JPH02172989A - 高純度セファロスポリン誘導体の製造法 - Google Patents
高純度セファロスポリン誘導体の製造法Info
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- JPH02172989A JPH02172989A JP63328567A JP32856788A JPH02172989A JP H02172989 A JPH02172989 A JP H02172989A JP 63328567 A JP63328567 A JP 63328567A JP 32856788 A JP32856788 A JP 32856788A JP H02172989 A JPH02172989 A JP H02172989A
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、式（Ｉ）
で示される化合物又はその塩を含有する生成物を中和型
の強塩基性イオン交換樹脂で処理することを特徴とする
高純度の式（、Ｉ）の化合物又はその塩の製造法に関す
る。
の強塩基性イオン交換樹脂で処理することを特徴とする
高純度の式（、Ｉ）の化合物又はその塩の製造法に関す
る。
〈従来の技術〉
式（Ｉ）の化合物は、特開昭８１−７２８０号公報に開
示されたものであり、優れた抗菌活性を有するものであ
る。該化合物の製造法としては、前記公報並びに、特開
昭６２−１４５０５０号、６２−１４５０５１号及び６
３−４４５８２号公報に開示されたものが知られている
。該製造法における生成物は式（Ｉ）の化合物以外に着
色物質、反応分解物も含み、高純度の式（Ｉ）の化合物
を得るには前記生成物を逆相高速液体タフロマトグラフ
ィーで処理されていた。しかしながら、該逆相高速液体
タフロマトグラフィーによる処理は工業的観点から経済
的に不利であり、工業的製造法としては不充分なもので
あった。
示されたものであり、優れた抗菌活性を有するものであ
る。該化合物の製造法としては、前記公報並びに、特開
昭６２−１４５０５０号、６２−１４５０５１号及び６
３−４４５８２号公報に開示されたものが知られている
。該製造法における生成物は式（Ｉ）の化合物以外に着
色物質、反応分解物も含み、高純度の式（Ｉ）の化合物
を得るには前記生成物を逆相高速液体タフロマトグラフ
ィーで処理されていた。しかしながら、該逆相高速液体
タフロマトグラフィーによる処理は工業的観点から経済
的に不利であり、工業的製造法としては不充分なもので
あった。
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明者等は上記問題点を解決すべく鋭意検討した結果
、本発明を完成した。
、本発明を完成した。
〈発明の構成〉
本発明は、式（１）の化合物又はその塩を含有する生成
物を中和型の強塩基性イオン交換樹脂で処理することか
らなる高純度の式（Ｉ）の化合物又はその塩の製造法に
関する。
物を中和型の強塩基性イオン交換樹脂で処理することか
らなる高純度の式（Ｉ）の化合物又はその塩の製造法に
関する。
式（１）の化合物の塩としては、塩酸、硫酸等の酸付加
塩をあげることができる。
塩をあげることができる。
式（１）の化合物又はその塩を含有する生成物としては
、前記公開公報、特開昭６３−４４５８２号公報に示さ
れた製造法によるものをあげることができる。
、前記公開公報、特開昭６３−４４５８２号公報に示さ
れた製造法によるものをあげることができる。
強塩基性イオン交換樹脂としては、ダイヤイオン５ＡＩ
ＩＡ １ダイヤイオンＳＡ２１＾、ダイヤイオンＰ＾３
０６、ダイヤイオンＰ＾３０８、ダイヤイオンＰＡ４０
６、ダイヤイオンＰ＾４０８（以上、三菱化成工業株式
会社製）、アンバーライト ＩＲＡ−４０１，アンバー
ライトＩＲＡ−４０２、アンバーライト ＩＲＡ−９０
４、アンバーライト ＩＦ１＾−９３８、アンバーライ
ト ＩＲＡ−４１１、アンバーライトＩＲＡ−９１１（
以上、ローム・アンド・ハース社製）等をあげることか
できる。中和型の該樹脂とは、塩酸等の酸でｌＡ埋した
ものをいい、その代表的なものとしては、クロル型を示
すことができる。
ＩＡ １ダイヤイオンＳＡ２１＾、ダイヤイオンＰ＾３
０６、ダイヤイオンＰ＾３０８、ダイヤイオンＰＡ４０
６、ダイヤイオンＰ＾４０８（以上、三菱化成工業株式
会社製）、アンバーライト ＩＲＡ−４０１，アンバー
ライトＩＲＡ−４０２、アンバーライト ＩＲＡ−９０
４、アンバーライト ＩＦ１＾−９３８、アンバーライ
ト ＩＲＡ−４１１、アンバーライトＩＲＡ−９１１（
以上、ローム・アンド・ハース社製）等をあげることか
できる。中和型の該樹脂とは、塩酸等の酸でｌＡ埋した
ものをいい、その代表的なものとしては、クロル型を示
すことができる。
次に、本発明の製造法を具体的に説明する。
即ち、上記の如き式（Ｉ）の化合物またはその塩を含有
する生成物を水に溶解または懸濁させ、必要に応じてア
ルカリ溶液を滴下しｐＨ５〜７．５、好ましくは６〜７
に中和し溶解する。用いるアルカリは特に限定されない
が、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム等があげられる。得られた水溶液に、前記の如
き中和型の塩基性イオン交換樹脂を加え攪拌（以下、バ
ッチ法）するか、もしくは、該イオン交換樹脂を充填し
たカラムに前記の水溶液を通液する（以下、カラム法）
ことにより高純度の式（Ｉ）の化合物を製造することが
できる。
する生成物を水に溶解または懸濁させ、必要に応じてア
ルカリ溶液を滴下しｐＨ５〜７．５、好ましくは６〜７
に中和し溶解する。用いるアルカリは特に限定されない
が、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム等があげられる。得られた水溶液に、前記の如
き中和型の塩基性イオン交換樹脂を加え攪拌（以下、バ
ッチ法）するか、もしくは、該イオン交換樹脂を充填し
たカラムに前記の水溶液を通液する（以下、カラム法）
ことにより高純度の式（Ｉ）の化合物を製造することが
できる。
使用する樹脂量は、生成物に対しバッチ法の場合で通常
５〜２０倍重量部、カラム法の場合で通常５〜３０倍重
量部、好ましくは１０〜２０倍重量部である。また、バ
ッチ法での処理時間は、通常０．５〜５時間、カラム法
の場合の通液速度は通常Ｓ、Ｖ。
５〜２０倍重量部、カラム法の場合で通常５〜３０倍重
量部、好ましくは１０〜２０倍重量部である。また、バ
ッチ法での処理時間は、通常０．５〜５時間、カラム法
の場合の通液速度は通常Ｓ、Ｖ。
（Ｓｐｅｃｅ ＶｅｌｏｓＩｔｙ） １〜５である。該
カラム法において溶出液に使用される溶媒としては、水
、水とメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ニトリルの如き有機溶媒との混合溶媒等をあげるこ
とができる。上記の処理は一般に０〜１０℃で、好まし
くは５℃前後で行うことが望ましい。
カラム法において溶出液に使用される溶媒としては、水
、水とメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ニトリルの如き有機溶媒との混合溶媒等をあげるこ
とができる。上記の処理は一般に０〜１０℃で、好まし
くは５℃前後で行うことが望ましい。
このようにして得られた高純度の式（Ｉ）の化合物を含
有する溶液は、必要に応じて非イオン性合成吸着樹脂、
例えばダイヤイオン５Ｐ２０７ （以上、三蔓化成工
業株式会社製）、アンバーライトＸＡＤ２ 、アンバー
ライトＸ３口４ （以上、ローム・アンド・ハース社製
）を充填したカラムクロマト又は低阻止率逆浸透膜を用
いて脱塩し、次いで凍結乾燥を行うことにより高純度の
式（１）の化合物を単離することができる。
有する溶液は、必要に応じて非イオン性合成吸着樹脂、
例えばダイヤイオン５Ｐ２０７ （以上、三蔓化成工
業株式会社製）、アンバーライトＸＡＤ２ 、アンバー
ライトＸ３口４ （以上、ローム・アンド・ハース社製
）を充填したカラムクロマト又は低阻止率逆浸透膜を用
いて脱塩し、次いで凍結乾燥を行うことにより高純度の
式（１）の化合物を単離することができる。
このようにして得られた高純度の式（Ｉ）の化合物は、
水に溶解し次いで塩酸、硫酸の如き酸を加え生成する結
晶を濾取することにより高純度の式（１）の化合物の塩
を単離することができる。
水に溶解し次いで塩酸、硫酸の如き酸を加え生成する結
晶を濾取することにより高純度の式（１）の化合物の塩
を単離することができる。
〈発明の効果〉
本発明の製造法により高純度の式（Ｉ）の化合物又はそ
の塩を容易且つ高収率で製造することができる。従って
、本発明の製造法は高純度の式（Ｉ）の化合物又はその
塩の工業的製造法として優れたものである。
の塩を容易且つ高収率で製造することができる。従って
、本発明の製造法は高純度の式（Ｉ）の化合物又はその
塩の工業的製造法として優れたものである。
以下、本発明を更に参考例及び実施例により説明するが
、本発明はこれにより限定されるものではない。
、本発明はこれにより限定されるものではない。
参考例
７β−（２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミ、ノアセタミド］−３−［４−
（オキサゾール−５−イル）−１−ピリジニ第１メチル
−３−セフエム−４−カルボン酸ｐ−メトキシベンジル
エステル塩化物の粉末１２８ｇを蟻酸５０ｍ１に溶解し
、室温にて３時間攪拌した。溶媒を留去し、残漬にエー
テルを加えて固化し、濾取して表題粗生成物１２１ｇを
得た。得られた生成物について高速液体クロマトグラフ
ィーを用い、以下の条件で純度を測定した結果、その純
度は６５．９にであった。
ル）−２−メトキシイミ、ノアセタミド］−３−［４−
（オキサゾール−５−イル）−１−ピリジニ第１メチル
−３−セフエム−４−カルボン酸ｐ−メトキシベンジル
エステル塩化物の粉末１２８ｇを蟻酸５０ｍ１に溶解し
、室温にて３時間攪拌した。溶媒を留去し、残漬にエー
テルを加えて固化し、濾取して表題粗生成物１２１ｇを
得た。得られた生成物について高速液体クロマトグラフ
ィーを用い、以下の条件で純度を測定した結果、その純
度は６５．９にであった。
カラム： ＹＭＣ−ＧＥＬ ００５ Ｓ−５［ＡＭタイ
プ］流動相：０゜０１Ｍ酢酸アンモニア水及びアセトニ
トリルの混液（２３：２） 検出波長＝２５４止 内容標準：カフェイン 流量： １．．３ｍｌ／分 又、生成物中の着色物量を以下の条件により波長４５Ｇ
止の吸光度を測定したところ０．３６７であつた。
プ］流動相：０゜０１Ｍ酢酸アンモニア水及びアセトニ
トリルの混液（２３：２） 検出波長＝２５４止 内容標準：カフェイン 流量： １．．３ｍｌ／分 又、生成物中の着色物量を以下の条件により波長４５Ｇ
止の吸光度を測定したところ０．３６７であつた。
溶媒：０．１Ｍリン酸緩衝液（ｐ）１７）化合物＾の濃
度：０．繋 透過光路長：１０ｍｍ 実施例１ 参考例で得られた化合物への粗生成物２．８ｇに冷水２
０ｍ１を加え、水冷攪拌しながら１Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液を滴下しｐＨ６，８とした。中和液にダイヤイオ
ンＰＡ３０８ （クロル型） １８ｍ１を加え、氷冷
下１時間攪拌した。樹脂を除去し、冷水４０１１で洗浄
後濾液に８Ｎ硫酸を加え、ｐＦｌ １．５とした。 ２
時閘水冷攪拌後生成する結晶を濾取し、化合物Ａの硫酸
塩１．８５ｇ （回収率二８４％）を得た。
度：０．繋 透過光路長：１０ｍｍ 実施例１ 参考例で得られた化合物への粗生成物２．８ｇに冷水２
０ｍ１を加え、水冷攪拌しながら１Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液を滴下しｐＨ６，８とした。中和液にダイヤイオ
ンＰＡ３０８ （クロル型） １８ｍ１を加え、氷冷
下１時間攪拌した。樹脂を除去し、冷水４０１１で洗浄
後濾液に８Ｎ硫酸を加え、ｐＦｌ １．５とした。 ２
時閘水冷攪拌後生成する結晶を濾取し、化合物Ａの硫酸
塩１．８５ｇ （回収率二８４％）を得た。
得られた化合物の純度及び吸光度（波長４５０ｎｍ）を
参考例１と同様に測定した結果、それぞれ９９．０零及
び０．０４０であった。又、このもののＮＭＲ及びＩＲ
スペクトルは標品のそれと一致した。
参考例１と同様に測定した結果、それぞれ９９．０零及
び０．０４０であった。又、このもののＮＭＲ及びＩＲ
スペクトルは標品のそれと一致した。
実施例２
参考例で得られた化合物への粗生成物２，８ｇに冷水２
００１１を加え、水冷攪拌しながらＩＮ水酸化ナトリウ
ム水溶液を滴下しｐＨ８，８とした。不溶物を濾去後、
ダイヤイオンＰＡ４０６ （クロル型）カラム４０ｍ
１にＳ、Ｖ、２で通液し、さらに冷水８０ｍ１で洗浄し
た。
００１１を加え、水冷攪拌しながらＩＮ水酸化ナトリウ
ム水溶液を滴下しｐＨ８，８とした。不溶物を濾去後、
ダイヤイオンＰＡ４０６ （クロル型）カラム４０ｍ
１にＳ、Ｖ、２で通液し、さらに冷水８０ｍ１で洗浄し
た。
溶出液を２０℃以下で約４０ｍ１まで減圧濃縮し８Ｎ硫
酸を加えｐＨ１，５とした。 ２時間水冷攪拌後生酸す
る結晶を濾取し、化合物への硫酸塩１．７５ｇ （回収
率：８ＧＮ）を得た。
酸を加えｐＨ１，５とした。 ２時間水冷攪拌後生酸す
る結晶を濾取し、化合物への硫酸塩１．７５ｇ （回収
率：８ＧＮ）を得た。
得られた化合物の純度及び吸光度（波長４５０ｎａ＋）
を参考例と同様に測定した結果、それぞれ９９゜８零及
び０．０２２であった。又、このもののＮＭＲ及びＩＲ
スペクトルは標品のそれと一致した。
を参考例と同様に測定した結果、それぞれ９９゜８零及
び０．０２２であった。又、このもののＮＭＲ及びＩＲ
スペクトルは標品のそれと一致した。
実施例３
参考例で得られた化合物への粗生成物２．８ｇに冷水２
０ｍ１を加え、水冷攪拌しながらＩＮ水酸化ナトリウム
水溶液を滴下しｐＨ８，８とした。不溶物を濾去後ダイ
ヤイオンＰＡ４０Ｂ （クロル型）カラム４０ｍ１に
Ｓ、Ｖ、２で通渡し、さらに冷水８０ｍ１で洗浄した。
０ｍ１を加え、水冷攪拌しながらＩＮ水酸化ナトリウム
水溶液を滴下しｐＨ８，８とした。不溶物を濾去後ダイ
ヤイオンＰＡ４０Ｂ （クロル型）カラム４０ｍ１に
Ｓ、Ｖ、２で通渡し、さらに冷水８０ｍ１で洗浄した。
溶出液をダイヤイオン５Ｐ−２０７力ラム２０ｍ１ニＳ
、Ｖ、２ テ吸着し、４０ｍ１の冷水で洗浄後２０Ｘア
セトニトリル水溶液８０ｍ１で溶出した。アセトニトリ
ルを留去後凍結乾燥し、化合物Ａ １．４９ｇ （回
収率：８Ｈ）を得た。
、Ｖ、２ テ吸着し、４０ｍ１の冷水で洗浄後２０Ｘア
セトニトリル水溶液８０ｍ１で溶出した。アセトニトリ
ルを留去後凍結乾燥し、化合物Ａ １．４９ｇ （回
収率：８Ｈ）を得た。
得られた化合物の純度及び吸光度（波長４５０ｎｍ）を
参考例と同様に測定した結果、それぞれ９９．１％Ｆ及
び０．０２９であった。又、このもののＮＭＲ及びＩＲ
スペクトルは標品のそれと一致した。
参考例と同様に測定した結果、それぞれ９９．１％Ｆ及
び０．０２９であった。又、このもののＮＭＲ及びＩＲ
スペクトルは標品のそれと一致した。
比較例
参考例で得られた化合物Ａの粗生成物２．８ｇに冷水２
０ｍ１を加え、水冷攪拌しながらＩＮ水酸化ナトリウム
水溶液を滴下しｐＨ６，８とした。中和液をダイヤイオ
ンＨＰ２０カラム４０ｍ１にＳ、Ｖ、１で通渡し吸着し
た＊’？’ａ水８０ｍ水子０ｍ１１眞及び１５零アセト
ニトリル水溶液で順次Ｓ、Ｖ、１で溶出した。化合物Ａ
濃度が０．１零以上の溶出画分を集めアセトニトリルを
留去後、凍結乾燥し、化合物＾ １．４１ｇ （回収率
；７１ｋ）を得た。このものの純度及び吸光度（波長４
５０止）を参考例と同様に測定した結果、それぞれ９３
．１零及び０．１２１であった。
０ｍ１を加え、水冷攪拌しながらＩＮ水酸化ナトリウム
水溶液を滴下しｐＨ６，８とした。中和液をダイヤイオ
ンＨＰ２０カラム４０ｍ１にＳ、Ｖ、１で通渡し吸着し
た＊’？’ａ水８０ｍ水子０ｍ１１眞及び１５零アセト
ニトリル水溶液で順次Ｓ、Ｖ、１で溶出した。化合物Ａ
濃度が０．１零以上の溶出画分を集めアセトニトリルを
留去後、凍結乾燥し、化合物＾ １．４１ｇ （回収率
；７１ｋ）を得た。このものの純度及び吸光度（波長４
５０止）を参考例と同様に測定した結果、それぞれ９３
．１零及び０．１２１であった。
得られた化合物を冷水２０ｍ１に溶解し、次いで８Ｎ硫
酸を加えてｐ）ｌ １．５とした。２時間攪拌後析出す
る結晶を濾取し、化合物Ａの硫酸塩１．５１ｇ （回収
率： ６７ｋ）を得た。このものの純度及び吸光度（波
長４ＳＯｎｍ ）を参考例と同様に測定した結果、それ
ぞれ９６．鯖及び０．０９３であった。
酸を加えてｐ）ｌ １．５とした。２時間攪拌後析出す
る結晶を濾取し、化合物Ａの硫酸塩１．５１ｇ （回収
率： ６７ｋ）を得た。このものの純度及び吸光度（波
長４ＳＯｎｍ ）を参考例と同様に測定した結果、それ
ぞれ９６．鯖及び０．０９３であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物又はその塩を含有する生成物を中和型
の強塩基性イオン交換樹脂で処理することを特徴とする
高純度の式（ I ）の化合物又はその塩の製造法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63328567A JP2948596B2 (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 高純度セファロスポリン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63328567A JP2948596B2 (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 高純度セファロスポリン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02172989A true JPH02172989A (ja) | 1990-07-04 |
| JP2948596B2 JP2948596B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=18211717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63328567A Expired - Fee Related JP2948596B2 (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 高純度セファロスポリン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2948596B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0641797A1 (en) * | 1993-07-30 | 1995-03-08 | KATAYAMA SEIYAKUSYO CO. Ltd. | Cephem derivatives and antimicrobial agents containing the same |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4828617A (ja) * | 1971-08-23 | 1973-04-16 | ||
| JPS617280A (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-13 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | セフアロスポリン誘導体 |
-
1988
- 1988-12-26 JP JP63328567A patent/JP2948596B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4828617A (ja) * | 1971-08-23 | 1973-04-16 | ||
| JPS617280A (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-13 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | セフアロスポリン誘導体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0641797A1 (en) * | 1993-07-30 | 1995-03-08 | KATAYAMA SEIYAKUSYO CO. Ltd. | Cephem derivatives and antimicrobial agents containing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2948596B2 (ja) | 1999-09-13 |
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