JPH0217110A - 歯型模型用石膏材 - Google Patents
歯型模型用石膏材Info
- Publication number
- JPH0217110A JPH0217110A JP63167278A JP16727888A JPH0217110A JP H0217110 A JPH0217110 A JP H0217110A JP 63167278 A JP63167278 A JP 63167278A JP 16727888 A JP16727888 A JP 16727888A JP H0217110 A JPH0217110 A JP H0217110A
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- plaster
- chloride
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、歯科医療において歯Ｉｊ：！模型の作成に用
いられる石膏材に関する。
いられる石膏材に関する。
（従来技術とその課題）
一般に、歯科医療における歯型の作成は、アルギン酸塩
や寒天を主剤とした印象材を患者の歯がら歯茎にかけて
印圧し°ζ硬化（ゲル化）させて凹型の印象を採得し、
歯科技工士がごの採得印象材の凹型内に石膏を注入し、
硬化した石膏型を取り出しく技工を加えて歯型模型とす
る手順で行われる。
や寒天を主剤とした印象材を患者の歯がら歯茎にかけて
印圧し°ζ硬化（ゲル化）させて凹型の印象を採得し、
歯科技工士がごの採得印象材の凹型内に石膏を注入し、
硬化した石膏型を取り出しく技工を加えて歯型模型とす
る手順で行われる。
腔内に直接に接触するため、唾液や血液等の体液ならび
に歯垢や食物賎渣等の汚垢が付着し、必然的に患者の保
有する細菌やウィルスに汚染される。
に歯垢や食物賎渣等の汚垢が付着し、必然的に患者の保
有する細菌やウィルスに汚染される。
そし°ζ、この汚染された印象材より型取りされる石膏
型へも当然に汚染が移行することになる。
型へも当然に汚染が移行することになる。
従って、歯科医療従事者の中Ｃも特に歯型作成に携わる
歯科技工士にあっては、汚染された石膏型を取り（渋う
上に、技工に際し°ζカーバイトバー等の鋭利な工具を
用いるために手指等に傷を受けたり、石膏型のｇＦｇ加
工によっ°ζ生じる微粉を吸引する機会が多々あり、様
々な感染の危険が大きく、特に近年ではＢ型肝炎やエイ
ズ（ＡＩＤＳ）の感染が懸念されている。
歯科技工士にあっては、汚染された石膏型を取り（渋う
上に、技工に際し°ζカーバイトバー等の鋭利な工具を
用いるために手指等に傷を受けたり、石膏型のｇＦｇ加
工によっ°ζ生じる微粉を吸引する機会が多々あり、様
々な感染の危険が大きく、特に近年ではＢ型肝炎やエイ
ズ（ＡＩＤＳ）の感染が懸念されている。
（課題を解決するための手段）
本発明は、上述の情況に鑑みて、歯型模型の作成用とし
ζそれ自体が除菌機能を具備するという画期的な石膏材
をＩｌ供し、もって歯科技工における様々な感染の危険
性を排除することを目的とし°Ｃいる。
ζそれ自体が除菌機能を具備するという画期的な石膏材
をＩｌ供し、もって歯科技工における様々な感染の危険
性を排除することを目的とし°Ｃいる。
ここで、上記印象材は、使用に際して患者の口ずなわら
、上記目的を達成するために、本発明の歯型模型用石膏
材は、石膏粉末＋００ ｆｆｌ量部に対して塩化ベンゼ
トニウムまたは／′および塩化ヘンザルコニウムが０．
０２５〜１．０ 正ｆｆ１部配合されてな゛る構成を採
用したものである。
、上記目的を達成するために、本発明の歯型模型用石膏
材は、石膏粉末＋００ ｆｆｌ量部に対して塩化ベンゼ
トニウムまたは／′および塩化ヘンザルコニウムが０．
０２５〜１．０ 正ｆｆ１部配合されてな゛る構成を採
用したものである。
（発明の細部構成と作用）
本発明において石膏中に配合される塩化ペンゼで表され
るものであり、また塩化ベンザルコニウムは下記構造式
； ％式％） で表されるものであり、共に抗菌スペクトルが広く、か
つＨＢｓ抗県（Ｂ型肝炎表面抗屋）の不活性化作用を有
する抗菌剤として既知であるが、特に歯型模型用の石膏
に対して非票に優れた通性を自している。
るものであり、また塩化ベンザルコニウムは下記構造式
； ％式％） で表されるものであり、共に抗菌スペクトルが広く、か
つＨＢｓ抗県（Ｂ型肝炎表面抗屋）の不活性化作用を有
する抗菌剤として既知であるが、特に歯型模型用の石膏
に対して非票に優れた通性を自している。
すなわち、石膏配合用の抗菌剤としては、これを含む石
膏粉末が使用前に固化するのを避ける点から、室温下Ｃ
は固形状であってかつ遊離水ができるだけ少なく、また
型形成に際し゛Ｃ７１膏扮十を水に解いたときにその水
中に直ちに溶解して抗菌作用を発揮するものでなければ
ならず、無論のこと化合物として安定性がよく作用の持
続性に優れることも要求される。しかして、塩化ベンゼ
トニウムおよび塩化ベンザルコニウムは共に、常温下で
粉末状のものとしＣ得られ、かつ水易溶性であって低１
度でも高い抗菌作用（例えば、ｔｌ Ｂ ｓ抗頂不活化
最小有効濃度は、塩化ベンゼトニウムで０．０１％、塩
化ベンザルコニウムで０．０４％）を示し、また安定性
に優れた化合物であるため、前記の石膏配合用としての
必要特性を全ｉ［１１ｆｌする。
膏粉末が使用前に固化するのを避ける点から、室温下Ｃ
は固形状であってかつ遊離水ができるだけ少なく、また
型形成に際し゛Ｃ７１膏扮十を水に解いたときにその水
中に直ちに溶解して抗菌作用を発揮するものでなければ
ならず、無論のこと化合物として安定性がよく作用の持
続性に優れることも要求される。しかして、塩化ベンゼ
トニウムおよび塩化ベンザルコニウムは共に、常温下で
粉末状のものとしＣ得られ、かつ水易溶性であって低１
度でも高い抗菌作用（例えば、ｔｌ Ｂ ｓ抗頂不活化
最小有効濃度は、塩化ベンゼトニウムで０．０１％、塩
化ベンザルコニウムで０．０４％）を示し、また安定性
に優れた化合物であるため、前記の石膏配合用としての
必要特性を全ｉ［１１ｆｌする。
ごれに対し、抗菌スペクトルが広くかつＨＲｓ抗原不活
性化作用を示す抗菌剤として他に、次曲塩素酸ナトリウ
ムや高度サラシ粉の如き塩素系抗菌剤、ココイルアルギ
ン酸エステル（ＣＡＥ・・６Ｎ ” −Ｃｏｃｏｙｌ
−１，−ａｒＩＨｉｎｉｎｅ ｅＬｈｙｌｅｓＬｅ
ｒＯＬ、 −ｐｙｒｏｇｌｒ＋１ａｓｉｃ ａｃｉｄ
５ａｌｔ）の如きカチオン界面活性剤系抗菌剤、イルガ
サンＤＰ−３００（スイス国チハガイギー社の商品名５
２・４・４トリクロロ−２° −ヒドロキン−ジフェニ
ルエーテル）等が知られるが、これらはいずれも石膏配
合用として不通である。すなわち、塩素系抗菌剤は安定
性に劣り抗菌作用の持続性に難があると共に分解生成し
たＣ１２ガスによる毒性や腐蝕の問題もあり、またＣＡ
ＥおよびイルガサンＤＰ−３００は水にＮ溶性であるこ
とから、抗菌作用が発現しにくいという欠点がある。
性化作用を示す抗菌剤として他に、次曲塩素酸ナトリウ
ムや高度サラシ粉の如き塩素系抗菌剤、ココイルアルギ
ン酸エステル（ＣＡＥ・・６Ｎ ” −Ｃｏｃｏｙｌ
−１，−ａｒＩＨｉｎｉｎｅ ｅＬｈｙｌｅｓＬｅ
ｒＯＬ、 −ｐｙｒｏｇｌｒ＋１ａｓｉｃ ａｃｉｄ
５ａｌｔ）の如きカチオン界面活性剤系抗菌剤、イルガ
サンＤＰ−３００（スイス国チハガイギー社の商品名５
２・４・４トリクロロ−２° −ヒドロキン−ジフェニ
ルエーテル）等が知られるが、これらはいずれも石膏配
合用として不通である。すなわち、塩素系抗菌剤は安定
性に劣り抗菌作用の持続性に難があると共に分解生成し
たＣ１２ガスによる毒性や腐蝕の問題もあり、またＣＡ
ＥおよびイルガサンＤＰ−３００は水にＮ溶性であるこ
とから、抗菌作用が発現しにくいという欠点がある。
本発明の歯型模型用石膏材における塩化へンゼトニウム
または／および塩化ベンザルコニウムの配合量は、石膏
粉末１００重量部に対して０．０２５〜ｔ、ｏ １ｇ部
の範囲とずべきである。すなわち、この配合量が０．０
２５ 市１部より少ない場合は、印象材より移行した９
１菌等に対する抗菌作用が不充分であり、逆に１．ＯＭ
９部より多くなっても、抗菌幼果的にはほぼ飽和に達し
かつ高価でもあることから不経済となる」に石膏特性に
巷￥、９を及ぼす惧れもある。なお、塩化ベンゼトニウ
ムと塩化ヘンザルコニウムとは併用しとも差し支えない
。
または／および塩化ベンザルコニウムの配合量は、石膏
粉末１００重量部に対して０．０２５〜ｔ、ｏ １ｇ部
の範囲とずべきである。すなわち、この配合量が０．０
２５ 市１部より少ない場合は、印象材より移行した９
１菌等に対する抗菌作用が不充分であり、逆に１．ＯＭ
９部より多くなっても、抗菌幼果的にはほぼ飽和に達し
かつ高価でもあることから不経済となる」に石膏特性に
巷￥、９を及ぼす惧れもある。なお、塩化ベンゼトニウ
ムと塩化ヘンザルコニウムとは併用しとも差し支えない
。
この塩化ヘンゼトニ？ツムまたは／および塩化ヘンザル
コニウムを石膏粉末中に配合する手段とし′ζは、扮宋
形、畔で石膏粉末に混合する方法のほか高濃度エチルア
ルコール等の少量（例えばエチルアルコールでは１〜３
容量倍程度）の揮発性溶剤に熔解した溶液とし′ζζ石
粉粉末噴霧あるいは直接添加し、溶剤の揮散後に石膏粉
末を攪拌混合する方法も採用ごきる。なお、これら配合
におい′ζは塩化ベンゼトニウムまたは／および塩化ヘ
ンザルコニウムの均一分散を図るために、これをまず少
量の石膏粉末と混合した後、この混合物に何回かに分け
”Ｃ石膏粉末を追加して攪拌混合し、最終的に所要の塩
化ベンゼトニウムまたは／および塩化ヘンザルコニウム
配合量の石膏材とするのがよい、また上記溶液として添
加した際に凝望が生した場合は粉砕機を用い゛ζ粉砕１
ればよい。
コニウムを石膏粉末中に配合する手段とし′ζは、扮宋
形、畔で石膏粉末に混合する方法のほか高濃度エチルア
ルコール等の少量（例えばエチルアルコールでは１〜３
容量倍程度）の揮発性溶剤に熔解した溶液とし′ζζ石
粉粉末噴霧あるいは直接添加し、溶剤の揮散後に石膏粉
末を攪拌混合する方法も採用ごきる。なお、これら配合
におい′ζは塩化ベンゼトニウムまたは／および塩化ヘ
ンザルコニウムの均一分散を図るために、これをまず少
量の石膏粉末と混合した後、この混合物に何回かに分け
”Ｃ石膏粉末を追加して攪拌混合し、最終的に所要の塩
化ベンゼトニウムまたは／および塩化ヘンザルコニウム
配合量の石膏材とするのがよい、また上記溶液として添
加した際に凝望が生した場合は粉砕機を用い゛ζ粉砕１
ればよい。
かくシ゛（塩化ベンゼトニウムまたは／および塩化ヘン
デル＝】ニウムを配合した歯型模型用石膏材は、硬化性
、硬化時の体積変化、硬化物の強度等の特性において従
来の抗菌剤を含まない歯型模型用石膏と同等である。そ
の使用に陛しζは、従来のものと同様に、水と練和し、
この練和物を印象採得後の硬化した印象材の凹型に１′
＋、入し、硬化後に離型して所要の技］゛を施せばよく
、型取り精度および強度面ご全（問題のない歯型模型を
得ることができる。
デル＝】ニウムを配合した歯型模型用石膏材は、硬化性
、硬化時の体積変化、硬化物の強度等の特性において従
来の抗菌剤を含まない歯型模型用石膏と同等である。そ
の使用に陛しζは、従来のものと同様に、水と練和し、
この練和物を印象採得後の硬化した印象材の凹型に１′
＋、入し、硬化後に離型して所要の技］゛を施せばよく
、型取り精度および強度面ご全（問題のない歯型模型を
得ることができる。
（実 施 例）
以Ｆ、本発明の実施例につき性能比較ＬＫ験を含め（説
明−４る。なお、以下において部とあるは重９部を意味
りる。
明−４る。なお、以下において部とあるは重９部を意味
りる。
実ｌｌ１Ｉ！例１
石膏粉末５部の入った混合ｆｉｔ↑機中に塩化ヘンゼ）
・ニウム粉末０．１部を投入し゛ζ混合攪拌した後、石
膏粉末１５部を追加して混合攪拌し、更に３０部および
５０部の石膏粉末を順次追加して同様に混合攪拌し、石
膏粉末１００部に対して塩化ベンゼトニウム０．１部が
均一に配合された抗菌剤入り石膏材をｉすた。
・ニウム粉末０．１部を投入し゛ζ混合攪拌した後、石
膏粉末１５部を追加して混合攪拌し、更に３０部および
５０部の石膏粉末を順次追加して同様に混合攪拌し、石
膏粉末１００部に対して塩化ベンゼトニウム０．１部が
均一に配合された抗菌剤入り石膏材をｉすた。
一方、印豪材用寒天と印象材用゛ｒルギン酸塩と組合せ
た印ψ材を用い、５０才男性より下層部の歯全体にわた
る印象を滅菌したトレイに採得し、この採得印象材を金
属板にてほぼ正中線ご２分割した。そしζ、この印象材
の４部半体には水で練和したＪＪ１常の模型用石膏を注
入し、左半体には水で練和した上記の抗菌剤入り石膏材
を庄太し、それぞれウェア１−槽内で室温硬化させた後
、これらを取り出しく石膏模型を得た１次に！１１部石
膏模型の歯番号？、６，５．４．３および左半体石禽模
型の歯番号３，４，５．６．７の各歯顎部を技−ｒ用カ
ーハイ］・バーＣ−１１ζ扮塊をＩｎし、それぞれ標１
！寒天培地ンヤーレにＭ種した。そして、Ｍ種した各培
地を３６±ｌ ’ｃの恒温器内ご放置し、菌の繁殖のイ
１無を調べたとごろ、表１の結果が得られた。なお、表
中の記号（＋）は菌繁殖あり、記号（−）は菌繁殖なし
、をそれぞれ意味する。
た印ψ材を用い、５０才男性より下層部の歯全体にわた
る印象を滅菌したトレイに採得し、この採得印象材を金
属板にてほぼ正中線ご２分割した。そしζ、この印象材
の４部半体には水で練和したＪＪ１常の模型用石膏を注
入し、左半体には水で練和した上記の抗菌剤入り石膏材
を庄太し、それぞれウェア１−槽内で室温硬化させた後
、これらを取り出しく石膏模型を得た１次に！１１部石
膏模型の歯番号？、６，５．４．３および左半体石禽模
型の歯番号３，４，５．６．７の各歯顎部を技−ｒ用カ
ーハイ］・バーＣ−１１ζ扮塊をＩｎし、それぞれ標１
！寒天培地ンヤーレにＭ種した。そして、Ｍ種した各培
地を３６±ｌ ’ｃの恒温器内ご放置し、菌の繁殖のイ
１無を調べたとごろ、表１の結果が得られた。なお、表
中の記号（＋）は菌繁殖あり、記号（−）は菌繁殖なし
、をそれぞれ意味する。
表
実施例２
塩化ベンゼトニウムに代えて塩化ヘンザルコニウム０．
１部を使用した以外は実施例１と同様にして抗菌剤入り
石膏材を得た。そし乙この石膏材と通常の模型用石膏と
を用い、実施例１と同様にし“（４０才男性より採ｔｌ
した印象材を対象として、実施例１に準じて石膏模型の
作製と植種による菌繁殖試験を行ったところ、下記表２
の結果が得られた。
１部を使用した以外は実施例１と同様にして抗菌剤入り
石膏材を得た。そし乙この石膏材と通常の模型用石膏と
を用い、実施例１と同様にし“（４０才男性より採ｔｌ
した印象材を対象として、実施例１に準じて石膏模型の
作製と植種による菌繁殖試験を行ったところ、下記表２
の結果が得られた。
実り＆！例３
実施例！、２と同様手段により、石膏粉末１００部に対
して塩化へ７ゼトニウム粉末および塩化ヘンザルコニウ
ム粉末をそれぞれ０．０１２５部、０．０２５部、０．
０５部、０．１部間合した抗菌剤入り石膏材を作製した
。そして、各石膏材と抗菌剤無配合の石膏粉末につき、
そのｌｏｎｇに対し、台所流し台のゴミ受は部より採取
した菌数的５ ＸＩＯ’ ｌｉ１／ ｍｌの雑菌水（標
準寒天培地３６℃、 ４８ｈｒｌ＆に生菌数測定）１−
ｌを添加した練和用水２４−１、ならびに同Ｎ菌水ＩＱ
ｍｊを添加した練和用水２４−１を用い乙それぞれ１分
間練和し、練和直後（Ｊ）と練和後１０分経過時点（Ｉ
Ｉ）？：！２〜３ｇの練和石膏を２検体ずつシャーレに
砲り、各シャーレに直ちに約５０℃の標準寒天培地２０
ｍ ｌを注入し、培地が固化した後、３６℃±１℃の恒
温器中で放置し、石膏近傍および培地の菌繁殖の有無を
放置日数ごとに調べたとごろ、表３−１〜３−４で表す
結果が得られた。なお、表中の記号（＋）は菌繁殖あり
、（−）は菌繁殖なし、をそれぞれ意味する。
して塩化へ７ゼトニウム粉末および塩化ヘンザルコニウ
ム粉末をそれぞれ０．０１２５部、０．０２５部、０．
０５部、０．１部間合した抗菌剤入り石膏材を作製した
。そして、各石膏材と抗菌剤無配合の石膏粉末につき、
そのｌｏｎｇに対し、台所流し台のゴミ受は部より採取
した菌数的５ ＸＩＯ’ ｌｉ１／ ｍｌの雑菌水（標
準寒天培地３６℃、 ４８ｈｒｌ＆に生菌数測定）１−
ｌを添加した練和用水２４−１、ならびに同Ｎ菌水ＩＱ
ｍｊを添加した練和用水２４−１を用い乙それぞれ１分
間練和し、練和直後（Ｊ）と練和後１０分経過時点（Ｉ
Ｉ）？：！２〜３ｇの練和石膏を２検体ずつシャーレに
砲り、各シャーレに直ちに約５０℃の標準寒天培地２０
ｍ ｌを注入し、培地が固化した後、３６℃±１℃の恒
温器中で放置し、石膏近傍および培地の菌繁殖の有無を
放置日数ごとに調べたとごろ、表３−１〜３−４で表す
結果が得られた。なお、表中の記号（＋）は菌繁殖あり
、（−）は菌繁殖なし、をそれぞれ意味する。
表３−１〜３−４の結果から、塩化ベンゼトニウムおよ
び塩化ベンザルコニウムは、共に石ｌｉｆ粉末１００部
に対し°Ｃ０，０２５部以上の配合量で充分な抗２ｇｌ
果が１ηられることが明らかである。
び塩化ベンザルコニウムは、共に石ｌｉｆ粉末１００部
に対し°Ｃ０，０２５部以上の配合量で充分な抗２ｇｌ
果が１ηられることが明らかである。
実施例４
塩化ヘンゼＩ・ニウム０．１部を３倍容量の９９．５％
エチルアルコールに熔解し、この溶液を４０℃の石膏粉
末６部に攪拌下Ｃ噴霧添加し、エチルアルコールが揮散
した後に石膏粉末１４部を追加して混合攪！１！シ、更
に３０部および５０部の石膏粉末を順次追加し゛ζ混合
攪１１！シ、抗閑剤入り石膏材式を得た。
エチルアルコールに熔解し、この溶液を４０℃の石膏粉
末６部に攪拌下Ｃ噴霧添加し、エチルアルコールが揮散
した後に石膏粉末１４部を追加して混合攪！１！シ、更
に３０部および５０部の石膏粉末を順次追加し゛ζ混合
攪１１！シ、抗閑剤入り石膏材式を得た。
この石膏材式と実施例■で得た抗閑剤入り石膏材Ｂにつ
き、＋ ４１ソｈ、？ｊｌ水ＩＩ ２４ｍ ｌ ／ １
００ｇ トシテ、石膏特性をＪ Ｉ Ｓ −Ｔ６６０５
に準じ測定したところ、表４の結果が得られた。
き、＋ ４１ソｈ、？ｊｌ水ＩＩ ２４ｍ ｌ ／ １
００ｇ トシテ、石膏特性をＪ Ｉ Ｓ −Ｔ６６０５
に準じ測定したところ、表４の結果が得られた。
表４の結果から、本発明の石膏材は、硬化性、硬化時の
体積変化、強度等のいずれにおいても支障がなく、歯型
模型用石膏として充分な適性を具備することが明らかで
ある。
体積変化、強度等のいずれにおいても支障がなく、歯型
模型用石膏として充分な適性を具備することが明らかで
ある。
（発明特自゛の効果）
本発明の歯型模型用石膏材によれば、この石膏材自体が
優れた抗菌作用を有するため、歯型榎型作成において患
者の口腔内の体液や汚垢に汚染された印象材から石膏の
歯型模型への菌やウィルスの移行ｌｒｆ染が防止され、
もって歯科技工における様々な感染の危険性が回避され
る。また、この石ｉｎオは、硬化性、硬化時の体積変化
、強度等の石青竹性において歯型模型用石膏としての充
分な通性を有している。
優れた抗菌作用を有するため、歯型榎型作成において患
者の口腔内の体液や汚垢に汚染された印象材から石膏の
歯型模型への菌やウィルスの移行ｌｒｆ染が防止され、
もって歯科技工における様々な感染の危険性が回避され
る。また、この石ｉｎオは、硬化性、硬化時の体積変化
、強度等の石青竹性において歯型模型用石膏としての充
分な通性を有している。
Claims (1)
- 石膏粉末１００重量部に対して塩化ベンゼトニウムまた
は／および塩化ベンザルコニウムが０．０２５〜１．０
重量部配合されてなる歯型模型用石膏材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63167278A JPH0217110A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 歯型模型用石膏材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63167278A JPH0217110A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 歯型模型用石膏材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0217110A true JPH0217110A (ja) | 1990-01-22 |
| JPH0548204B2 JPH0548204B2 (ja) | 1993-07-20 |
Family
ID=15846781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63167278A Granted JPH0217110A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 歯型模型用石膏材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0217110A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02223505A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-09-05 | Jishi Toushi Kogyo Kk | 歯科用石膏組成物 |
| US5090339A (en) * | 1989-07-17 | 1992-02-25 | Babcock-Hitachi Kabushiki Kaisha | Burner apparatus for pulverized coal |
| JPH1033567A (ja) * | 1996-07-23 | 1998-02-10 | Mitsubishi Chem Corp | 歯科用石膏組成物 |
| KR100785232B1 (ko) * | 2006-06-15 | 2007-12-11 | 남두석 | 치과용 항균 석고 조성물 및 그 제조방법 |
-
1988
- 1988-07-05 JP JP63167278A patent/JPH0217110A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02223505A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-09-05 | Jishi Toushi Kogyo Kk | 歯科用石膏組成物 |
| US5090339A (en) * | 1989-07-17 | 1992-02-25 | Babcock-Hitachi Kabushiki Kaisha | Burner apparatus for pulverized coal |
| JPH1033567A (ja) * | 1996-07-23 | 1998-02-10 | Mitsubishi Chem Corp | 歯科用石膏組成物 |
| KR100785232B1 (ko) * | 2006-06-15 | 2007-12-11 | 남두석 | 치과용 항균 석고 조성물 및 그 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0548204B2 (ja) | 1993-07-20 |
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