JPH02169567A - N,n’‐ジチオビス(スルホンアミド)の製造方法 - Google Patents

N,n’‐ジチオビス(スルホンアミド)の製造方法

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JPH02169567A
JPH02169567A JP1270151A JP27015189A JPH02169567A JP H02169567 A JPH02169567 A JP H02169567A JP 1270151 A JP1270151 A JP 1270151A JP 27015189 A JP27015189 A JP 27015189A JP H02169567 A JPH02169567 A JP H02169567A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明はN 、 N′−ジチオビス(スルホンアミド)
の合成方法に関する。合成は有機媒質と水性媒質の混合
媒質中で行われる。
発明の背景 N 、 7v′−ジチオビス(スルホンアミド)はN−
クロロテオスルホ/アミドの製造に有用である。
たとえば、西独特許第1.107.407号はN。
N′−ジテオビス(スルホンアミド)からのN−クロロ
チオスルホンアミドの製造を開示している。
米国特許第3.915,907号に開示されているよ5
K、N−クロロチオスルホンアミドはゴム添加剤として
特に有用である。第3,915,907号の発行以来、
N−クロロチオスルホンアミドに対する要求が増大し、
N−クロロチオスルホンアミドを製造するための経済的
方法を見付けるために広範囲にわたる研究が行われてき
た。
西独特許第951,719号は無水N−ナトリウム−ス
ルホンアミドと一塩化硫黄との反応によってN 、 N
′−ジチオビス(スルホンアミド)を製造する方法を教
示している。この方法は、不幸なことに高い生産コスト
を伴う無水有機媒質中で行われる。
N 、 N′−ジチオビス(スルホンアミド)に対する
増大する要求及びその高コストの生産のために、N 、
 N′−ジチオビス(スルホンアミド)の安価な生産方
法に対するたくさんの要求がある。
発明の概要 有機媒質−水性媒質の混合媒質中で一塩化硫黄及び苛性
薬剤と下式の化合物とを反応させるN。
N′−ジテオビス(スルホンアミド)の合成方法を開示
する: R宜 1(I) R1−50,−N −11 式中、R1及びR1は独立して約1〜約20個の炭素原
子を有するアルキル基、約5〜20個の炭素原子を有す
るシクロアルキル基、約7〜20個の炭素原子を有する
アルカリール基及び、フェニル基、及び約6〜約10個
の炭素原子を有するハロアリール基であり、しかもR′
  は下式な有する基からも選ばれる: 式中B、s及びR4はそれぞれ前記アルキル、シクロア
ルキル、7エ二ル、アルカリール及びハロアリール基か
ら独立して選ばれ、またHs及びR4は結合して−C’
:”Hz)3(但しnは4〜7の整数である)及び −
((’4)t OCCl1z)t−から選ばれる基を形
成する。
発明の詳細な記述 本発明は下式のN、N′−ジチオビス(スルホンアミド
)の新しくかつ改良された合成方法に関する: 式中R′及びR″は独立して約1〜約20個の炭素原子
を有するアルキル基、約5〜20個の炭素原子を有する
シクロアルキル基、約7〜20個の炭素原子を有するア
ルカリール基及びフェニール基、及び約1〜約20個の
炭素原子を有するノ10アリール基であり、しかもR′
 は下式を有する基からも選ばれる: 式中R3及びR4は前記アルキル、シクロアルキル、フ
ェニル、アルカリール及びノ10アリール基から独立し
て選ばれ、またHaとJ<4は結合して−fcM*−h
 (但し、nは4〜7の整数である)及び+CEt+r
(’(CB?jrから選ばれる基を形成する。好ましく
は、R1はフェニル又はトリル基であり、またR2 は
約1〜4個の炭素原子を有するアルキル基である。
N、N’−ジチオビス(スルホンアミド)は下式のスル
ホンアミド化合物から銹導される:式中R1及びR雪は
上記した通りである。式Iのスルホンアミドは脂肪族又
は芳香族第1級アミンと脂肪族又は芳香族塩化スルホニ
ルとの反応によって製造される。
式Iのスルホンアミドは苛性薬剤と反応してスルホンア
ミドの塩を生成する。好ましくは苛性薬剤は水浴液で添
加される。苛性溶液は濃度70%を超えてはなうな(、
濃度35チが好ましい。本発明の目的のために、1苛性
薬剤”という術語は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
又はその混合物を包含することを意図する。苛性薬剤の
量は好ましくは溶液中で少なくとも式■のスルホンアミ
ドのモル量と等しくなげればならない。それゆえ、苛性
薬剤とスルホンアミドのモル比は約1:1〜1.5:l
の範囲であってよい。好ましくは、苛性薬剤とスルホン
アミドのモル比は約1:1〜1.1:1の範囲にある。
スルホンアミドが生成されそれから有機媒質・水性媒質
の混合媒質の存在下に一塩化硫黄と反応させられる。取
り扱いの容易さのためK、一塩化硫黄を有機溶媒に溶解
することが望ましい。好ましくは、有機溶媒は反応媒質
に使用したものと同じものである。スルホンアミド塩と
一塩化硫黄とのモル比は変化してもよい。たとえば、ス
ルホンアミド塩と一塩化硫黄のモル比は約2:1〜2.
5:lの範囲であってよ(、約2.005:1〜約2.
05:lの範囲が好ましい。
本発明の方法を実行するに当っては、反応混合物のPR
は好ましくは中性〜アルカリ性に保持すべきである。ア
ルカリ度は上記の好ましい範囲に示したように一塩化硫
黄を上回って僅かに化学量論的に過剰の苛性薬剤又はス
ルホンアミドナトリウムを保持することによって保証す
ることができる。
反応混合物への薬剤の添加順序は変えてよい。
たとえば一実施態様において、すべての苛性薬剤を反応
器に添加し後で一塩化硫黄を添加してよい。
もう一つの実施態様に従って、苛性薬剤と一塩化硫黄は
交互にかつ間欠的な方法で添加可能である。
なおもう一つの実施態様において、これはまた最も好ま
しいものであるが、苛性薬剤の流し入れを始め、次いで
一塩化硫黄の流入を開始し、そして両薬剤が反応の経過
の初めから終りまで及び最終反応混合物のpHをアルカ
リ性に保持するように十分過剰の苛性薬剤を保持しなが
ら同時に導入する。
本発明の方法に使用される反応媒質は有機媒質と水性媒
質の混合物からなる。本発明の実施に使用するために適
した有機溶媒の実例はベンゼン、クロロベンゼン、トル
エン、エチルベンゼン、外−フロビルベンゼン、インブ
チルベンゼン、キシレン、及びその混合物を包含する。
好ましい有機溶媒はベンゼン、トルエン及びキシレンで
ある。
有機媒質と水性媒質の]t′#:、比は本発明に従って
大巾に変化させることができる。一般に、全有機媒質と
全水性媒質との重量比は約7:1〜約l:lの範囲にあ
り、約6:1〜約2:1の範囲が好ましい。明らかに、
溶媒は別々に又は1種又はそれ以上の薬剤と組合せて反
応器に仕込むことができる。
有機媒質の址は反応温度で全生成物を溶解するのに十分
な量反応混合物中に存在しなければならない。水性媒質
の量は反応中に生成する全副成塩を溶解するのく十分で
なければならない。−収約に言って、スルホンアミドに
対して約100〜約500!量チの有機相の童が本発明
の実行に使用するために十分な量であることがわかった
。スルホンアミドに対して約20〜約95重t%の水性
相の量が十分であることがわかった。
本発明の方法は約り0℃〜約80℃の範囲の温度で実行
可能である。好ましくは、反応温度は約り0℃〜約60
℃の範囲にあるであろう。
当技術に精通している者には正しく理解できるよう(、
本発明は広範囲の圧力のもとに行うことができる。−収
約に言って、本発明の方法は大気圧で行うことができる
。
反応の完了に当って、生成物は実施例で説明したさまざ
まな技術の一つによって分離可能である。
一般に単一の、分離されるy4製品のためには、先ず有
機相からアルカリ性の水性相(無機塩及びどの未反応の
スルホ/アミド塩も含有する)を分離することが好まし
い。有機相(俗解した生成物を含有している)は次いで
水で、そして随意に全アルカリ度の除去を保証するため
稀薄鉱酸(MCI 。
E、50.のような)で洗浄される。生成物は従来の手
段たとえばば媒のストリッピング、沈殿するため冷却す
る、又は非溶媒の添加によるi!を殿によって有機相か
ら単離される。述語「非溶媒」の使用は反応に使用され
た有機媒質と混合可能な有機溶媒及び添加されたとき生
成物の溶解度を低下させる有機溶媒を包含することを意
図する。前記非溶媒の適切な例は少しばかり名前をあげ
るならばC1〜C1゜脂肪族炭化水素が挙げられる。続
いて起るバッチ式の調製に対して、溶媒及びどのような
未反応スルホンアミドも再循環することが望ましい。
この場合には、反応混合物のpEを中性〜配性領域に低
下させるように先ず希薄鉱酸を添加し、それから水相(
無機塩を含有している)を分離することが好ましい。そ
れから生成物を沈殿させるために有機相を冷却してもよ
い。生成物は濾過によりて回収可能であり、炉液(未反
応スルホンアミドを含有している有機溶媒)は次のバッ
チへ再循環させる。苛性薬剤と一塩化硫黄が反応器に同
時に導入される実施態様に従って、生成物は好ましくは
沈殿するように冷却することによって除去される。すべ
ての苛性薬剤が反応器に添加された一塩化硫黄が後で反
応器に添加される実施態様に従えば、生成物は好ましく
は非溶媒の添加による沈殿によって浴液から除去される
。
反応容器は撹拌手段、反応物の導入用入口及び温度制御
手段、たとえば冷却及び加熱手段を具えているべきであ
る。好ましくは、反応器は反応物の腐食効果を最低にす
るためにガラス又は他の不活性材料でなげればならない
。
本発明の実施は以下の実施例を参照にt7て更に説明さ
れるが、これは代表的なものであって本発明の範囲を限
定することを意図するものではない。
重t%で表わされた最終生成物の性質は液体クロマドグ
:)フィー分析によって測定された。
実施例1゜ 反応容器は、かい型の撹拌機、温度計、2個の交換でき
る添加漏斗及び換気口が取り付けられた、K部排水施設
をも−)l!の、四ツ首のジャケット付きガラスと樹脂
の釜である。この反応器に220F(1,28モル)の
N−ノナルーp−トルエンスルホンアミドと440Mの
トルエンを仕込んだ。
生じたスラリーをかきまぜて301Jの水と50μの水
に溶解した48y(1,2モル)の水酸化ナトリウムの
ペレットを添加漏斗を経由して添加した。
添加は20分間にわたって行なわれ、その間に反応器の
温度は25℃から43℃に上昇した。添加が兄了したと
き、lOvの水を漏斗を通して反応器中へ注ぎ込んだ。
すべての苛性ソーダ溶液が反゛応しN−メチル−p−)
ルエンスルホンアミドのナトリウム塩を生成することを
保証するために撹拌されているスラリーをおおよそ60
〜70℃に15分子al加熱するべ(反応器のジャケッ
トに蒸気を通した。次にジャケット内に冷水を通して反
応混合物を25℃に冷却した。78.4 P C,58
モル)の一塩化硫黄入りのxzogのトルエン溶液を第
2の添加漏斗を経由し″C添加した。添加は30分間に
わたって、最初の10分は25〜30℃で、残りは35
〜40℃で行った。混合物は続いて35〜40℃で30
分間撹拌した。それから反応混合物は各氏浄で撹拌しな
がら、温度を35〜40℃に維持しクク、4回水洗され
、層分離を行い、底部排水施設から下部水洗層を除去す
る。4回の水洗は水溶性のナトリウム塩として未反応の
N−メチル−p−)ルエ/スルホンアミドを除去しどの
水酸化ナトリウムの中和も保証するよ5に計画された。
トルエン(上)層は反応器から2!のビーカーへ排出さ
せ、80011tのへキサンと混合し粉末状の白色固体
の沈殿を生じた。スラリーを25℃に冷却し、濾過し、
50aのへキサンで洗浄し50℃で乾燥した。約90〜
94℃の融点及び87重量−の純度を有する219Pの
N 、 N’−ジメチル−N 、 N′−ジチオビス(
p−トルエンスルホンアミド)が白色の粉末として得ら
れた。
実施例2゜ 反応器は、かい型の撹拌機、温度計、添加漏斗及び換気
口が取り付けられた、底部排水管をもつ11の、12首
の、ジャケット付きのガラスと樹脂の釜である。温度は
冷水又は蒸気のどちらかをジャケットを通過させること
によって制御した。
下記の操作の間じゆ5、そこに集められた小さな死容積
を混合するために窒素ガスを排水管を通して時々吹き上
げた。172P(1,0モル)のN−メチルベンゼンス
ルホンアミドと400aのトルエンを反応器に仕込み撹
拌して単一の液相な生じた。40IILtの水中に82
7の水酸化ナトリウム水溶液(1,02モル)を含む溶
液をよ(かきまぜながら25分間にわたって添加漏斗を
経由して添加したところ温度が25℃から50℃に上昇
した。
生じる反応混合物は透明なトルエン相に懸濁した綿のよ
った白色の半固体のかたまりから成っていた。110成
の追加の水を50℃で15分間にわたって漏斗を通して
反応器中へ注ぎ込んだ。反応混合物を68〜70℃で3
5分間かきまぜた。水酸化ナトリウム添加漏斗を67F
(0,48モル)の97−一塩化硫黄と70gの乾燥ト
ルエンを含有する漏斗と取り替えた。反応器を20℃に
冷却後、一塩化硫黄/トルエン溶液を25分間にわたつ
℃添加し、温度が35℃に上昇するにまかせた。
温度は40℃に昇温しさらに45分後50〜60℃に昇
温した。撹拌を停止して下部水相を分離させ久いで排出
させた。有機相を300Mの水で洗浄した。次に、有機
相を2Nの濃塩酸を含有する300μの水で洗浄しく分
離された洗浄液のpHが1に等しかった)、次いで30
0ILtの水で洗浄した。有機相をビーカー中へ流し出
し900vのへキサンと混合し、生成物を沈殿させた。
スラリーを室温に冷却後、固体を濾過し、150Mのへ
キサンで洗浄し50℃のエアーオーブン中で乾燥した。
180.6PのN、N’−ジメチル−IV、N′−ジチ
オビス(ベンゼンスルホンアミド)ヲ得り。
生成物は101〜106℃の融点と92〜93重f%の
純度を有していた。
実施例3゜ 反応容器は水ジャケット、底部排水管、撹拌機、温度計
及び充填タンクを具えた30ガロンのグラス内張り反応
器であった。16.64のN−メチル−ベンゼンスルホ
ンアミドと33.11c9 F)乾燥) #エンを反応
器に仕込み5分間撹拌した。11.0に9の35チ水酸
化ナトリウムを充填タンクlに装填した。予備混合した
ー塩化硫(szzoy)と乾燥トルエン(3269,F
)の浴液を充填タンク2に装填した。充填タンクl内の
苛性溶液を182P/分の流入速度で反応器へ導入した
。5分径充填タンク2の一塩化硫黄溶液を155P/分
の流入速度で反応器へ導入した。前述の苛性溶液の流入
は反応混合物を終始塩基性に保持することを保証する。
反応温度をジャケットの冷却水で50℃以下に保持した
。1時間にわたって導入された11、C19の苛性溶液
の全仕込量と9352Fの一塩化硫黄の全仕込量の導入
のすぐあとで、反応混合物t50℃で30分間撹拌した
。9752Fの水を反応器へ投入し反応混合物を5分間
撹拌した。
撹拌を停止して下部水イ目のpHを検査した。反応混合
物のpliを塩酸で約4〜5の範囲に調節した。
反応混合物を撹拌し温度60℃に加熱した。温度が60
℃に到達後、撹拌を停止して5分間相分離させた。下部
水相をデカンテーションした。有機相を撹拌して1℃/
分の速度で10℃罠冷却した。
10℃に到達後、反応器の内容物を遠心分離し湿りた固
体を真空のもとに50℃で風乾した。F液を貯蔵した。
99.4%の純度と82.6%の収率をもって15.7
に9の生成物を回収した。生成物の融点は114〜11
7℃であった。
実施例4〜7゜ 製 再循環反応は、前のバッチからの90重量%の有機相を
反応器に仕込むことを除いて実施例3の一般的手順に従
って行った。新鮮なトルエンも反応器へ投入して80ポ
ンドの全溶媒(再循環プラス新鮮〕を生じさせた。次に
、36.6ポンド(16,62Ic9)のN−メf k
 −ヘア セフ スA/ yh 7アミドを投入した。
反応混合物を5分間撹拌した。
17.5ボンド(7945F)の水酸化ナトリウムと7
.2ポンド(3269F)の水を充填タンク1に添加し
た。14.0ポンド(6356F)の一塩化硫黄と7.
2ポンド(3269F)の乾燥トルエンを混合し充填タ
ンク2に添加した。反応器へ苛性薬剤の流入を187F
/分の流速で始めた。
11.21にgの35% Na0E の全量を1時間に
わたって反応器へ添加した。NaOHを反応器へ流入開
始5分後に、一塩化硫黄を159P/分の速度で流入開
始した。一塩化硫黄溶液の9534Fの全量を1時間に
わたって添加した。全ての一塩化硫黄溶液を添加後、1
ポンド(454y)の乾燥トルエンをすべ℃の一塩化硫
黄が装入されたことを保証するように管路を流して洗う
ために使用した。反応器の温度はジャケットの冷却水で
50℃以下に保持した。すべての反応物を添加後、反応
物を50℃で30分間撹拌した。30分後、22.1ポ
ンド(10,03/II;I?)の水を反応器に投入し
た。
反応混合物を5分間撹拌した。下部水相のpHを検査し
゛て31%塩酸で4〜5の範囲に調節した。
反応温度は60℃まで上昇した。温度が60℃に到達後
撹拌を停止し5分間相分離させた。下部水相をデカンテ
ーションして放棄した。撹拌機を始動させて有機相を1
℃/分の速度で冷却した。反応混合物が10℃に到達後
、反応器から液を抜き取り内容物を遠心分離にかけた。
p液を次のノ(ツテ用に貯蔵した。湿った固体を50℃
で真空下に乾燥した。
下記の表■は4回の再循環実験の投入量と生成物の概要
である。表■のすべての量はボンドで表わした。下記の
表■は最終生成物のEPLC分析の結果を一覧表にして
示す。
表 ■ 新鮮なトルエン 再循環トルエン MsA(1) 35%Na0E s、c i。
稀釈トルエン(2) 水 31チ nct 全トルエンF液 7.−ジ(3) 1)MDT B S” 5.8   2.0   0.0 75.5  82.0  85.0 36.6  36.6  36.6 24.7  24.7  24.7 13.8  13.8  13.8 7.2   7.2   7.2 22.1  22.1  22.1 1.4    1.2   0.9 91.0  94.5  92.5 9.0   9.5   9.3 35.3  35.6  36.6 0.0 25.9 17.5 9.9 3.5 15.6 0.7 67.0 25.8 N−メゾルーベンゼンスルホンアミド s、ci、用希釈トルエン 再OII環に除去されたP液 生成物IV、N’−ジメチル−# 、 N′−ジチオビ
ス(ベンゼンスルホンアミド) 実施例8〜14゜ 一連の実施例を以下の手順に従って行った。反応は水ジ
ャケット、底部排水管、撹拌機、ストリッピングカラム
、真空ライン及び熱電対を具えた30ガロンのガラス内
張りした反応器中で行った。
トルエンとN−メチル−ベンゼンスルホ/アミドを反応
器に仕込んだ。混合物はN−メチル−ベンゼンスルホン
アミド°をトルエンに溶解させるために5分間撹拌した
。次に、温度を50℃以下に保持しながら34重量%の
水酸化ナトリウム水溶液を30分間にわたって反応器に
添加した。それから少量の水をどの残留水酸化す)IJ
クムも洗い流すように管路へ投入した。温度を70℃に
上昇し30分間維持し次いでさらに5分間85℃に保持
した。この時点で、反応器は白色固体の非常に厚いスラ
リーを含有した。温度は一塩化硫黄添加のために調製中
に25℃に低下させた。トルエンと一塩化硫黄は30〜
40分間にわたり℃反応器へ同時に投入した。一塩化硫
黄ははかりの上に置いたドラムからMasterfla
fi Pmristatttc  ボジブで汲み出した
。トルエンはロートメーター(デotontataデ)
を通して充填タンクから圧入した。2株類の材料は気相
で浸漬管(dip−tsbm )を通って反応器に入る
前に管路内で混合した。反応温度は一塩化硫黄添加の間
中ジャケットの冷却水で40℃近辺に保持した。添加完
了後、混合物を40℃で45分間続い”(55℃で5分
間撹拌した。洗浄操作は先ず反応によって生成した塩を
溶解するために反応器に水を添加することで始めた。
この時点で2種類の混合しない液相が存在する。
塩のほとんどを含有する下部の水相をデカンテーション
して捨てた。上部の有機相を25%塩酸で中和し次いで
3回水洗した。最終洗浄及び廃棄後、沈殿が始まった。
最初に、おおよそ〆のトルエンが約45℃、25インチ
の減圧状態で取り去られた。これは生成物、N 、 N
’−ジメチル−N、N′−ジチオビス(ベンゼンスルホ
ンアミド)のいくらかを沈殿させ、トルエン中に生成物
のスラリーを生じた。次に、スラリー温度を30℃に低
下させた。残りの生成物を沈殿させるために撹拌しなが
うへキサンを反応器に添加した。スラリーを反応器から
流し出しバスケット遠心器で遠心分離した。
湿ったケーキをそれからイソプロピルアルコールで再び
スラリー化した。インプロピルアルコール/N 、 N
’−ジメデルーN、N’−ジデオビス(ベンゼンスルホ
/アミド)のスラリーを遠心分離にかけ、湿った固体を
50℃の真空乾燥機内で一夜乾燥した。乾燥生成物は白
色の、結晶性の固体であった。以下の表■は7つの実施
例の各々に使用した投入量及び生成物の量を一覧表にし
て表示する。
表 ■ H5,4(11(ボンド) トルエン投入量(ボンド) 34%NaOR投入量(ボンド) s、clt投入量(ボンド) 希釈トルエン(ボンド) 洗浄#1(ボンド、水) 38%E(J投入量(ボントン 洗浄#2(ボンド、水) 洗浄#3(ボンド、水) 洗浄#4(ボンド、水) 取り去ったトルエン(ボンド) へキサン投入量(ボンド) I P 、4(21洗浄(ボンド) 乾燥生成物(ボンド) 粗状率 41.5 91.0 28.4 15.7 22.0 118.0 0.26 70.0 70.0 70.0 77.5 75.0 50.0 31.0 66.1% 41.5 91.0 29.3 16.0 22.0 115.0 0.20 70.0 ?0.0 70.0 70.0 68.0 60.0 37.3 79.5% 41.5 91.0 29.3 16.2 17.0 115.0 0.20 70.0 70.0 70.0 72.0 68.0 60.0 37.7 80.4% 41.5 91.0 29.3 16.2 17.0 1 ! 5.0 0.20 70.0 70.0 70.0 73.0 68.0 60.0 38.3 81.7% 41.5 91.0 29.5 16.0 17.0 115.0 0.20 70.0 70.0 70.0 66.8 75.5 59.0 40.0 85.3% 41.5 91.0 29.5 16.2 17.0 115.0 0.20 70.0 70.0 70.0 67.5 75.0 60.0 39.0 83.2% 39.6 87.0 27.6 15.3 17.0 115.0 0.19 70.0 70.0 70.0 67.0 60.0 37.5 84.0% (11N−メチル−ベンゼンスルホンアミイソプロピル
アルコール ド ある代表的な実施例及び詳細を本発明の説明の目的のた
めに示したが、本発明の精神又は範囲から離れることな
くさまざまな変化及び変更をなしうろことは当技術に精
通している者には明白であろう。
(外3名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、有機−水性混合媒質中で一塩化硫黄及び苛性薬剤と
    式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1及びR^2は1〜20個の炭素原子を有
    するアルキル基、5〜20個の炭素原子を有するシクロ
    アルキル基、フェニル基類及び7〜20個の炭素原子を
    有するアルカリール基及び約6〜約10個の炭素原子を
    有するハロアリール基よりなる群から独立に選ばれ、R
    ^1はまた式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^3及びR^4はそれぞれ前記アルキル、シ
    クロアルキル、フェニル、アルカリール及びハロアリー
    ル基から独立に選ばれ、R^3及びR^4はまた一緒に
    結合して−(CH_2)_n−(但しnは4〜7の整数
    である)及び−(CH_2)_2−O−(CH_2)_
    2−から選ばれる基を形成することができる。〕 のスルホンアミドとを反応させることを特徴とするN、
    N′−ジチオビス(スルホンアミド)の合成法。 2、有機媒質がベンゼン、クロロベンゼン、トルエン、
    エテルベンゼン、n−プロピルベンゼン、イソブチルベ
    ンゼン、キシレン及びそれらの混合物よりなる群から選
    ばれる請求項1記載の方法。 3、有機媒質がベンゼン、トルエン、キシレン及びそれ
    らの混合物から選ばれる請求項2記載の方法。 4、有機媒質と水性媒質との重量比が約7:1〜約1:
    1である請求項1記載の方法。 5、前記苛性薬剤が水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
    又はそれらの混合物よりなる群から選ばれる請求項1記
    載の方法。 6、前記苛性薬剤が、反応過程の初めから終りまで、そ
    して最終反応混合物中でアルカリ性のpHを保持するよ
    うに十分過剰の一塩化硫黄中に存在するような割合で反
    応器中に導入される請求項5記載の方法。 7、R^1がフェニル又はトリル基よりなる群から選ば
    れ、またR^2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル
    基よりなる群から選ばれる請求項1記載の方法。 8、前記苛性薬剤が水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
    又はその混合物の水溶液である請求項1記載の方法。 9、前記N,N′−ジチオビス(スルホンアミド)がN
    ,N′−ジメチル−N,N′−ジチオビス(p−トルエ
    ンスルホンアミド)である請求項1記載の方法。 10、前記N,N′−ジチオビス(スルホンアミド)が
    N,N′−ジメチル−N,N′−ジチオビス(ベンゼン
    スルホンアミド)である請求項1記載の方法。 11、前記苛性薬剤と一塩化硫黄とが同時に反応器に導
    入される請求項1記載の方法。 12、生成物が冷却、沈殿させることによって溶液から
    除去される請求頂11記載の方法。 13、前記苛性薬剤のすべてが反応器に添加され、その
    後該反応器に前記一塩化硫黄が添加される請求項1記載
    の方法。 14、生成物が非溶媒の添加による沈殿によつて溶液か
    ら除去される請求項13記載の方法。
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