
第四工程において、触媒は100〜200℃の温度に約
半時間から6時間乾燥され、次いで一般に空気中で40
0〜600℃、好ましくは450〜550℃で1〜3時
間焼成される。
半時間から6時間乾燥され、次いで一般に空気中で40
0〜600℃、好ましくは450〜550℃で1〜3時
間焼成される。
含浸用溶液は、一般に、バナジウム、モリブデン、タン
グステン、鉄及び(又は)コバルトの酸化物の先駆体金
属塩を含有できる水溶液である。
グステン、鉄及び(又は)コバルトの酸化物の先駆体金
属塩を含有できる水溶液である。
塩としては、ジモリブデン酸アンモニウム、ヘプタモリ
ブデン酸アンモニウム、メタタングステン酸アンモニウ
ムのようなアンモニウム塩があげられる。
ブデン酸アンモニウム、メタタングステン酸アンモニウ
ムのようなアンモニウム塩があげられる。
バナジウム化合物を含有する含浸用溶液としては、五酸
化バナジウムをしゅう酸溶液に溶解することによって得
られる溶液を使用することができる。
化バナジウムをしゅう酸溶液に溶解することによって得
られる溶液を使用することができる。
第−及び第三工程の含浸操作は、1回又は数回繰り返す
ことができ、そして各回ごとに前記の第二及び第四工程
に記載のような乾燥及び焼成操作が続けられる。
ことができ、そして各回ごとに前記の第二及び第四工程
に記載のような乾燥及び焼成操作が続けられる。
また、本発明は、前記のような触媒を使用して窒素酸化
物をアンモニアにより還元する方法に関する。
物をアンモニアにより還元する方法に関する。
窒素酸化物を含有するガス流れからこの窒素酸化物を除
去する方法に本発明の触媒を使用するためには、一般に
触媒は適当な反応器に固定床又は流動床として装入され
る。
去する方法に本発明の触媒を使用するためには、一般に
触媒は適当な反応器に固定床又は流動床として装入され
る。
典型的には、本発明に従って浄化すべきガス流れは、化
学工程又は固定された燃焼ユニットからの廃ガス流れで
あって、他にもあるが、下記のも窒素。
学工程又は固定された燃焼ユニットからの廃ガス流れで
あって、他にもあるが、下記のも窒素。
通常10.000〜100.000vpmの含有量の酸
素、一般番こ 100〜10.000vpmの含有量の
窒素酸化物NO8 通常1〜2.000vpmの含有量の硫黄酸化物SO,
、及び 般に loo〜200. OOOvpmの含有量の水を
含有するものである。
素、一般番こ 100〜10.000vpmの含有量の
窒素酸化物NO8 通常1〜2.000vpmの含有量の硫黄酸化物SO,
、及び 般に loo〜200. OOOvpmの含有量の水を
含有するものである。
通常、本発明に従って実施されるN01の選択的還元は
、所期の転化率及び被処理ガスのN08含有量に応じて
11以下、好ましくは0.8〜1のNH,/NO8モル
比を要求する。
、所期の転化率及び被処理ガスのN08含有量に応じて
11以下、好ましくは0.8〜1のNH,/NO8モル
比を要求する。
被処理ガス流れの加圧はNO9からN2への転化にとっ
て好ましい。
て好ましい。
加圧は1〜20バール、好ましくは1〜12バールであ
ってよい。
ってよい。
本発明の方法を実施するのに使用される温度は被処理ガ
スの空時速度に応じて変るが、通常200〜4. O0
℃、有利には200〜300℃である。
スの空時速度に応じて変るが、通常200〜4. O0
℃、有利には200〜300℃である。
被処理ガスの空時速度(VVH)は触媒の温度の関数で
あって、一定の結果に対しては温度が高いほど大きなV
VHが可能である。
あって、一定の結果に対しては温度が高いほど大きなV
VHが可能である。
通常、上記の温度範囲ではVVHは4. OOO〜25
.0.000hr−’、好ましくは7゜000〜40.
000hr−’である。
.0.000hr−’、好ましくは7゜000〜40.
000hr−’である。
〔実施例J
本発明は、下記の実施例を参照することにより一層理解
されよう。
されよう。
医ユ
本発明に従う触媒Aの製造
触媒Aを製造するため、
比表面積が120m2/gであり、
全細孔容積が98cm”/100gであり、100nm
以上の直径の細孔の細孔容積が30cm”/100gで
あり、 30nm以上の直径の細孔の細孔容積が43CP/ 1
00 gである 直径3mmの小球状のアルミナを使用する。
以上の直径の細孔の細孔容積が30cm”/100gで
あり、 30nm以上の直径の細孔の細孔容積が43CP/ 1
00 gである 直径3mmの小球状のアルミナを使用する。
100gのこの担体に98mρの硝酸ニッケル水溶液を
含浸させる。
含浸させる。
含浸後、得られた生成物を乾燥機で120℃で4時間乾
燥してから空気中で750℃で4時間焼成する。
燥してから空気中で750℃で4時間焼成する。
このように得られた生成物のニッケル含有量は、その酸
化物として表わして20重量%になった。
化物として表わして20重量%になった。
次いで、この生成物にメタタングステン酸アンモニウム
としゆう酸バナジルの水溶液を含浸する。
としゆう酸バナジルの水溶液を含浸する。
得られた生成物を乾燥機で120℃で4時間乾燥し、次
いで、空気中で500℃で2時間焼成する。
いで、空気中で500℃で2時間焼成する。
得られた触媒Aの組成を下記の表Iに示す。
皿ユ
本発明に従う触媒Bの製造
例1に記載のようなアルミナ担体100gに98mAの
硝酸亜鉛水溶液を含浸させる。
硝酸亜鉛水溶液を含浸させる。
含浸させた後、得られた生成物を例1と同じ条件で乾燥
し、これを焼成する。このようにして得られた生成物の
亜鉛含有量は、酸化物として表わして20重量%になっ
た。
し、これを焼成する。このようにして得られた生成物の
亜鉛含有量は、酸化物として表わして20重量%になっ
た。
次いで、この生成物を同じ硝酸亜鉛水溶液により2回目
の含浸を行う。
の含浸を行う。
次いで、これを例1と同じ条件で乾燥し、再び焼成する
。
。
このようにして得られた生成物の亜鉛含有量は酸化物と
して表わして40重1%になった。
して表わして40重1%になった。
次いでこの生成物をメタタングステン酸アンモニウムと
じゅう酸バナジルの水溶液により含浸させ、次いで得ら
れた生成物を乾燥機で120℃で4時間乾燥してから空
気中で500℃で2時間焼成する。
じゅう酸バナジルの水溶液により含浸させ、次いで得ら
れた生成物を乾燥機で120℃で4時間乾燥してから空
気中で500℃で2時間焼成する。
得られた触媒Bの組成を下記の表1に示す。
し
本発明を代表しない触媒Cの製造
触媒Cを製造するため例1で使用したものと同じアルミ
ナを使用する。
ナを使用する。
100gのこの担体をメタタンゲスチク酸アンモニウム
とじゆう酸バナジルの水ff1M98mj2により含浸
させる。
とじゆう酸バナジルの水ff1M98mj2により含浸
させる。
次いで、得られた生成物をl2ffltjlで120°
Cで4時間乾燥してから空気中で500℃で2時間焼成
する。
Cで4時間乾燥してから空気中で500℃で2時間焼成
する。
得られた触媒Cの組成を下記の表Iに示す。
例」−
本発明を代表しない触媒りの製造
触媒りを製造するため、
比表面積が250 m2/gであり、
全細孔容積が55cm3/100gであり、1、00
n m以上の直径の細孔の細孔容積が13 cm3/g
であり、 30nm以上の直径の細孔の細孔容積が16 am”/
gである 直径3mrnの小球状のシリカを使用する。
n m以上の直径の細孔の細孔容積が13 cm3/g
であり、 30nm以上の直径の細孔の細孔容積が16 am”/
gである 直径3mrnの小球状のシリカを使用する。
100gのこの担体に98mβの硝酸ニッケル水溶液を
含浸させる。
含浸させる。
含浸させた後、得られた生成物を※乞燥機で120℃で
4時間乾燥してから空気中で750℃で4時間焼成する
。
4時間乾燥してから空気中で750℃で4時間焼成する
。
このようにして得られた生成物のニッケル含有量は酸化
物として表わして20重量%になった。
物として表わして20重量%になった。
次いでこの生成物にメタタングステン酸アンモニウムと
じゆう酸バナジルの水溶液を含浸させ、次いで得られた
生成物を乾燥機で120℃で4時間乾燥してから空気中
で500℃で2時間焼成する。
じゆう酸バナジルの水溶液を含浸させ、次いで得られた
生成物を乾燥機で120℃で4時間乾燥してから空気中
で500℃で2時間焼成する。
得られた触媒りの組成を下記の表■に示す。
医玉
触媒A、B、C及びDの評価
前記の例にその製造を記載した触媒について、圧力及び
流量を調節したNo、No、、So、。
流量を調節したNo、No、、So、。
NH,、HI O及びN2源からなる合成物におけるN
oオ除去効率及びSOxの存在下での失活抵抗性を決定
するため試験する。ガス混合物から生じたガス流れを、
25cm’容積の触媒を収納しかつ温度調節した室に入
れた反応器に供粕し、次いで化学発光によるNoう測定
装置に通じる。
oオ除去効率及びSOxの存在下での失活抵抗性を決定
するため試験する。ガス混合物から生じたガス流れを、
25cm’容積の触媒を収納しかつ温度調節した室に入
れた反応器に供粕し、次いで化学発光によるNoう測定
装置に通じる。
NOoの除去効率は次式により与えられる。
(ここで、NOx人口=反応器の入口でのNOxa度、
NOx出口:反応器の出口でのNOつ濃度)1500v
pmのNO□ !、50vpmのSOう 1400vpmのNH3 3%の02 3%の8.0 残りのN2 を含有するガス混合物を使用し、8. OOOtar−
’の空時速度で、触媒床を280℃の温度にもたらし、
そして被処理ガスの圧力を1バール(絶対)として得ら
れた結果を表■に示す。
NOx出口:反応器の出口でのNOつ濃度)1500v
pmのNO□ !、50vpmのSOう 1400vpmのNH3 3%の02 3%の8.0 残りのN2 を含有するガス混合物を使用し、8. OOOtar−
’の空時速度で、触媒床を280℃の温度にもたらし、
そして被処理ガスの圧力を1バール(絶対)として得ら
れた結果を表■に示す。
表Iの結果は、本発明に従って得られた触媒が本発明に
従オ)ない触媒よりも優れたNO8除去性及び耐久性を
有することを示している。
従オ)ない触媒よりも優れたNO8除去性及び耐久性を
有することを示している。
手続補正書
平成元年10月20日
特許庁長官 吉 1)文 毅 殿
事件の表示 平成1年特許願第152453号発明の名
称 窒素酸化物の選択的還元法に使用できる新規な触媒
補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 ローヌープ−ラン・シミ
称 窒素酸化物の選択的還元法に使用できる新規な触媒
補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 ローヌープ−ラン・シミ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)多孔質アルミナを基体とした担体と少なくとも1種
の触媒活性相からなる触媒において、該担体が少なくと
も1種のスピネル型化合物の表面層を含むことを特徴と
する触媒。 2)スピネル型化合物が次の一般式 M^1Al_2O_4 (ここで、M^1はマグネシウム、亜鉛、ニッケル又は
コバルトよりなる群から選ばれる少なくとも1種の2価
金属元素を表わす) を有することを特徴とする請求項1記載の触媒。 3)2価金属元素がニッケル又は亜鉛であることを特徴
とする請求項2記載の触媒。 4)2価金属元素M^1の含有量がその酸化物M^10
として表わして触媒の全重量に対して2〜45重量%で
あることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の
触媒。 5)2価金属元素M^1の含有量がその酸化物M^1O
として表わして触媒の全重量に対して5〜30重量%で
あることを特徴とする請求項5記載の触媒。 6)100nm以上の直径の細孔の容積が25cm^3
/100g以上であり、30nm以上の直径の細孔の容
積が40cm^3/100gであり、全細孔容積が80
〜120cm^3/100gでありかつ多くとも160
m^2/gの表面積を示すアルミナを基体とした担体を
含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の
触媒。 7)100nm以上の直径の細孔の容積が25〜70c
m^3/100gであり、かつ30nm以上の直径の細
孔の容積が43〜70cm^3/100gであることを
特徴とする請求項6記載の触媒。 8)アルミナ担体の全表面積が90〜150m^2/g
であることを特徴とする請求項6又は7記載の触媒。 9)アルミナ担体がγ、θ及びδ結晶相と痕跡状態のα
結晶相を含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか
に記載の触媒。 10)触媒活性相がバナジウム、タングステン、モリブ
デン、鉄又はコバルトの酸化物のような少なくとも1種
の金属酸化物を含むことを特徴とする請求項1〜9のい
ずれかに記載の触媒。 11)触媒活性相の含有量が触媒の全重量に対して0.
5〜50重量%であることを特徴とする請求項1〜10
のいずれかに記載の触媒。 12)触媒活性相の含有量が触媒の全重量に対して2〜
30重量%であることを特徴とする請求項11記載の触
媒。 13)触媒活性相が一方で酸化バナジウムV_2O_5
を、他方で酸化モリブデンMoO_3又は酸化タングス
テンWO_3を、1〜0.1のV_2O_5対MoO_
3又はWO_3の重量比で含むことを特徴とする請求項
1〜12のいずれかに記載の触媒。 14)a)アルミナ担体に少なくとも1種の2価金属M
^1の化合物の溶液を含浸させ、 b)乾燥し焼成し、 c)バナジウム、タングステン、モリブデ ン、鉄、又はコバルトの酸化物の少なくとも1種の先駆
体化合物の溶液を含浸させ、 d)乾燥し焼成する ことからなることを特徴とする請求項1〜13のいずれ
かに記載の触媒の製造法。 15)工程a)、b)、c)又はd)を1回又は数回繰
り返すことを特徴とする請求項14記載の製造法。 16)工程b)の乾燥及び焼成操作をそれぞれ100〜
200℃及び700〜1,000℃の温度で実施するこ
とを特徴とする請求項14又は15のいずれかに記載の
製造法。 17)工程d)の乾燥及び焼成操作をそれぞれ100〜
200℃及び400〜600℃の温度で実施することを
特徴とする請求項14又は15のいずれかに記載の方法
。 18)ガス流れを請求項1〜13のいずれかに記載の触
媒で処理することを特徴とする、ガス流れ中に含まれる
窒素酸化物をアンモニアで還元する方法。 19)ガス流れが窒素酸化物NO_x以外に硫黄酸化物
SO_xを含むことを特徴とする請求項18記載の方法
。 20)ガス流れのSO_x含有量が1〜2,000vp
mであることを特徴とする請求項19記載の方法。 21)200〜400℃の温度で実施することを特徴と
する請求項18〜20のいずれかに記載の方法。 22)200〜300℃の温度で実施することを特徴と
する請求項21記載の方法。
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